【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及ー种与涂层设备相关的，尤其是与真空一涂层设备相关的清洁方法。在涂层时，通常必须在涂层室中给有些不期望被涂层的表面进行涂层。这些表面可能是，例如，室的某些部分以及部分待涂层的衬底以及支撑面或其它副面。通常，经一次或多次涂层后必须很吃力地对它们进行清洁。尤其是，如果其对于不期望被涂层的部分在涂层时会影响到表面性能，例如，导电性，这种清洁工作特备有必要。利用按照本专利技术的方法将大大地简化这种清洁工作。按照本专利技术，不期望地被涂层的表面被称作副面，而期望地被涂层的表面称作目标面。副面位于不同的电位像偏置电流，是绝缘的或位于这导致在副面上产生涂层的不同附着強度。
技术介绍
按照技术背景，已经为人所熟知的是，可以通过不同的方法清除这些不期望的涂层，例如，喷砂，研磨，用刷子刷或甚至是机械后处理或化学去涂层处理。全部这些方法都是 常用的，在所属行业得到广泛应用的方法。由于这些不期望的涂层粘附カ强，牢固地粘附在副面，因此清理起来特别费力。在有些情况下必须在每一周期(Charge)后都要清理副面。需要的几种清洁方法有，像，湿化学去涂层或喷砂。此外，全部的磨粒磨损式...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：P·內夫，
申请(专利权)人：欧瑞康贸易股份公司特吕巴赫，
类型：发明
国别省市：
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