用于放射线成像的格栅和用于制造该格栅的方法技术

本发明专利技术公开了一种用于放射线成像的格栅和制造该格栅的方法。导电基板(18)和蚀刻基板(20)相互结合。蚀刻掩模(25)使用光刻技术形成在蚀刻基板(20)上，沟槽(20a)和X射线透射部分(14b)通过干蚀刻使用博施法形成。沟槽(20a)通过电镀方法使用导电基板(18)作为电极填充有Au(27)。因此，X射线吸收部分(14a)形成。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：金子泰久，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：