用于光配向工艺的曝光设备和制造液晶显示器的方法技术

技术编号:8105183 阅读:582 留言:0更新日期:2012-12-21 03:10
本发明专利技术提供用于光配向工艺的曝光设备和制造液晶显示器的方法。一种用于光配向工艺的曝光设备包括:第一光掩模,包括多个透射部分;及第二光掩模,包括多个透射部分,其中第一光掩模和第二光掩模彼此部分重叠,使得第一光掩模和第二光掩模的每个包括重叠区域和非重叠区域,第一光掩模的重叠区域和第二光掩模的重叠区域的至少之一包括至少两个子区域,且透射部分的形状或布置在至少两个子区域中彼此不同。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的示例性实施例涉及用于光配向(photoalignment)エ艺的曝光设备和制造液晶显示器的方法。
技术介绍
液晶显示器是最广泛应用的平板显示器类型之一,通常包括上和下显示面板以及置于其间的液晶层,上和下显示面板上设置有场产生电极诸如像素电极和公共电极。液晶显示器通过施加电压到场产生电极而在液晶层中产生电场并通过所产生的电场决定液晶层的液晶分子的方向,由此控制入射光的偏振来显示图像。在各种液晶显示器中,垂直配向(“VA”)模式液晶显示器(其中当不产生电场时液 晶分子的纵轴相对于上和下显示面板垂直配向)由于大的对比度和宽的标准视角已得到广泛研究。VA模式液晶显示器在单元像素中可形成多个域(domain),其中液晶的排列方向彼此不同,从而实现宽视角。如上所述,已经开发了光配向エ艺,用于通过向包括光反应材料的配向层照射诸如紫外线的光来控制液晶分子的排列方向和排列角度,从而在单元像素中形成多个域。
技术实现思路
本专利技术的示例性实施例提供在液晶显示器的光配向エ艺中使用至少两个光掩模的曝光设备以及用于使用该曝光设备制造液晶显示器的方法。本专利技术的示例性实施例提供一种用于光配向エ艺的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光设备,用于光配向工艺,所述曝光设备包括:第一光掩模,包括多个透射部分;及第二光掩模,包括多个透射部分,其中所述第一光掩模和所述第二光掩模彼此部分重叠,使得所述第一光掩模和所述第二光掩模的每个包括重叠区域和非重叠区域,所述第一光掩模的所述重叠区域和所述第二光掩模的所述重叠区域的至少之一包括至少两个子区域,且所述透射部分的形状或布置在所述至少两个子区域中彼此不同。

【技术特征摘要】
2011.06.03 KR 10-2011-00539711.ー种曝光设备,用于光配向エ艺,所述曝光设备包括第一光掩模,包括多个透射部分;及第二光掩模,包括多个透射部分,其中所述第一光掩模和所述第二光掩模彼此部分重叠,使得所述第一光掩模和所述第ニ光掩模的每个包括重叠区域和非重叠区域,所述第一光掩模的所述重叠区域和所述第二光掩模的所述重叠区域的至少之ー包括至少两个子区域,且所述透射部分的形状或布置在所述至少两个子区域中彼此不同。2.如权利要求I所述的曝光设备,其中所述至少两个子区域包括至少ー个第一子区域和至少ー个第二子区域,与所述第一光掩模的所述至少ー个第一子区域中的所述透射部分对应的照射区域和与所述第二光掩模的所述至少ー个第一子区域中的所述透射部分对应的照射区域彼此重叠,且与所述第一光掩模的所述至少ー个第二子区域中的所述透射部分对应的照射区域和与所述第二光掩模的所述至少ー个第二子区域中的所述透射部分对应的照射区域彼此不重叠。3.如权利要求2所述的曝光设备,其中所述至少ー个第一子区域和所述至少ー个第二子区域交替布置。4.如权利要求2所述的曝光设备,其中所述第一光掩模的所述透射部分沿第一方向布置,且所述第一光掩模或所述第二光掩模的所述至少ー个第一子区域中的所述透射部分的沿垂直于所述第一方向的第二方向的长度沿所述第一方向逐渐改变。5.如权利要求2所述的曝光设备,其中所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵秀连李准宇金坰兑廉周锡姜锡训金恩珠
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:

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