潜酸及其用途制造技术

本发明专利技术涉及一种产生式(I)或(II)的酸的化合物，例如相应锍盐和碘盐以及相应磺酰基肟，其中X为CH2或CO；Y为O、NR4、S、O(CO)、O(CO)O、O(CO)NR4、OSO2、O(CS)或O(CS)NR4；R1例如为C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12链烯基、C4-C30环烯基、苯基-C1-C3烷基、C3-C30环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18烷基、被间隔的C2-C18烷基、被间隔的C3-C30环烷基、被间隔的C3-C30环烷基-C1-C18烷基、被间隔的C4-C30环烯基、苯基、萘基、蒽基、菲基、联苯基、芴基或杂芳基，均为未被取代或被取代的；或R1为NR12R13；R2和R3例如为C3-C30亚环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18亚烷基、C1-C18亚烷基、C1-C10亚卤代烷基、C2-C12亚烯基、C4-C30亚环烯基、亚苯基、亚萘基、亚蒽基、亚菲基、亚联苯基或亚杂芳基，均为未被取代或被取代的；R4例如为C3-C30环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18烷基、C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12链烯基、C4-C30环烯基、苯基-C1-C3烷基；R12和R13例如为C3-C30环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18烷基、C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12链烯基、C4-C30环烯基、苯基-C1-C3烷基、Ar、(CO)R15、(CO)OR15或SO2R15；和Ar为苯基、联苯基、芴基、萘基、蒽基、菲基或杂芳基，均为未被取代或被取代的。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】潜酸及其用途本专利技术涉及释放强酸的新型潜酸、包含所述化合物的化学放大的光致抗蚀剂组合物和该化合物作为潜酸的用途，该化合物可在光化电磁辐射和电子束辐照或热处理下活化。半导体制造中采用的化学放大的抗蚀剂包含作为由光活化的潜酸的具有酸不稳定基团的聚合物和光酸产生剂(PAG)。为获得良好敏感性和分辨率性能，优选释放强酸如全氟烷基磺酸(PFAS)如九氟丁烷磺酸的PAG。然而，由于该类酸具有长的扩散长度，所以使用这些酸尚不能获得IC芯片进一步小型化所需的分辨率。此外，在环境方面，对PFAS存在大量关注。因此，数个产生非全氟烷基磺酸的强酸的PAG已报导如下JP2004-004561中所述的(金刚烷_1_基甲基)氧基羰基二氟甲烷磺酸三苯基锍、US 6908722中所述的1，I, 2，2-四氟_2_(降冰片烷_2_基)乙烷磺酸三苯基锍、EP 1710230中所述的1，I, 3，3，3-五氟-2-苯甲酰氧基丙烷-I-磺酸三苯基锍、WO 2008/132966中所述的2-萘基甲氧基四氟乙烷磺酸三苯基锍、W02009/37980中所述的2-(1’_金刚烷)羰基氧基-1，I-二氟乙烷磺酸三苯基锍、US 200本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.02.24 EP 10154465.81. 一种产生式I或II的酸的化合物，2.根据权利要求I的产生式I或II的酸的化合物，其具有式Ilia、IIIb, IVa或IVb 3.根据权利要求I的产生式I或II的酸的化合物，其具有式IIIc、IIId、IIIe、IVC或IVe 4.根据权利要求1-3中任一项的产生式I或II的酸的化合物，其中 X 为 CH2 ;Y为 O、O (CO)、O (CO) O、O (CO) NR4' O (CO) NR4 (CO)、OSO2 或 O (CS) NR4 ;其中对于这些基团中的每一个，氧原子均直接键于X ； R1为氢*、C3-C3(I环烧基、C3_C3(I环烧基-C1-C18烧基、C「C18烧基、C2-C12链稀基或C4-C3tl环稀基； 或被一个或多个O间隔的C2-C18烷基； 或被一个或多个O间隔的C2-C18链烯基； 或被一个或多个O、CO、O (CO)或NR14 (CO)间隔的C3-C3tl环烷基； 或 R1 为 NR12R13 ； 或被一个或多个O、CO或O (CO)间隔的C3-C3tl环烷基-C1-C18烷基； 其中所述C1-C18烷基、C3-C30环烷基、C4-C30环烯基、被间隔的C2-C18烷基、被间隔的C3-C30环烷基、被间隔的C3-C3tl环烷基-C1-C18烷基未被取代或被一个或多个Z取代；Z 为 C1-C18 烷基、C3-C30 环烷基、C3-C30 环烷基-C1-C18 烷基、卤素、(CO) OR11、O (CO) R11、OR11、SR14 或 NR14 (CO) OR11，或为被 NR14 (CO) OR11 或 NR14 (CO) NR12R13 中的一个或多个取代的 C5-C3tl 环烷基-C1-C4烷基； R2和R3相互独立地为C3-C3tl亚环烷基或C1-C18亚烷基； R4为氢； R11为氢、C1-C18烧基或Ar ； R12和R13相互独立地为氢、C3-C30环烷基或C1-C18烷基； 或R12和R13相互独立地为(CO) R15或SO2R15 ； 或R12和R13与其所连接的氮原子一起形成任选被一个或多个O、NR14或CO间隔的5、6或7员环； R14为氢、C1-C18烷基、C1-C18烷酰基、C1-C18烷基磺酰基、苯基、苯基磺酰基，其中所述苯基或C1-C18烷基磺酰基未被取代或被一个或多个Z1取代； R15为氢或Ar ； Ar为未被取代或被一个或多个Z2取代的苯基； Z2 SC1-C18 烷基或(CO)R15;和 Z1 为 Ar。5.一种式Ia或IIa的化合物6.一种化学放大的正型抗蚀剂组合物，包含作为辐射敏感性酸供体的至少一种根据权利要求1-4中任一项的产生式I或II的酸的化合物(a);和不溶或基本不溶于显影剂中且在酸作用下变得可溶的化合物(...

【专利技术属性】
技术研发人员：大和仁志，朝仓敏景，松本亮，田中庆太，西前祐一，
申请(专利权)人：巴斯夫欧洲公司，
类型：发明
国别省市：