【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及图像显示领域,尤其涉及一种显示面板及其制造方法、平板显示装置。
技术介绍
光刻制程在平板显示器的制造中至关重要,主要步骤为“薄膜沉积一光阻涂布一曝光一光阻显影一薄膜蚀刻一光阻剥离”。一般情况下,“光阻显影”是使用液态的显影液进行,而金属(合金)层的“薄膜蚀刻”是使用液态的蚀刻液进行,均为所谓的“湿制程”。在“湿制程”中,基板表面的薄膜图案会影响溶液中药剂的局部浓度,即如果某处需要显影的光阻面积或需要蚀刻的金属(合金)面积大,则该处消耗的药剂多;反之,如果某处需要显影的光阻面积或需要蚀刻的金属(合金)面积小,则该处消耗的药剂少。溶液普遍存在扩散作用,自发地倾向于保持各处浓度相等。因此当基板表面的薄膜图案差异很大时,显影或蚀刻时会出现药剂从高浓度区向低浓度区的扩散,从而导致图案边界区的显影或蚀刻效果与中心区明显不同。这种效应被称为“负载效应”(Loading Effect)。下面以液晶面板的像素电极层的光阻显影制程为例,说明Loading Effect对普通液晶面板的图像显示区域(AA区)边缘的不利影响。图I所示为现有普通液晶面板的像素电极层的设计,面 ...
【技术保护点】
一种显示面板,包括图像显示区和围绕在所述图像显示区域外围的空白区,其特征在于,在所述图像显示区和空白区之间,沿所述图像显示区的外围边缘设有无显示功能的哑图案区。
【技术特征摘要】
1.一种显示面板,包括图像显示区和围绕在所述图像显示区域外围的空白区,其特征在于,在所述图像显示区和空白区之间,沿所述图像显示区的外围边缘设有无显示功能的哑图案区。2.根据权利要求I所述的显示面板,其特征在于,在所述显示面板的湿制程中,所述哑图案区与所述图像显示区相接处的溶液浓度和所述图像显示区的溶液浓度大致相同,所述哑图案区的溶液浓度自所述相接处向所述空白区递减。3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述图像显示区域的溶液浓度维持不变。4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述图像显示区、空白区和哑图案区设于所述显示面板中使用湿制程进行显影或蚀刻的图层,所述图层包括像素电极层、第一金属层或第二金属层。5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述图像显示区、空白区和哑图案区设于所述像素电极层,所述哑图案区包括若干哑像素。6.一种显示面板的制造...
【专利技术属性】
技术研发人员:郑华,陈世烽,林沛,林明文,吴良东,高攀,陈上潘,潘龙,
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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