一种含硼吲哚[3,2-b]咔唑衍生物及其制备方法和应用技术

本发明专利技术提供了一种含硼吲哚[3,2-b]咔唑衍生物，具体是2，8-二（三甲苯基硼）-5,11-二烷基吲哚[3,2-b]咔唑。其制备方法是：依次制备环己胺-1,4-二酮-二（4-溴苯）腙、2,8-二溴吲哚[3,2-b]咔唑和2,8-二溴-5,11-二烷基吲哚[3,2-b]咔唑；然后将2,8-二溴-5,11-二烷基吲哚[3,2-b]咔唑与二(三甲苯基)氟化硼反应，得到2，8-二（三甲苯基硼）-5,11-二烷基吲哚[3,2-b]咔唑。该衍生物稳定性好，可用作蓝色有机电致发光材料。

【技术实现步骤摘要】
,2-b]咔唑衍生物及其制备方法和应用的制作方法
本专利技术涉及含碳、氢、氮、硼的杂环化合物，具体属于，2-b]咔唑衍生物及其制备方法，该衍生物可用作蓝色有机电致发光材料。
技术介绍
进入21世纪以后，信息技术的持续快速发展对信息显示系统的性能提出了高的要求，为了满足信息时代对更轻、更薄、视角更广的高性能平板显示器件的迫切需要，有机电致发光器件(OLED)作为新一代的平板显示技术应运而生并逐渐进入人们的视野，其广泛的应用前景和近年在技术上的突飞猛进使得OLED成为信息显示领域最热门的话题之O有机材料具有较高的荧光量子效率，可以通过对有机分子的“组装”和“裁剪”，设计出能够提供各种发光颜色的有机分子。这些优点及其所预示的强大潜力极大地激发了人们致力于有机电致发光材料的开发及应用研究。吲哚咔唑是一种具有大的π -电子共轭体系的梯子型平面化合物，有优良的热稳定性。这种化合物5，11,2,8或者3，9位上的氢容易被许多功能基团取代形成衍生物。吲哚咔唑衍生物具有优良的热稳定性和光电性质，在有机光致发光、电致发光、非线性光学材料等方面具有广阔的应用前景。三芳基硼烷是一类重要的有机化合物，它们在溶液和固态中都具有高的发光效率，使得这些化合物在有机发光二极管(OLEDs)等光电领域有着广泛的应用。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供，2-b]咔唑衍生物，提供该衍生物的制备方法，并提供该衍生物作为蓝色有机电致发光材料的电致发光器件。本专利技术提供的，2_b]咔唑衍生物，是2，8_ 二 (三甲苯基硼)-5，11- 二烷基吲哚咔唑，其分子结构为权利要求1.，2-b]咔唑衍生物，是2，8_ 二(三甲苯基硼)-5，ll-二烷基吲哚咔唑，其分子结构式为2.如权利要求I所述的，2-b]咔唑衍生物的制备方法，包括如下步骤按摩尔比I. 0:2. 3-2. 5:2. 5-3. O取2，8- 二溴-5，11-二烷基吲哚咔唑、正丁基锂和二(三甲苯基)氟化硼；将2，8-二溴-5，11-二烷基吲哚咔唑溶解在四氢呋喃溶剂中，在-78° C时，加入正丁基锂，在此温度下搅拌20min后恢复室温，然后再次降至-78° C后将溶有二(三甲苯基)氟化硼的无水四氢呋喃溶液滴入其中，恢复室温后搅拌过夜，之后旋转蒸发除去溶剂，所得固体用乙醚和水洗涤，干燥后得2，8-二(三甲苯基硼)-5，11-二烷基吲哚咔唑。3.如权利要求2所述的，2-b]咔唑衍生物的制备方法，其特征在于，所述的2，8- 二溴-5，11- 二烷基吲哚咔唑、正丁基锂和二(三甲苯基)氟化硼的摩尔比为 I. 0:2. 5:3. O。4.一种电致发光器件,包括发光层,其特征在于所述的发光层含有权利要求I所述的含硼吲哚咔唑衍生物。5.—种电致发光器件,包括发光层,其特征在于所述的发光层是权利要求I所述的含硼吲哚咔唑衍生物的镀层。6.如权利要求5所述的一种电致发光器件的制造方法，其特征在于包括以下步骤清洗ITO玻璃，氮气吹干，最后用紫外线-臭氧处理达到充分洗净的表面；根据所设计的器件的结构按顺序依次在ITO基片上蒸镀40nm厚的NPB、蒸镀IOnm厚的BCP ;蒸镀40nm厚的权利要求I所述结构的含硼吲哚咔唑衍生物作为发光层、蒸镀40nm厚的Bphen作为电子传输层、蒸镀O. 5nm厚的氟化锂和150nm厚的招作为器件的阴极。7.如权利要求6所述的一种电致发光器件的制造方法，其特征在于所述的整个蒸镀过程均在高真空下进行，有机层的蒸镀速度控制在O. 2-0. 5nm/s,金属铝层的蒸镀速控制在O.5-lnm/s。全文摘要本专利技术提供了,2-b]咔唑衍生物，具体是2，8-二(三甲苯基硼)-5,11-二烷基吲哚咔唑。其制备方法是依次制备环己胺-1,4-二酮-二(4-溴苯)腙、2,8-二溴吲哚咔唑和2,8-二溴-5,11-二烷基吲哚咔唑；然后将2,8-二溴-5,11-二烷基吲哚咔唑与二(三甲苯基)氟化硼反应，得到2，8-二(三甲苯基硼)-5,11-二烷基吲哚咔唑。该衍生物稳定性好，可用作蓝色有机电致发光材料。文档编号H01L51/54GK102827196SQ20121033656公开日2012年12月19日 申请日期2012年9月12日 优先权日2012年9月12日专利技术者施和平, 董秀清, 徐雷, 施利文, 戴建鑫, 董川 申请人:山西大学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种含硼吲哚[3,2？b]咔唑衍生物，是2，8？二（三甲苯基硼）？5,11？二烷基吲哚[3,2？b]咔唑，其分子结构式为：R是CH2CH3,C3H7,C4H9,C5H11,C6H13,C8H17或C6H5。FDA00002126664200011.jpg

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：施和平，董秀清，徐雷，施利文，戴建鑫，董川，
申请(专利权)人：山西大学，
类型：发明
国别省市：