含有重氮基团的高分子感光剂及其制备方法与光刻胶组合物技术

本发明专利技术涉及一种含有重氮基团的高分子感光剂及其制备方法与光刻胶组合物。该含有重氮基团的高分子感光剂，其一般式如式1所示：式1其中R1为a，b，c，d和e中的一种或几种；其中Z为-CO-或-SO2-，R2-R6可独立的为H、卤素、C1~C6为取代或未取代的烷基或环烷基，取代或未取代的芳基；n代表高分子感光剂的酯含量。本发明专利技术的光刻胶包括成膜树脂、感光剂和有机溶剂，其中所述感光剂由上述含有重氮基团的高分子感光剂和二苯甲酮系光活性化合物组成。本发明专利技术的光刻胶组合物在提高了分辨率的同时得到了较好的感度和成膜性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示领域制造エ艺中使用的感光剂及光刻胶，尤其涉及含有重氮基团的高分子感光剂及其制备方法与光刻胶组合物。
技术介绍
光刻胶又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光化学反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像。光刻胶的应用领域包括模拟半导体、发光二极管、微机电系统、太阳能光伏、微流道和生物芯片、光电子器件/光子器件、封装等。目前常用的光刻胶组合物中的光活性化合物一般都是ニ苯甲酮系光活性化合物，但随着对分辨力要求的提高，这种光刻胶组合物难以达到较高的分辨率。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种能提高光刻胶的分辨率的含有重氮基团的高分子感光剂及其制备方法与含有该高分子感光剂的光刻胶组合物。本专利技术的含有重氮基团的高分子感光剂，其一般式如下式所示权利要求1.一种含有重氮基团的高分子感光剂，其一般式如下式所示2.根据权利要求I所述的高分子感光剂，其特征在于，所述R1为如下任一种3.根据权利要求I所述的高分子感光剂，其特征在于，所述η为1(Γ50。4.一种光刻胶组合物，包括成膜树脂、感光剂和有机溶剂，所述感光剂由权利要求1-3中任一所述的含有重氮基团的高分子感光剂和二苯甲酮系光活性化合物组成。5.根据权利要求4所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述成膜树脂为酚醛树脂。6.根据权利要求4所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述二苯甲酮系光活性化合物为2，3，4-三羟基二苯甲酮与化合物R的酯化产物或2，2’，3，4-四羟基二苯甲酮与化合物R的酯化产物； 所述化合物R为7.根据权利要求4所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述有机溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇甲醚醋酸酯、丁酮和环己酮中的任一种或两种以上。8.根据权利要求4所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述的高分子感光剂和所述二苯甲酮系光活性化合物的质量比为1:广1:3。9.权利要求1-3中任一所述含有重氮基团的高分子感光剂的制备方法，包括如下步骤 将双酚A环氧树脂溶解在有机溶剂中，然后加入如下任一种酰氯或磺酰氯10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述双酚A环氧树脂与所述酰氯或磺酰氯的质量比为2: f 4: I。11.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述碱性催化剂为三乙胺或Na2CO3溶液。全文摘要本专利技术涉及一种含有重氮基团的高分子感光剂及其制备方法与光刻胶组合物。该含有重氮基团的高分子感光剂，其一般式如式1所示式1其中R1为a，b，c，d和e中的一种或几种；其中Z为-CO-或-SO2-，R2-R6可独立的为H、卤素、C1~C6为取代或未取代的烷基或环烷基，取代或未取代的芳基；n代表高分子感光剂的酯含量。本专利技术的光刻胶包括成膜树脂、感光剂和有机溶剂，其中所述感光剂由上述含有重氮基团的高分子感光剂和二苯甲酮系光活性化合物组成。本专利技术的光刻胶组合物在提高了分辨率的同时得到了较好的感度和成膜性。文档编号G03F7/016GK102786662SQ201210275419公开日2012年11月21日 申请日期2012年8月3日 优先权日2012年8月3日专利技术者刘陆, 惠官宝 申请人:京东方科技集团股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种含有重氮基团的高分子感光剂，其一般式如下式所示：其中R1为a，b，c，d和e中的一种或几种；其中Z为？CO？或？SO2？，R2？R6可独立的为H、卤素、C1~C6为取代或未取代的烷基或环烷基、取代或未取代的芳基；n代表高分子感光剂的酯含量。FDA00001973862500011.jpg,FDA00001973862500012.jpg

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘陆，惠官宝，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：