基板输送机构、偏振膜的贴合装置以及具有该偏振膜的贴合装置的液晶显示装置的制造系统制造方法及图纸

一种基板输送机构、偏振膜的贴合装置以及具有该偏振膜的贴合装置的液晶显示装置的制造系统，在具有第1基板输送机构和第2基板输送机构的基板输送机构、偏振膜的贴合装置中，基板支撑装置的驱动控制单元作用于基板支撑构件（66），使得所述基板支撑构件为基板支撑状态，由第1基板输送机构（61）输送来的基板（5）被支撑，基板翻转部（67）绕着相对于基板（5）的输送方向倾斜配置的翻转轴翻转，将被翻转了的基板（5）配置为沿着第2基板输送机构（62）的输送方向。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种基板输送机构以及偏振膜的贴合装置中的具有输送单元的基板支撑装置、偏振膜的贴合装置以及具有该偏振膜的贴合装置的液晶显示装置的制造系统。
技术介绍
向来，液晶显示装置被广泛地制造。为了控制光的透过或者截断，通常在液晶显示装置所使用的基板(液晶面板)上贴合有偏振膜。偏振膜被贴合成其吸收轴相互正交。·作为在基板上贴合偏振膜的方法，举例有在将偏振膜切割为与基板对应的尺寸之后再将其贴合于基板上的所谓的chip to panel方式。但是，这样的方式是将偏振膜一片片地贴合于基板上，因此具有生产效率低这样的缺点。另一个方面，作为其他的方式，还举例有将偏振膜提供给传送辊并连续地将偏振膜贴合在基板上的所谓的roll to panel方式。采用该方法，能够以较高的生产效率来进行贴合。作为roll to panel方式的实例，在专利文献I中公开了光学显示装置的制造系统。所述制造系统是在基板的上表面贴合了光学膜(偏振膜)之后使基板旋转，从下方贴合偏振膜。现有技术文献专利文献专利文献I :日本专利第4307510号公报(2009年8月5日发行)
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，所述现有的装置具有以下的问题。首先，在将偏振膜贴合于基板的情况下，为了避免灰尘等异物混入贴合面，通常在无尘室中进行操作。并且，采用无尘室的话，要进行空气的整流。这是因为，为了抑制异物所导致的成品率的下降，需要在以向下游动实施了整流的状态下相对于基板进行偏振膜的贴合。关于这一点，专利文献I的制造系统构成为，相对于基板从上方以及下方贴合偏振膜。但是，在从上方进行偏振膜的贴合的情况下，存在例如气流(向下游动)受到偏振膜的妨碍，对基板的整流环境恶化这样的缺点。作为从上方进行偏振膜的贴合的情况的实例，图22的(a)以及图22的(b)中示出上贴型的制造系统的气流的速度矢量。图22中的区域A是设置有对偏振膜放卷的放卷部等的区域，区域B主要是偏振膜通过的区域，以及区域C是设置有将从偏振膜去除的剥离膜卷取的卷取部等的区域。又，从HEPA (高效微粒空气)过滤器40提供清洁的空气。另外，在图22的(a)中，由于设置有清洁的空气能够通过的栅格41，气流能够通过栅格41向垂直方向移动。另一方面，在图22的(b)中，由于没有设置栅格41，所以气流在与图22的(b)最下部的底板接触之后，沿着底板移动。在图22的(a)、图22的(b)中，区域A C被配置在2F (2层)部分，来自HEPA过滤器40的清洁的空气会受到偏振膜的妨碍。因此，难以生成通过2F部分的向着基板的垂直方向的气流。相对于此，水平方向的气 流矢量变为大的(矢量的密度为浓)状态。即，可以说是整流环境恶化了的状态。本专利技术正是鉴于所述现有的问题点而作出的，其目的在于，提供一种不会妨碍整流环境的偏振膜的贴合装置以及具有该贴合装置的液晶显示装置的制造系统。解决课题的手段技术方案I所记载的本专利技术(第I专利技术)的基板输送机构具有以长方形的基板的长边或者短边沿着输送方向的状态输送基板的第I基板输送机构、和以所述基板的短边或者长边沿着输送方向的状态输送所述基板的第2基板输送机构，在所述基板输送机构中包括基板支撑装置，所述基板支撑装置具有基板支撑构件，其用于支撑所述第I基板输送机构所输送的所述基板；和驱动控制单元，其作用于所述基板支撑构件，使得所述基板支撑构件为基板支撑状态；和翻转机构，所述翻转机构配置于输送方向相互偏移地平行的所述第I基板输送机构以及所述第2基板输送机构之间，具有至少一个基板翻转部，所述基板翻转部与所述基板支撑构件连接，且绕相对于所述第I基板输送机构和所述第2基板输送机构的输送方向倾斜配置的翻转轴翻转。技术方案2所记载的本专利技术(第2专利技术)的偏振膜的贴合装置，包括第I基板输送机构，所述第I基板输送机构以长方形的基板的长边或者短边沿着输送方向的状态输送基板；第I贴合部，所述第I贴合部将第I偏振膜贴合在位于所述第I基板输送机构上的所述基板的下表面；第2基板输送机构，所述第2基板输送机构以所述基板的短边或者长边沿着输送方向的状态输送所述基板；和第2贴合部，所述第2贴合部将第2偏振膜贴合在位于所述第2基板输送机构上的所述基板的下表面，所述偏振膜的贴合装置中包括基板支撑装置，所述基板支撑装置具有基板支撑构件，其用于支撑所述基板输送机构所输送的贴合有第I偏振膜的所述基板；和驱动控制单元，其作用于所述基板支撑构件，使得所述基板支撑构件为基板支撑状态；翻转机构，所述翻转机构配置于输送方向相互偏移地平行的所述第I基板输送机构以及所述第2基板输送机构之间，具有至少一个基板翻转部，所述基板翻转部与所述基板支撑构件连接，且绕相对于所述第I基板输送机构和所述第2基板输送机构的输送方向倾斜配置的翻转轴翻转。技术方案3所记载的本专利技术(第3专利技术)的偏振膜的贴合装置为，在第I专利技术或者第2专利技术中，所述翻转轴相对于所述第I基板输送机构以及所述第2基板输送机构的输送方向以40度至50度的范围内的角度倾斜配置。技术方案4所记载的本专利技术(第4专利技术)的偏振膜的贴合装置为，在第I专利技术或者第2专利技术中，所述翻转轴相对于所述第I基板输送机构以及所述第2基板输送机构的输送方向以45度±2度的范围内的角度倾斜配置。技术方案5所记载的本专利技术(第5专利技术)的偏振膜的贴合装置为，在第I专利技术至第4专利技术的任一项中，所述基板支撑构件由至少两个支撑构件构成，所述基板支撑构件构成为，通过基于所述驱动控制单元的驱动控制的至少一个支撑构件的相对移动，在至少两个支撑构件之间以夹住贴合有第I偏振膜的所述基板的状态来对所述基板进行支撑。技术方案6所记载的本专利技术(第6专利技术)的偏振膜的贴合装置为，在第5专利技术中，所述基板支撑装置被配设为隔着间隙地与所述第I基板输送机构的下游端部以及所述第2基板输送机构的上游端部相对，并具有第I输送单元和第2输送单元，所述第I输送单元输送从所述第I基板输送机构的下游端输送来的贴合有第I偏振膜的所述基板，所述第2输送单元将被翻转了的贴合有所述第I偏振膜的所述基板从所述基板支撑装置输送到所述第2基板输送机构的上游端部。技术方案7所记载的本专利技术(第7专利技术)的偏振膜的贴合装置为，在第5专利技术中，所述基板支撑装置的所述至少两个支撑构件由具有多个突出部的梳状构件构成，所述多个突出部进入被形成在所述第I基板输送机构的下游端部的在宽度方向上被分割为多个的多个分割部以及所述第2基板输送机构的上游端部的在输送方向上被分割为多个的多个分割部之间的多个间隙中。技术方案8所记载的本专利技术(第8专利技术)的偏振膜的贴合装置为，在第I专利技术至第4专利技术的任一项中，所述基板支撑构件由一个支撑构件构成，所述基板支撑构件构成为，以附着被输送至所述第I基板输送机构的下游端部的贴合有所述第I偏振膜的所述基板的表面的状态进行支撑，翻转后被翻转了的贴合有所述第I偏振膜的所述基板从上方载置到所述第2基板输送机构的上游端部。技术方案9所记载的本专利技术(第9专利技术)的偏振膜的贴合装置为，在第6专利技术中，在所述基板支撑装置内输送贴合有所述第I偏振膜的所述基板的第I以及第2输送单兀，由沿着所述第I基板输送机构以及所述第2基板输送机 构的输送方向输送基板的第I以及第2输送辊构成。技术方案10所记载的本专利技术(第10专利技术)的偏振膜的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.03.30 JP 2010-079455;2010.04.23 JP 2010-099851.一种基板输送机构，其具有 以长方形的基板的长边或者短边沿着输送方向的状态输送基板的第I基板输送机构；和 以所述基板的短边或者长边沿着输送方向的状态输送所述基板的第2基板输送机构， 所述基板输送机构的特征在于，包括 基板支撑装置，所述基板支撑装置具有基板支撑构件和驱动控制单元，所述基板支撑构件用于支撑所述第I基板输送机构输送来的所述基板，所述驱动控制单元作用于所述基板支撑构件，使得所述基板支撑构件为基板支撑状态；以及 翻转机构，所述翻转机构配置于输送方向相互偏移地平行的所述第I基板输送机构以及所述第2基板输送机构之间，具有至少一个基板翻转部，所述基板翻转部与所述基板支撑构件连接，且绕相对于所述第I基板输送机构和所述第2基板输送机构的输送方向倾斜配置的翻转轴翻转。2.一种偏振膜的贴合装置，其包括 第I基板输送机构，所述第I基板输送机构以长方形的基板的长边或者短边沿着输送方向的状态输送基板； 第I贴合部，所述第I贴合部将第I偏振膜贴合在位于所述第I基板输送机构上的所述基板的下表面； 第2基板输送机构，所述第2基板输送机构以所述基板的短边或者长边沿着输送方向的状态输送所述基板；和 第2贴合部，所述第2贴合部将第2偏振膜贴合在位于所述第2基板输送机构上的所述基板的下表面， 所述偏振膜的贴合装置的特征在于，包括 基板支撑装置，所述基板支撑装置具有基板支撑构件和驱动控制单元，所述基板支撑构件用于支撑所述第I基板输送机构输送来的贴合有第I偏振膜的所述基板，所述驱动控制单元作用于所述基板支撑构件，使得所述基板支撑构件为基板支撑状态；以及 翻转机构，所述翻转机构配置于输送方向相互偏移地平行的所述第I基板输送机构以及所述第2基板输送机构之间，具有至少一个基板翻转部，所述基板翻转部与所述基板支撑构件连接，且绕相对于所述第I基板输送机构和所述第2基板输送机构的输送方向倾斜配置的翻转轴翻转。3.如权利要求I或2所述的偏振膜的贴合装置，其特征在于， 所述翻转轴相对于所述第I基板输送机构以及所述第2基板输送机构的输送方向以40度至50度的范围内的角度倾斜配置。4.如权利要求I或2所述的偏振膜的贴合装置，其特征在于， 所述翻转轴相对于所述第I基板输送机构以及所述第2基板输送机构的输送方向以45度±2度的范围内的角度倾斜配置。5.如权利要求I 4中任一项所述的偏振膜的贴合装置，其特征在于， 所述基板支撑构件由至少两个支撑构件构成， 所述基板支撑构件构成为，通过基于所述驱动控制单元的驱动控制的至少一个支撑构件的相对移动，以在至少两个支撑构件之间夹住贴合有第I偏振膜的所述基板的状态来对所述基板进行支撑。6.如权利要求5所述的偏振膜的贴合装置，其特征在于， 所述基板支撑装置被配设为隔着间隙地与所述第I基板输送机构的下游端部以及所述第2基板输送机构的上游端部相对，并具有第I输送单元和第2输送单元，所述第I输送单元输送从所述第I基板输送机构的下游端部输送来的贴合有第I偏振膜的所述基板，所述第2输送单元将被翻转了的贴合有所述第I偏振膜的所述基板从所述基板支撑装置输送到所述第2基板输送机构的上游端部。7.如权利要求5所述的偏振膜的贴合装置，其特征在于， 所述基板支撑装置的所述至少两个支撑构件由具有多个突出部的梳状构件构成，所述多个突出部进入被形成在所述第I基板输送机构的下游端部的在宽度方向上被分割为多个的多个分割部以及所述第2基板输送机构的上游端部的在输送方向上被分割为多个的多个分割部之间的多个间隙中。8.如权利要求I 4中任一项所述的偏振膜的贴合装置，其特征在于， 所述基板支撑构件由一个支撑构件构成， 所述基板支撑构件构成为，以附着被输送至所述第I基板输送机构的下游端部的贴合有所述第I偏振膜的所述基板的表面的状态进行支撑，翻转后被翻转了的贴合有所述第I偏振膜的所述基板从上方载置到所述第2基板输送机构的上游端部。9.如权利要求6所述的偏振膜的贴合装置，其特征在于， 在所述基板支撑装置内输送贴合有所述第I偏振膜的所述基板的第I以及第2输送单兀由沿着所述第I基板输送机构以及所述第2基板输送机构的输送方向输送基板的第I以及第2输送辊构成。10.如权利要求9所述的偏振膜的贴合装置，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：松本力也，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：
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