本发明专利技术的曝光方法边使基板沿着一定方向移动，边在所述基板上的图案形成区域经由光掩模而使预先设定的图案依次曝光，其中，执行如下步骤：在所述基板上使所述图案曝光，另一方面，使激光束向与基板移动方向交叉的交叉方向的所述图案形成区域外照射，在所述基板面形成一定形状的伤痕而形成对准标记的步骤；检测所述对准标记相对于在所述基板移动方向后方位置预先设定的基准位置的向与基板移动方向交叉的交叉方向的位置偏移的步骤；使所述基板及所述光掩模相对移动来修正所述位置偏移的步骤；在所述图案的后续位置使下一图案曝光的步骤。由此，在大型的素色的基板上使图案高精度且低成本地曝光。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及边使素色的基板沿着一定方向移动边使图案依次曝光的曝光方法及曝光装置，详细而言，涉及在大型的素色的基板上使图案高精度且低成本地曝光的曝光方法及曝光装置。
技术介绍
以往的这种曝光方法在预先形成了作为曝光位置的基准的基准图案的基准基板上使素色的被曝光体重合而将两者一起搬运，同时利用摄像机构从被曝光体的上下任一侧拍摄上述基准图案而检测预先设定在该基准图案上的基准位置，以该基准位置为基准，进行沿着与基板搬运方向正交的正交方向扫描的光束的照射开始或照射停止的控制，从而在素色的被曝光体上依次形成图案(例如，参照专利文献I)。 在先技术文献专利文献专利文献I :日本特开2005-316167号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题然而，在这种以往的曝光方法中，需要准备预先形成有基准图案的基准基板，形成该基准基板比较麻烦，曝光工序的成本可能会升闻。另外，在被曝光体为大型的情况下，对应于该大型的被曝光体而基准基板也大型化，结果是为了在大型的素色的基板上形成基准图案而需要大型的掩模和大型的曝光装置，基准基板可能造价变闻。因此，本专利技术应对这种问题点，目的在于提供一种在大型的素色的基板上使图案高精度且低成本地曝光的曝光方法及曝光装置。用于解决课题的手段为了实现上述目的，本专利技术的曝光方法边使基板沿着一定方向移动，边在所述基板上的图案形成区域经由光掩模而使预先设定的图案依次曝光，其中，执行如下步骤在所述基板上使所述图案曝光，另一方面，使激光束向与基板移动方向交叉的交叉方向的所述图案形成区域外照射，在所述基板面形成一定形状的伤痕而形成对准标记的步骤；检测所述对准标记相对于在所述基板移动方向后方位置预先设定的基准位置的向与基板移动方向交叉的交叉方向的位置偏移的步骤；使所述基板及所述光掩模相对移动来修正所述位置偏移的步骤；在先曝光的所述图案的后续位置使下一图案曝光的步骤。根据这种结构，边使基板沿着一定方向移动，边经由光掩模在基板上的图案形成区域使图案曝光，另一方面，使激光束向与基板移动方向交叉的交叉方向的所述图案形成区域外照射，在基板面形成一定形状的伤痕而形成对准标记，检测对准标记相对于在基板移动方向后方位置预先设定的基准位置的向与基板移动方向交叉的交叉方向的位置偏移，使基板及光掩模相对移动来修正该位置偏移，在先曝光的上述图案的后续位置使下一图案曝光。另外，所述光掩模在与所述基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外形成有开口窗，该开口窗使所述激光束通过而在所述基板上形成所述对准标记，在该开口窗的所述基板移动方向后方位置形成有用于检测所述对准标记的对准用窗。由此，通过在光掩模的与基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外形成的开口窗，将激光束照射到基板上而形成对准标记，并通过在上述开 口窗的基板移动方向后方位置形成的对准用窗来检测对准标记。而且，所述光掩模在与所述基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外且在曝光用激光束的照射区域内形成有开口窗，在该开口窗具备聚光透镜，在利用所述曝光用激光束进行曝光的同时，使该激光束通过所述光掩模的聚光透镜向所述基板照射而形成所述对准标记。由此，在与基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外且在曝光用激光束的照射区域内形成光掩模的开口窗，通过在该开口窗设置的聚光透镜而使曝光用激光束会聚到基板上，从而形成对准标记。此外，所述光掩模是在与所述基板移动方向交叉的交叉方向上将多个单位掩模以彼此交错的方式排列而成的结构，在所述对准标记的位置偏移修正步骤中，检测形成在所述各单位掩模的相邻端部上的掩模间对准标记，以使各单位掩模的排列间距成为一定值的方式进行各单位掩模的位置调整。由此，检测形成在沿着与基板移动方向交叉的交叉方向彼此交错排列的多个单位掩模的相邻端部上的掩模间对准标记，以各单位掩模的排列间距成为一定值的方式边调整各单位掩模的位置边进行曝光。另外，本专利技术的曝光装置边使基板沿着一定方向移动，边在所述基板上的图案形成区域经由光掩模而使预先设定的图案依次曝光，其具备在所述基板上经由光掩模照射光源光而进行曝光的曝光用光源；向所述基板照射激光束，在与基板移动方向交叉的交叉方向的所述图案形成区域外的基板面上形成一定形状的伤痕而形成对准标记的激光光源；检测所述对准标记相对于在所述基板移动方向后方位置预先设定的基准位置的向与基板移动方向交叉的交叉方向的位置偏移，使所述基板及所述光掩模相对移动来修正该位置偏移，从而修正曝光的位置偏移的对准机构。根据这种结构，边使基板沿着一定方向移动，边从曝光用光源经由光掩模将光源光照射到该基板上而在上述基板上的图案形成区域使图案曝光，另一方面，从激光光源向基板照射激光束而在与基板移动方向交叉的交叉方向的上述图案形成区域外的基板面上形成一定形状的伤痕而形成对准标记，通过对准机构检测上述对准标记相对于在基板移动方向后方位置预先设定的基准位置的向与基板移动方向交叉的交叉方向的位置偏移，使基板及光掩模相对移动来修正该位置偏移，从而修正曝光的位置偏移，在先曝光的上述图案的后续位置使下一图案曝光。另外，所述光掩模在与所述基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外形成有开口窗，该开口窗使所述激光束通过而在所述基板上形成所述对准标记，在该开口窗的所述基板移动方向后方位置形成有用于检测所述对准标记的对准用窗。由此，通过在光掩模的与基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外形成的开口窗，将激光束照射到基板上而形成对准标记，并通过在上述开口窗的基板移动方向后方位置形成的对准用窗来检测对准标记。而且，所述光掩模在与所述基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外且在曝光用激光束的照射区域内形成有开口窗，在该开口窗具备聚光透镜，所述曝光用光源和激光光源是发射相同波长的激光束的一个脉冲激光光源，在利用从所述脉冲激光光源发射的激光束进行曝光的同时，使该激光束通过所述光掩模的聚光透镜向所述基板照射而形成所述对准标记。由此，在与基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外且在曝光用激光束的照射区域内形成光掩模的开口窗，通过在该开口窗设置的聚光透镜而使曝光用激光束会聚到基板上，从而形成对准标记。并且，所述光掩模是在与所述基板移动方向交叉的交叉方向上将多个单位掩模以彼此交错的方式排列而成的结构，所述曝光装置还具备单位掩模对准机构，该单位掩模对准机构检测形成在所述各单位掩模的相邻端部上的掩模间对准标记，以使各单位掩模的排列间距成为一定值的方式进行各单位掩模的位置调整。由此，通过单位掩模对准机构检测形成在沿着与基板移动方向交叉的交叉方向彼此交错排列的多个单位掩模的相邻端部上的掩模间对准标记，以各单位掩模的排列间距成为一定值的方式调整各单位掩模的位置。·专利技术效果根据本专利技术第一或第五方面，经由光掩模进行曝光，另一方面，以形成在与基板移动方向交叉的交叉方向的图案形成区域外的对准标记为基准，进行曝光位置的调整并执行下一曝光，因此即使基板为素色也能够位置精度良好地依次连接曝光图案。而且，无需准备现有技术那样的预先形成有基准图案的基准基板，因此即使为大型的素色的基板也能够高精度且低成本地使图案曝光。另外，根据本专利技术第二或第六方面，能够更高精度地进行前一个曝光的曝光图案与光掩模的掩模图案的位置对合，从而能够进一步提高各曝光图案的连本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.04.08 JP 2010-0896081.一种曝光方法，边使基板沿着一定方向移动，边在所述基板上的图案形成区域经由光掩模而使预先设定的图案依次曝光， 所述曝光方法的特征在于， 执行如下步骤 在所述基板上使所述图案曝光，另一方面，使激光束向与基板移动方向交叉的交叉方向的所述图案形成区域外照射，在所述基板面形成一定形状的伤痕而形成对准标记的步骤； 检测所述对准标记相对于在所述基板移动方向后方位置预先设定的基准位置的向与基板移动方向交叉的交叉方向的位置偏移的步骤； 使所述基板及所述光掩模相对移动来修正所述位置偏移的步骤； 在先曝光的所述图案的后续位置使下一图案曝光的步骤。2.根据权利要求I所述的曝光方法，其特征在于， 所述光掩模在与所述基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外形成有开口窗，该开口窗使所述激光束通过而在所述基板上形成所述对准标记，在该开口窗的所述基板移动方向后方位置形成有用于检测所述对准标记的对准用窗。3.根据权利要求I所述的曝光方法，其特征在于， 所述光掩模在与所述基板移动方向交叉的交叉方向的掩模图案区域外且在曝光用激光束的照射区域内形成有开口窗，在该开口窗具备聚光透镜， 在利用所述曝光用激光束进行曝光的同时，使该激光束通过所述光掩模的聚光透镜向所述基板照射而形成所述对准标记。4.根据权利要求I 3中任一项所述的曝光方法，其特征在于， 所述光掩模是在与所述基板移动方向交叉的交叉方向上将多个单位掩模以彼此交错的方式排列而成的结构， 在所述对准标记的位置偏移修正步骤中，检测形成在所述各单位掩模的相邻端部上的掩模间对准标记，以使各单位掩模的排列间距成为一定值的方式进行各单位掩模的位置调...
【专利技术属性】
技术研发人员：梶山康一，水村通伸，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：
国别省市：
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