光学位移传感器的调整方法及光学位移传感器的制造方法技术

在具有规定的光学系统的光学位移传感器（10）中，调整规定的光学系统使得满足交线条件。规定的光学系统具有：投光模块（9），其用于将光照射至测定对象物（16）；受光元件（13），其用于接收来自投光模块（9）的光被测定对象物（16）反射的反射光；受光透镜（14），其位于测定对象物（16）和受光元件（13）之间，用于将反射光成像在受光元件（13）上。在调整方法中，仅使受光透镜（14）在受光透镜（14）的光轴方向（Z1方向）以及与受光透镜（14）的光轴方向垂直的方向（X1方向）上移动，由此进行调整。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种光学位移传感器的调整方法以及光学位移传感器的制造方法，尤其是涉及一种基于三角测量原理来对测定对象物的位移进行测定的光学位移传感器的调整方法以及制造方法。
技术介绍
例如，在JP特开2008-145160号公报(专利文献I)中公开了一种现有的光学位移传感器。图9是示出了专利文献I所公开的现有的光学位移传感器100的图。如图9所不，光学位移传感器100具有投光模块101,其包括激光二极管IOla以及投光透镜IOlb,该激光二极管IOla用于将光照射至测定对象物106，该投光透镜IOlb用于对来自激光二极管IOla的光进行会聚；CCD103，其受光面103a接收特定反射光，该特定反射光是指，来自投光模块101的光被测定对象物106反射的反射光；受光透镜104,其用于使反射光成像在 CCD103的受光面103a上。在光学位移传感器100中，激光二极管IOla将光照射至测定对象物106，所照射的光被测定对象物106反射，经过受光透镜的该反射光被CCD103的受光面103a接收，由此能够基于接收到的该反射光的像的位置，来测定出测定对象物106的位移。现有技术文献专利文献专利文献I JP特开2008-145160号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题这里，将投光模块101、(XD103以及受光透镜104调整配置为满足交线条件(Scheimpflug condition :向甫鲁条件)。具体地讲，C03103的受光面103a具有规定的宽度W2，而且在受光面103a能够接收反射光的范围内的测定对象物106的反射位置，在投光模块101的光轴即投光轴L1上具有规定的宽度I。而且，调整配置成满足交线条件，即，规定的宽度W1的反射位置、受光面103a、受光透镜104的主面104a各自的延长线相交于一点D。由此，不管被规定的宽度W1内的哪一位置反射的反射光，成像时在受光面103a上都能够实现对焦。此外，这里，为了便于说明，将受光透镜104视为薄透镜。这里，在专利文献I中进行调整时，使受光透镜104如图9中的箭头A所示那样在受光透镜104的光轴即受光轴L2方向上移动，并使(XD103如图9中的箭头B及箭头C所示那样滑动及旋转。即，对受光透镜104以及(XD103这2个部件进行调整。然而，就这样的调整方法而言，例如在先调整受光透镜104后再调整(XD103的情况下，若CCD103上发生了调整误差，则可能会发生必须再次对受光透镜104进行调整的情况等，使得调整工作变得繁杂。这样，也可能会使调整的工时变长。另外，各自都需要设置调整用机构，这可能会使光学位移传感器100自身变大，以及会使用于制造光学位移传感器100的制造装置变大。本专利技术的第一目的在于，提供一种能够容易地对光学位移传感器的光学系统进行调整的光学位移传感器的调整方法。另外，本专利技术的第二目的在于，提供一种能够容易地对光学位移传感器的光学系统进行调整的光学位移传感器的制造方法。用于解决课题的手段本专利技术的第一观点的光学位移传感器的调整方法，涉及一种具有规定的光学系统的光学位移传感器的调整方法。规定的光学系统具有投光模块，其用于将光照射至测定对象物；受光元件，其用于接收来自投光模块的光被测定对象物反射的反射光；受光透镜，其位于测定对象物和受光元件之间，用于将反射光成像在受光元件上。而且，在调整方法中，仅使受光透镜在受光透镜的光轴方向以及与受光透镜的光轴方向垂直的方向上移动，由此进行调整。 由此，通过仅使受光透镜移动，能够对规定的光学系统进行调整。即，仅对I个部件进行调整即可。这样，不仅能够抑制调整工时变长，而且能够实现光学位移传感器自身的小型化以及用于制造光学位移传感器的制造装置的小型化。其结果，能够容易地进行调整。在作为一实施方式的调整方法中，将规定的光学系统调整为满足交线条件。由此，通过仅使受光透镜移动，就能够调整规定的光学系统使得满足交线条件。优选地，将投光模块、受光元件以及受光透镜配置在基准面上，该基准面是用于构成光学位移传感器的壳体的面，在调整方法中，使受光透镜以在基准面上滑动的方式移动，由此进行调整。由此，无需另外设置调整用机构，也能够通过简单的方法来进行调整。更优选地，投光模块具有用于发出光的光源和用于将来自光源的光调整为规定的形状的投光透镜，在调整方法中，使投光透镜在投光透镜的光轴方向、与投光透镜的光轴方向垂直且与基准面平行的方向以及与投光透镜的光轴方向垂直且与基准面垂直的方向上移动，由此进行调整。由此，例如在因用于构成投光模块的部件的形状参差不齐等而部件倾斜配置在基准面上，从而无法满足交线条件的状态下，能够调整投光模块的光轴的倾斜程度。本专利技术的第二观点的光学位移传感器的制造方法，涉及一种光学位移传感器的制造方法，该光学位移传感器具有投光模块，其用于将光照射至测定对象物；受光元件，其用于接收来自投光模块的光被测定对象物反射的反射光；受光透镜，其位于测定对象物和受光元件之间，用于将反射光成像在受光元件上。制造方法包括第一安装工序，将投光模块和受光元件固定在基准面上，该基准面是用于构成光学位移传感器的壳体的面；受光透镜移动工序，将基准面作为基准，在受光透镜的光轴方向以及与受光透镜的光轴方向垂直的方向上移动受光透镜；第二安装工序，将受光透镜固定在基准面上的特定位置上，该特定位置是指，在受光透镜移动工序中移动后的受光透镜的位置。由此，在光学位移传感器的制造中，通过仅使受光透镜移动，就能够对规定的光学系统进行调整。即，仅对I个部件进行调整即可。这样，不仅能够抑制调整工时变长，而且能够实现光学位移传感器自身的小型化以及用于制造光学位移传感器的制造装置的小型化。其结果，能够容易地进行调整。专利技术效果在本专利技术的光学位移传感器的调整方法中，通过仅使受光透镜移动，就能够对规定的光学系统进行调整。即，仅对I个部件进行调整即可。这样，不仅能够抑制调整工时变长，而且能够实现光学位移传感器自身的小型化以及用于制造光学位移传感器的制造装置的小型化。其结果，能够容易地进行调整。另外，在本专利技术的光学位移传感器的制造方法中，通过仅使受光透镜移动，就能够对规定的光学系统进行调整。即，仅对I个部件进行调整即可。这样，不仅能够抑制调整工时变长，而且能够实现光学位移传感器自身的小型化以及用于构成光学位移传感器的制造装置的小型化。其结果，能够容易地进行调整。附图说明图I是示出了光学位移传感器的外观的立体图。 图2是在拿掉了图I所示的光学位移传感器的盖并沿着箭头II的方向观察时的俯视图。图3是示出了投光透镜的立体图。图4是示出了受光透镜的立体图。图5是示出了光学位移传感器的示意图。图6是示出了在图5所示的示意图中不满足交线条件的情形的图。图7是示出了在图6所示的示意图中调整受光透镜的位置使得满足交线条件的步骤的图。图8是示出了在图6所示的示意图中调整投光透镜的位置使得满足交线条件的步骤的图。图9是示出了专利文献I所公开的现有的光学位移传感器的图。其中，附图标记说明如下9投光模块10光学位移传感器11 光源12投光透镜13受光元件13a受光面14受光透镜14a 主面15透镜架15a 15d 立柱16测定对象物16a反射位置30 壳体31 底面32 侧壁32a、32b 开口部33 盖。具体实施本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.09.30 JP 2010-2222381.一种光学位移传感器的调整方法，该光学位移传感器具有规定的光学系统，其特征在于， 上述规定的光学系统具有 投光模块，其用于将光照射至测定对象物， 受光元件，其用于接收来自上述投光模块的光被上述测定对象物反射的反射光， 受光透镜，其位于上述测定对象物和上述受光元件之间，用于将上述反射光成像在上述受光元件上； 在上述调整方法中，仅使上述受光透镜在上述受光透镜的光轴方向以及与上述受光透镜的光轴方向垂直的方向上移动，由此进行调整。2.如权利要求I所述的光学位移传感器的调整方法，其特征在于，在上述调整方法中，将上述规定的光学系统调整为满足交线条件。3.如权利要求I或2所述的光学位移传感器的调整方法，其特征在于， 将上述投光模块、上述受光元件以及上述受光透镜配置在基准面上，该基准面是用于构成上述光学位移传感器的壳体的面， 在上述调整方法中，使上述受光透镜以在上述基准面上滑动的方式移动，由此进行调整。4.如权利要求3所述的光学位移传感器的调整方法，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：山川健太，一柳星文，
申请(专利权)人：欧姆龙株式会社，
类型：
国别省市：