【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种电子元器件清洗装置，其特征在于，包括密闭的主槽，所述主槽内设置有超声波清洗池和热清洗池，所述超声波清洗池的底部设有超声波发生器，超声波清洗池上方设有干燥区，所述热清洗池的底部设置有释放孔和温度控制器，该热清洗池上方设有蒸汽漂洗区，在所述干燥区和蒸汽漂洗区的上方设有冷凝回流区。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杨洪民，杨璟，
申请(专利权)人：重庆枫美信息技术股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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