高分子化合物的制造方法技术

本发明专利技术的课题在于提供通过短时间的聚合得到的高分子化合物的分子量增高的高分子化合物的制造方法。一种具有式(2)所示的重复单元的高分子化合物的制造方法，其中，包括：在有机溶剂、钯络合物、碱、以及式(1)所示的化合物存在下使具有至少2个含硼原子的第一官能团的第一芳香族化合物、与具有至少2个能够与第一官能团反应的第二官能团的第二芳香族化合物聚合的工序。式(1)中，Ra、Rb、Rc、Rd、Re、以及Rf相同或不同，分别表示氢原子或者1价的有机基团；或者Ra～Rf中的2个连接，形成非芳香族性的环，其余相同或不同，分别表示氢原子或者1价的有机基团。式(2)中，Ar表示从芳香族化合物中除去2个氢原子后的2价基团。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及利用缩聚的。
技术介绍
作为具有亚芳基或者杂亚芳基作为重复单元的，研究了各种制造方法。例如提出了，利用在钯络合物、碱以及有机溶剂存在下通过Suzuki偶联反应使具有2个含硼原子的官能团的芳香族化合物和具有2个溴基的芳香族化合物发生聚合的(非专利文献I)。现有技术文献非专利文献非专利文献I Polymer, vol. 38，P. 1221-1226 (1997)
技术实现思路
专利技术要解决的问题但是，上述的，具有如下问题通过短时间的聚合得到的高分子化合物的分子量没有足够高。本专利技术的目的在于，提供通过短时间的聚合得到的高分子化合物的分子量提高的。用于解决问题的手段即，本专利技术第一方案提供一种具有式(2)所示的重复单元的，其中，包括在有机溶剂、钯络合物、碱、以及式(I)所示的化合物存在下使具有至少2个含硼原子的第一官能团的第一芳香族化合物、与具有至少2个能够与第一官能团反应的第二官能团的第二芳香族化合物聚合的工序。

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.02.25 JP 2010-0399231.一种具有式(2)所示的重复单元的高分子化合物的制造方法，其中，包括 在有机溶剂、钯络合物、碱以及式(I)所示的化合物存在下，使具有至少2个含硼原子的第一官能团的第一芳香族化合物与具有至少2个能够与第一官能团反应的第二官能团的第二芳香族化合物进行聚合的工序，2.根据权利要求I所述的高分子化合物的制造方法，其中，第一芳香族化合物为选自分别由式(3) 式(6)所示的化合物中的至少一种化合物，第二芳香族化合物为选自分别由式(7) 式(10)所示的化合物中的至少一种化合物，W1-A-W1 (3)W1-B-W1 (4)W1-C-W1 (5)W1-D-W1 (6)W2-A-W2 (7)W2-B-W2 (8)W2-C-W2 (9)W2-D-W2 (10) 式中，W1表示含硼原子的第一官能团，W2表示第二官能团，A表示亚芳基，B表示具有芳香族性的2价杂环残基，C表示2价芳香族胺残基，D表示从将2个芳香环经由烃基或者杂原子连结而成的化合物中除去2个氢原子后的2价基团。3.一种具有式(2)所示的重复单元的高分子化合物的制造方法，其中，包括在有机溶齐U、钯络合物、碱以及式(I)所示的化合物存在下，使具有含硼原子的第一官能团以及能够与第一官能团反应的第二官能团的芳香族化合物进行聚合的工序，4.根据权利要求3所述的高分子化合物的制造方法，其中，芳香族化合物为选自分别由式(11) 式(14)所示的化合物中的至少一种化合物，W1-A-W2 (11)W1-B-W2 (12)W1-C-W2 (13)W1-D-W2 (14) 式中，W1表示含硼原子的第一官能团，W2表示第二官能团，A表示亚芳基，B表示具有芳香族性的2价...

【专利技术属性】
技术研发人员：后藤修，福岛大介，中谷智也，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：