光学位移传感器的调整方法及光学位移传感器的制造方法技术

在具有规定的光学系统的光学位移传感器（10）中，调整规定的光学系统使得满足交线条件。规定的光学系统具有：投光模块（9），其用于将光照射至测定对象物（16）；受光元件（13），其用于接收来自投光模块（9）的光被测定对象物（16）反射的反射光；受光透镜（14），其位于测定对象物（16）和受光元件（13）之间，用于将反射光成像在受光元件（13）上。在调整方法中，仅使受光透镜（14）在受光透镜（14）的光轴方向（Z1方向）以及与受光透镜（14）的光轴方向垂直的方向（X1方向）上移动，由此进行调整。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种光学位移传感器的调整方法以及光学位移传感器的制造方法，尤其是涉及一种基于三角测量原理来对测定对象物的位移进行测定的光学位移传感器的调整方法以及制造方法。
技术介绍
例如，在JP特开2008-145160号公报(专利文献I)中公开了一种现有的光学位移传感器。图9是示出了专利文献I所公开的现有的光学位移传感器100的图。如图9所不，光学位移传感器100具有投光模块101,其包括激光二极管IOla以及投光透镜IOlb,该激光二极管IOla用于将光照射至测定对象物106，该投光透镜IOlb用于对来自激光二极管IOla的光进行会聚；CCD103，其受光面103a接收特定反射光，该特定反射光是指，来自投光模块101的光被测定对象物106反射的反射光；受光透镜104,其用于使反射光成像在 CCD103的受光面103a上。在光学位移传感器100中，激光二极管IOla将光照射至测定对象物106，所照射的光被测定对象物106反射，经过受光透镜的该反射光被CCD103的受光面103a接收，由此能够基于接收到的该反射光的像的位置，来测定出测定对象物106的位移。现有技术文献专利文献专利文本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.09.30 JP 2010-2222381.一种光学位移传感器的调整方法，该光学位移传感器具有规定的光学系统，其特征在于， 上述规定的光学系统具有 投光模块，其用于将光照射至测定对象物， 受光元件，其用于接收来自上述投光模块的光被上述测定对象物反射的反射光， 受光透镜，其位于上述测定对象物和上述受光元件之间，用于将上述反射光成像在上述受光元件上； 在上述调整方法中，仅使上述受光透镜在上述受光透镜的光轴方向以及与上述受光透镜的光轴方向垂直的方向上移动，由此进行调整。2.如权利要求I所述的光学位移传感器的调整方法，其特征在于，在上述调整方法中，将上述规定的光学系统调整为满足交线条件。3.如权利要求I或2所述的光学位移传感器的调整方法，其特征在于， 将上述投光模块、上述受光元件以及上述受光透镜配置在基准面上，该基准面是用于构成上述光学位移传感器的壳体的面， 在上述调整方法中，使上述受光透镜以在上述基准面上滑动的方式移动，由此进行调整。4.如权利要求3所述的光学位移传感器的调整方法，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：山川健太，一柳星文，
申请(专利权)人：欧姆龙株式会社，
类型：
国别省市：