有机EL器件制造方法技术

本发明专利技术提供一种降低基板和掩模的挠曲或荫罩的翘曲的影响，能够高精度地蒸镀、或者通过将驱动部等配置在大气侧从而降低真空内的粉尘和气体的发生，生产性高或维修保养性高，工作效率高的有机EL器件制造装置或成膜装置。而且提供能够高精度地定位的定位装置以及定位方法。本发明专利技术的第一特征在于使荫罩以下垂的姿势进行与基板的对位并将蒸镀材料蒸镀在基板上。另外，第二特征在于用使光入射到设置于荫罩上的定位用的贯通孔的透过型进行定位。再有，第三特征在于降低荫罩的翘曲进行蒸镀。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及有机EL器件制造装置、成膜装置及其成膜方法、液晶显示基板制造装置以及定位装置及定位方法，尤其涉及适用于大型基板的定位的有机EL器件制造装置以及成膜装置以及液晶显示基板制造装置。
技术介绍
作为制造有机EL器件的有力的方法有真空蒸镀法。真空蒸镀法需要基板和掩模的定位。随着逐年处理基板的大型化，6G—代基板规格成为1500mmX 1800mm。若基板规格大型化，掩模当然也大型化，其尺寸达到2000mmX 2000mm程度。尤其是，若使用钢制的掩模，则其重量在有机器将中达到300kg。一直以来，使基板以及掩模处于水平来实施定位(对位)。而且，由于大型化，定位精度也变得严格，其要求较高。作为与这种定位相关的现有技术，有下述的专利文献1、2。另外，关于定位的补正，在专利文献2中公开了在水平的定位方面加进定位检测量与实际的补正量之差来进行定位的方法。专利文献I :日本特开2006-302896号公报专利文献2 日本特开2008-004358号公报然而，专利文献I公开的将基板和掩模横置进行对位的方法如图14所示，基板以及掩模因其薄度和自重而产生较大地挠曲。如果该挠曲是均匀的，考虑到这种情况也可以制作掩模，但是若中心挠曲相对变大，基板规格变大则制作变得困难。另外，一般情况下，其中心点的挠曲量在将基板的挠曲设为dl、将掩模的挠曲设为d2时，则为dl>d2。若基板挠曲大，则基板蒸镀面与掩模接触进行定位时，对在前工序中蒸镀的有机膜产生接触伤，因此在定位时需要使基板和掩模较大地分离。但是，若分离到景深以上进行定位，则精度变差，存在成为不良产品的问题。特别是显示装置用基板不能得到高质量的图像。为了对付该问题，有使基板和掩模大致垂直地进行蒸镀的方法。通过使其垂直，从而能够大幅度地减少因基板和荫罩的自重引起的挠曲。但是，荫罩其掩模部薄至203()1!!!!,其制造时如图I所示，掩模整体从中心向周围发生翘曲，其影响在掩模部端部较大。图11夸张地描述了该状态，从而可知在基板和荫罩之间产生数十Pm的间隙，该间隙引起蒸镀模糊，存在不能高精度地进行蒸镀的问题。另外，如图15所示，专利文献I所记载的现有方法为了防止蒸镀材料附着在定位标记上，使用所谓反射型光学系统，该反射型光学系统配置了在与蒸镀侧相反的一侧，接受从垂直或斜方向照明的光源及其反射的摄像机，检测定位标记进行定位。在现有的有机EL器件制造装置中，将如图3的引出图所示，设置在钢制掩模上的四边形的凹部和设置在透明基板上的金属部作为定位标记，以金属部来到四边形的中心的方式定位。然而，反射型光学系统存在如下问题，并存在不能精度良好地定位的问题。(I)由于掩模表面进行了镜面精加工而引起晕光，因此不能提高照明强度，若变低则无法检测金属部。(2)为了定位时不损伤基板表面而需要在与掩模之间设置0. 5_左右的间隙，但是反射型光学系统由于景深变小而导致图像成为模糊。其次，在专利文献I所公开的方法中，由于将对基板和掩模进行定位的整个机构设置在真空内，因此有可能产生伴随着驱动部 等的移动的粉尘以及热量或者来自通往驱动部等的配线的气体、来自润滑剂的气体、来自部件表面的气体使真空度降低。第一,通往真空内的粉尘其粉尘附着在基板和掩模上引起蒸镀不良，第二，发热助长掩模的热膨胀使蒸镀规格发生变化，并且，第三，气体使真空度下降，因此均存在使成品率即生产性下降的问题。另外，由于对基板和掩模进行定位的整个机构设置在真空内，因此存在一旦在驱动部等发生故障，则维修需要时间，装置的工作效率下降之类的问题。
技术实现思路
因此，本专利技术的第一目的在于，提供降低基板和掩模的挠曲，可高精度地蒸镀的有机EL器件制造装置及成膜装置以及液晶显示基板制造装置。另外，本专利技术的第二目的在于，提供降低荫罩的翘曲的影响，可高精度地蒸镀的有机EL器件制造装置、成膜装置及其成膜方法。再有，本专利技术的第三目的在于，提供可精度良好地定位的定位装置以及定位方法。另外，本专利技术的第四目的在于，提供使用上述定位装置或定位方法，可高精度地蒸镀的有机EL器件制造装置以及成膜装置。再有，本专利技术的第五目的在于，提供通过将驱动部等配置在大气侧从而降低真空内的粉尘或气体的发生，且生产性高的有机EL器件制造装置以及成膜装置。另外，本专利技术的第六目的在于，提供通过将驱动部等配置在大气侧从而提高维修性、提高工作效率的有机EL器件制造装置以及成膜装置。为了实现上述任一目的，第一特征是，具有将基板保持为立起的姿势的基板保持机构；将荫罩保持为下垂的姿势的荫罩下垂机构；对设置在上述基板和荫罩上的定位标记进行摄像的定位光学机构；以上述下垂姿势的状态驱动上述荫罩的定位驱动机构；以及，基于上述定位光学机构的结果控制上述定位驱动机构的控制机构。另外，为了实现上述任一目的，在第一特征的基础上，第二特征是，上述荫罩下垂机构具有将上述荫罩可旋转地支撑在上述荫罩或保持上述荫罩的定位基座上的多个旋转支撑部，上述定位驱动机构具有驱动上述多个旋转支撑部中至少一处的主动旋转支撑部的主动驱动机构，上述有机EL器件制造装置还具有使上述主动旋转支撑部以外的其他旋转支撑部即从动旋转支撑部跟随上述主动旋转支撑部的动作而动作的定位从动机构。再有，为了实现上述任一目的，在第二特征的基础上，第三特征是，在上述荫罩或保持上述荫罩的定位基座的上部、两端侧设置两处上述主动旋转支撑部。另外，为了实现上述任一目的，在第二特征基础上，第四特征是，上述定位驱动机构具有上述主动驱动机构和左右从动机构；上述主动驱动机构具有对上述两处独立地沿上下方向进行驱动的上下驱动机构、和对上述两处中的一处沿左右方向进行驱动的左右驱动机构；上述左右从动机构使上述另一处跟随上述左右方向的动作而动作。另外，为了实现上述任一目的，在第一至第四特征的基础上，第五特征是，上述定位驱动机构以及定位从动机构设置在上述真空室之外。再有，为了实现上述任一目的，在第一至第五特征的基础上，第六特征是，将上述定位驱动机构设置在上述荫罩的上部侧，将上述定位从动机构设置在上述荫罩的下部侧。另外，为了实现上述任一目的，在第一至第六特征的基础上，第七特征是，上述基板保持机构具有将上述基板从水平状立起的机构。·另外，为了实现上述任一目的，在第一至第六特征的基础上，第八特征是，上述基板保持机构具有使上述基板在立起的状态与荫罩接近或密合的机构。再有，为了实现上述任一目的，第九特征是，在具有在真空室内进行基板和荫罩的定位的定位机构，并具有将蒸发源内的蒸镀材料蒸镀在基板上的真空蒸镀室的成膜装置中，具有载置上述基板并将上述基板保持为立起的姿势的基板保持架；以与上述立起的姿势的上述基板相面对的方式保持上述荫罩的荫罩保持机构；以及降低上述荫罩的翘曲造成的影响的补正机构。另外，为了实现上述任一目的，在第九特征的基础上，第十特征是，上述补正机构保持上述基板的基板架或者具有按压上述荫罩的按压机构。再有，为了实现上述任一目的，在第十特征的基础上，第十一特征是，上述补正机构具有测定上述基板架与上述荫罩间的距离的测定机构，基于上述测定机构结果或者基于预定的补正量控制上述按压机构。另外，为了实现上述任一目的，在第十一特征的基础上，第十二特征是，上述按压机构按压上述基板架的按压位置为上述基板的端部蒸镀部本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机EL器件制造方法，在真空室内进行基板和荫罩的定位，并将蒸发源内的蒸镀材料蒸镀在基板上，其特征在于，具有：将上述基板保持为立起姿势的基板保持步骤；把持上述荫罩的上部保持部，将上述荫罩保持为下垂姿势的荫罩下垂步骤；对设置在上述基板和荫罩上的定位标记进行摄像的光学定位步骤；以上述下垂姿势的状态驱动上述荫罩的上述上部保持部的定位驱动步骤；以及，基于上述光学定位步骤的结果控制上述定位驱动步骤的动作的控制步骤。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：弓场贤治，韭泽信广，落合行雄，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：