【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶显示
，特别是指。
技术介绍
如图I所示，为现有技术中的彩色滤光片结构在完成黑矩阵曝光后的局部结构图，包括基板10以及在基板10上形成的黑矩阵11，现有的彩色滤光片使用的掩模板的形状如图2所示，其中12为掩模板的遮光区域，13为掩模板的透光区域(即曝光区域)，其成形后的彩色光阻层形状如图3所示，14为掩模板的透光区域对应的彩色光阻层，成形后的彩色 光阻层的截面如图4所示。具体的，如图5A、图5B和图5C所示，图5A为使用现有的掩模板完成彩色光阻曝光工艺后的彩色滤光片的彩色光阻与黑矩阵交叠区域的截面图；图5B是使用现有的掩模板完成彩色光阻曝光、显影工艺后的彩色滤光片的彩色光阻与黑矩阵交叠区域的截面图；图5C是使用现有的掩模板最终完成的彩色滤光片局部截面图；其中，在图5A中，标号10为玻璃基板，标号11为黑矩阵，标号14为使用现有技术的掩模板曝光的光阻层，该区域完全曝光，曝光反应率较高，光阻基本被固化；标号31所指示的部分为曝光工序中被掩模板遮挡未曝光的光阻部分；在图5B中，标号31所指示的未曝光的光阻部分在经过显影工艺后消除；在图5C中，标...
【技术保护点】
一种掩模板，包括透光区域和遮光区域，其特征在于，所述透光区域与遮光区域之间设置有光强过渡区，所述光强过渡区包括交错设置的透光区域和遮光区域。
【技术特征摘要】
1.一种掩模板，包括透光区域和遮光区域，其特征在于，所述透光区域与遮光区域之间设置有光强过渡区，所述光强过渡区包括交错设置的透光区域和遮光区域。2.根据权利要求I所述的掩模板，其特征在于，所述交错设置的透光区域和遮光区域的交界界面呈锯齿状、楔形状或者脉冲形状。3.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述锯齿的顶角为15° 165°，所述锯齿的两边长度为2 μ πΓ Ο μ m。4.根据权利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述锯齿的两边长度相等。5.一种彩色滤光片，包括基板、所述基板上的黑矩阵以及形成于所述基板和所述黑矩阵上的曝光区域的彩色光阻层；其特征在于，所述彩色光阻层是...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨瑞智，林准焕，张俊瑞，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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