一种p型掺杂聚合物太阳能电池及其制备方法技术

技术编号:8047495 阅读:143 留言:0更新日期:2012-12-06 21:11
本发明专利技术属于电化学领域,其公开了一种p型掺杂聚合物太阳能电池,该电池为层状结构,该层状结构依次为:阳极基底、p型掺杂层、活性层、电子缓冲层、阴极层。本发明专利技术的p型掺杂聚合物太阳能电池,通过用中性的p型掺杂材料作为空穴缓冲层,可以提高空穴注入效率;同时,也有效的避免了空穴缓冲层对阳极的腐蚀,并可更精确的控制膜厚,降低成本的同时,达到了提高太阳能电池稳定性和能量转换效率的目的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电化学领域,尤其涉及一种P型掺杂聚合物太阳能电池及其制备方法。
技术介绍
1982年,Weinberger等研究了聚乙炔的光伏性质,制造出了第一个具有真正意义 上的太阳能电池,但是当时的光电转换效率极低(10_3% )。紧接着,Glenis等制作了各种聚噻吩的太阳能电池,当时都面临的问题是极低的开路电压和光电转换效率。直到1986年,C. ff. Tang等首次将p型半导体和n型半导体引入到双层结构的器件中,才使得光电流得到了极大程度的提高,从此以该工作为里程碑,有机P型掺杂聚合物太阳能电池蓬勃发展起来。1992年Sariciftci 等发现2-甲氧基-5-(2-乙基-己氧基)-1,4_苯乙(MEH-PPV)与复合体系中存在快速光诱导电子转移现象,引起了人们的极大兴趣,而在1995年,Yu等用MEH-PPV与C60衍生物PCBM混合作为活性层制备了有机聚合物体异质结太阳能电池。器件在20mW/cm2 430nm的单色光照射下,能量转换效率为2. 9%。这是首个基于聚合物材料与PCBM受体制备的本体异质结太阳能电池,并提出了复合膜中互穿网络结构的概念。至此,本体异质结结构在p型掺杂聚合物太阳能电池中的应用得到了迅速的发展。这种结构也成为目前人们普遍采用的有机P型掺杂聚合物太阳能电池结构。聚合物太阳能电池的工作原理主要分为四部分(I)光激发和激子的形成;(2)激子的扩散;⑶激子的分裂;⑷电荷的传输和收集。首先,共轭聚合物在入射光照射下吸收光子,电子从聚合物最高占有轨道(HOMO)跃迁到最低空轨道(LUMO),形成激子,激子在内建电场的作用下扩散到给体/受体界面处分离成自由移动的电子和空穴,然后电子在受体相中传递并被阴极收集,空穴则通过给体相并被阳极收集,从而产生光电流,这就形成了一个有效的光电转换过程。其中,电荷的传输和收集是直接影响到最后电池的光电转换效率的,电荷的收集主要通过从活性层的电子和空穴注入到电极中来实现的,而缓冲层就起到了很重要的作用,由于电子缓冲层一般是金属化合物(如LiF),容易造成电极与活性层之间的能带弯曲,使电子注入势垒降低,容易提高电子注入效率,而空穴缓冲层一般采用聚3,4_乙基二氧噻吩(PEDOT)与聚苯磺酸盐(PSS)的水溶液,这是一种呈酸性的物质,而由于聚合物太阳能电池一般是用金属半导体(如IT0)作为阳极,再在其上旋涂PEDOT溶液,因此,酸性的溶液容易对ITO进行腐蚀,不利于太阳能电池的稳定,破坏阳极,另外,PEDOT的制备工艺复杂,成本较高,制约了日后的商业化发展。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种稳定性好、能量转换率高,且制备工艺简单、成本低廉的P型掺杂聚合物太阳能电池。本专利技术的技术方案如下一种p型掺杂聚合物太阳能电池,该电池为层状结构,且该层状结构依次为阳极基底、P型掺杂层、活性层、电子缓冲层、阴极层,即该电池的结构依次为阳极基底/P型掺杂层/活性层/电子缓冲层/阴 极层。该p型掺杂聚合物太阳能电池中,各功能层所用材质如下,导电阳极基底为铟锡氧化物玻璃(ITO)、掺铟氧化锌玻璃(IZO)、掺氟氧化锡玻璃(FTO)或掺铝氧化锌玻璃(AZO)中的任一种;所述P型掺杂层的材料为2,3,5,6,-四氟_7,7',8,8'-四氰二甲基对苯醌(F4-TCNQ)掺杂到4,4',4 "-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺(m_MTDATA)、4,4',4"-三(N,N-二苯基-氨基)三苯胺(NATA)、4,4',4"-三(N-(萘基-I-取代)_N_苯基氨基)三苯胺(IT-NATA)、4,4',4"-三(N-(萘基-2-取代)-N-苯基氨基)三苯胺(2T-NATA)、酞菁铜(CuPc)、N,N,_(1_ 萘基)_N,N’ - 二苯基 _4,4’ -联苯二胺(NPB)或 1,I- 二 苯基]环己烷(TAPC)中的任一种所组成的掺杂混合物;活性层的材料为聚3-己基噻吩(P3HT)、聚(MDMO-PPV)或聚(MEH-PPV)分别与C6tl(即60个碳原子的有机物)衍生物(PCBM)混合后形成体混合物中的任一种;即P3HT PCBM、MDMO-PPV PCBM或者MEH-PPV PCBM混合物中的任一种;其中,P3HT PCBM 混合物中,P3HT PCBM 的质量比为 I 0.8-1 I, MDMO-PPV PCBM或者MEH-PPV PCBM混合物中,MDMO-PPV PCBM或者MEH-PPV PCB的质量比均为1:1-1:4;电子缓冲层的材料为氟化锂(LiF)、碳酸锂(Li2C03)、碳酸铯(Cs2C03)、氮化铯(CsN3)或氟化铯(CsF)中的任一种;阴极层的材料为铝(Al)、银(Ag)、金(Au)或钼(Pt)中的任一种金属。本专利技术的另一目的在于提供上述p型掺杂聚合物太阳能电池的制备方法,其工艺步骤如下SI、将阳极基底依次在洗洁精,去离子水,丙酮,乙醇,异丙醇中超声清洗,去除表面的有机污染物,清洗干净后对其进行氧等离子处理,然后在功率为10-50W下氧等离子处理时间为5-15min,或者UV-臭氧处理5_20min ;S2、在阳极基底的阳极表面厚度为5_80nm的蒸镀p型掺杂层;S3、在p型掺杂层表面旋涂厚度为80-300nm的活性层,随后干燥;S4、活性层表面蒸镀厚度为0. 5-10nm的电子缓冲层;接着在电子缓冲层表面蒸镀厚度为80-300nm的阴极层;工艺步骤完成后,制得所述P型掺杂聚合物太阳能电池。本专利技术的p型掺杂聚合物太阳能电池,通过用中性的p型掺杂材料作为空穴缓冲层,更有利于空穴的注入,提高空穴注入效率;同时,也有效的避免了空穴缓冲层对阳极的腐蚀,并可更精确的控制膜厚,降低成本的同时,达到了提高太阳能电池稳定性和能量转换效率的目的。附图说明图I为本专利技术p型掺杂聚合物太阳能电池结构示意图;图2为本专利技术p型掺杂聚合物太阳能电池的制备工艺流程图;图3为实施例I的p型掺杂聚合物太阳能电池IT0基底/F4-TCNQ IT-NATA/P3HT PCBM/LiF/Al 与 对比例电池ITO 基底/PEDOT PSS/P3HT PCBM/LiF/Al 的电流密度与电压关系图;其中,曲线I为实施例I的曲线,曲线2为对比例的曲线。具体实施例方式本专利技术的一种p型掺杂聚合物太阳能电池,如图I所示,该电池为层状结构,且该层状结构依次为阳极基底11、P型掺杂层12、活性层13、电子缓冲层14、阴极层15,即该电池的结构依次为阳极基底11/P型掺杂层12/活性层13/电子缓冲层14/阴极层15。 该p型掺杂聚合物太阳能电池中,各功能层所用材质如下,导电阳极基底为铟锡氧化物玻璃(ITO)、掺铟的氧化锌玻璃(IZO)、掺氟的氧化锡玻璃(FTO)或掺铝的氧化锌玻璃(AZO)中的任一种;所述p型掺杂层的材料为2,3,5,6,-四氟_7,7',8,8'-四氰二甲基对苯醌(F4-TCNQ)掺杂到4,4 ',4 "-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺(m_MTDATA)、4,4',4"-三(N,N-二苯基-氨基)三苯胺(NATA)、4,4',4"-三(N-(萘基-I-取代)-N-苯基氨基)三苯胺(IT-NATA)、4,4',4"-三(本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种p型掺杂聚合物太阳能电池,该电池为层状结构,其特征在于,该层状结构依次为:阳极基底、p型掺杂层、活性层、电子缓冲层、阴极层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:周明杰王平黄辉冯小明
申请(专利权)人:海洋王照明科技股份有限公司深圳市海洋王照明技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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