本发明专利技术公开了一种对玻璃基板进行烤焙处理的装置，包括：一烤焙室，用于对所述玻璃基板进行加热；一支撑构件，用于支撑所述玻璃基板；一温度传感装置，用于感测所述玻璃基板的温度；一加热装置，用于对所述支撑构件进行加热；一冷却装置，用于对所述支撑构件进行冷却；一温度控制装置，用于接收所述温度传感装置发送的温度数据，并根据所述的温度数据控制所述加热装置对所述支撑构件进行加热，或者控制所述冷却装置对所述支撑构件进行冷却。本发明专利技术还公开了一种对玻璃基板进行烤焙处理的方法。本发明专利技术能动态地控制与玻璃基板接触的支撑构件的温度，在整个烤焙过程中使玻璃基板的温度与支撑构件的温度保持一致，有效地防止玻璃基板上出现斑点。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及玻璃基板烤焙处理的
，特别涉及一种。
技术介绍
传统的玻璃基板的生产制造过程中需要对玻璃基板上的PI (Polyimide，聚酰亚胺)液进行预烤焙(Prebake)，烤焙的方式是利用红外线辐射玻璃基板，将玻璃基板加热到90摄氏度，使PI液中的溶剂蒸发，提高PI的浓度。在上述烤焙的过程中，一般会使用支撑针来支撑玻璃基板，但是由于支撑针的材质不是完全绝热的，因此玻璃基板上的接触区域(玻璃基板上与支撑构件接触的区域)与非接触区域(玻璃基板上没有与支撑构件接触的区 域)存在导热速率的差别，使得玻璃基板受热不均，造成玻璃基板上出现斑点(Mura)，降低了玻璃基板的良率。为了防止玻璃基板上出现斑点，现有技术上有两种解决方案一是采用绝热性能更好的材料来作为支撑针的材料，以减少玻璃基板上和支撑针接触的区域与其它区域的温度差；二是通过控制多个支撑针轮流(交替)支撑玻璃基板来减少支撑针与玻璃基板在同一个地方接触的时间，即首先使用一些支撑针支撑玻璃基板，在预定时间过后使用另一些支撑针支撑玻璃基板。上述这两种解决方案都不能有效地防止玻璃基板上出现斑点，原因是一、上述两种技术方案不能杜绝玻璃基板上不同区域(玻璃基板上与支撑针接触的区域以及玻璃基板上没有与支撑针接触的区域)之间温差的存在；二、上述两种技术方案中，支撑针支撑玻璃基板会使得玻璃基板与支撑针接触的区域压强过大，从而造成玻璃基板形变，使玻璃基板受热不均，在烤焙的过程中出现斑点；三、上述两种技术方案中，支撑针为针状，不利于保持玻璃基板在烤焙过程中的平坦度，容易造成玻璃基板上出现光环(Halo)区斑点。因此，有必要提出一种新的技术方案，以解决玻璃基板上出现斑点的技术问题。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于提供一种对玻璃基板进行烤焙处理的装置，其能有效防止玻璃基板上出现斑点。为解决上述问题，本专利技术提供了一种对玻璃基板进行烤焙处理的装置，包括一烤焙室，用于对所述玻璃基板进行加热；一支撑构件，用于支撑所述玻璃基板；一温度传感装置，用于感测所述玻璃基板的温度；一加热装置，用于对所述支撑构件进行加热；一冷却装置，用于对所述支撑构件进行冷却；一温度控制装置，用于接收所述温度传感装置发送的温度数据，并根据所述的温度数据控制所述加热装置对所述支撑构件进行加热，或者控制所述冷却装置对所述支撑构件进行冷却。在上述对玻璃基板进行烤焙处理的装置中，所述温度传感装置包括一第一温度传感器，用于感测所述玻璃基板的第一温度数据，所述第一温度数据为所述玻璃基板上第一区域的温度；以及一第二温度传感器，用于感测所述玻璃基板的第二温度数据，所述第二温度数据为所述玻璃基板上第二区域的温度。在上述对玻璃基板进行烤焙处理的装置中，所述温度控制装置还用于对所述第一温度数据和所述第二温度数据进行比较。在上述对玻璃基板进行烤焙处理的装置中，在所述第一温度数据大于所述第二温度数据的情况下，所述温度控制装置还用于控制所述加热装置对所述支撑构件进行加热；在所述第一温度数据小于所述第二温度数据的情况下，所述温度控制装置还用于控制所述冷却装置对所述支撑构件进行冷却。在上述对玻璃基板进行烤焙处理的装置中，还包括一第三温度传感器，用于感测 所述支撑构件的第三温度数据，所述第三温度数据为所述支撑构件的温度；在烤焙室对玻璃基板进行加热前，所述温度控制装置还用于根据所述第三温度数据控制所述加热装置和所述冷却装置对所述支撑构件的温度进行调节，使得所述第三温度数据与所述烤焙室的室温一致。本专利技术的另一个目的在于提供一种对玻璃基板进行烤焙处理的方法，其能有效防止玻璃基板上出现斑点。为解决上述问题，本专利技术提供了一种对玻璃基板进行烤焙处理的方法，包括一烤焙室、一支撑构件、一温度传感装置、一加热装置、一冷却装置和一温度控制装置；所述方法包括以下步骤(A)所述烤焙室对所述玻璃基板进行加热；(B)所述温度传感装置感测所述玻璃基板的温度；(C)所述温度控制装置接收所述温度传感装置发送的温度数据，并根据所述的温度数据控制所述加热装置对所述支撑构件进行加热，或者控制所述冷却装置对所 述支撑构件进行冷却。在上述对玻璃基板进行烤焙处理的方法中，所述温度传感装置包括一第一温度传感器和一第二温度传感器；所述步骤(B)还包括以下步骤(bl)所述第一温度传感器感测所述玻璃基板的第一温度数据，所述第一温度数据为所述玻璃基板上第一区域的温度；以及(b2)所述第二温度传感器感测所述玻璃基板的第二温度数据，所述第二温度数据为所述玻璃基板上第二区域的温度。在上述对玻璃基板进行烤焙处理的方法中，所述步骤(C)还包括以下步骤(cl)所述温度控制装置对所述第一温度数据和所述第二温度数据进行比较。在上述对玻璃基板进行烤焙处理的方法中，所述步骤(C)还包括以下步骤(c2)在所述第一温度数据大于所述第二温度数据的情况下，所述温度控制装置控制所述加热装置对所述支撑构件进行加热；(c3)在所述第一温度数据小于所述第二温度数据的情况下，所述温度控制装置控制所述冷却装置对所述支撑构件进行冷却。在上述对玻璃基板进行烤焙处理的方法中，所述温度传感装置还包括一第三温度传感器；所述步骤(C)还包括以下步骤(c4)在烤焙室对玻璃基板进行加热前，第三温度传感器感测所述支撑构件的第三温度数据，所述第三温度数据为所述支撑构件的温度，所述温度控制装置根据所述第三温度数据控制所述加热装置和所述冷却装置对所述支撑构件的温度进行调节，使得所述第三温度数据与所述烤焙室的室温一致。本专利技术相对现有技术，由于使用温度传感器(第一温度传感器、第二温度传感器和第三温度传感器)来感测玻璃基板的温度以及与玻璃基板接触的支撑构件的温度，因此能够动态地获知整块玻璃基板上各个区域的温度值以及支撑构件的温度值，从而得出玻璃基板的温度与支撑构件的温度的差值，同时根据该差值控制加热装置或者冷却装置，因此能动态地控制与玻璃基板接触的支撑构件的温度，在整个烤焙过程中使玻璃基板的温度与支撑构件的温度保持一致，有效地防止玻璃基板上出现斑点，具体说来，本专利技术的技术方案杜绝了传统的支撑针支撑玻璃基板时出现的针斑点(Pin Mura)以及其他斑点的现象，另外，本专利技术的技术方案还杜绝了玻璃基板由于支撑针支撑造成的形变的现象，因此不会使玻璃基板因为形变造成受热不均，出现斑点。另外，在本专利技术的技术方案中，支撑构件不必限制为针状，因此可以增大支 撑构件与玻璃基板的接触面积，从而提高玻璃基板在烤焙过程中的平坦度，一定程度上降低了玻璃基板上出现光环(Halo)区斑点出现的概率。为让本专利技术的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下附图说明图I为本专利技术中对玻璃基板进行烤焙处理的装置的框图；图2为图I中温度传感装置的框图；图3为本专利技术中对玻璃基板进行烤焙处理的方法的流程图；图4为图3中温度传感装置感测玻璃基板的温度和支撑构件的温度的步骤的流程图；图5为本专利技术的对玻璃基板进行烤焙处理的装置中支撑构件温度变化的示意图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。参考图1，图I为本专利技术中对玻璃基板进行烤焙处理的装置的原理框图。本专利技术的对玻璃基板进行烤焙处理的装置包括烤焙室101、支撑构件102本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种对玻璃基板进行烤焙处理的装置，其特征在于，包括：一烤焙室，用于对所述玻璃基板进行加热；一支撑构件，用于支撑所述玻璃基板；一温度传感装置，用于感测所述玻璃基板的温度；一加热装置，用于对所述支撑构件进行加热；一冷却装置，用于对所述支撑构件进行冷却；一温度控制装置，用于接收所述温度传感装置发送的温度数据，并根据所述的温度数据控制所述加热装置对所述支撑构件进行加热，或者控制所述冷却装置对所述支撑构件进行冷却。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：马涛，丁涛，刘明，宋涛，赵国栋，刘一俊，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。