【技术实现步骤摘要】
本技术涉及ー种真空荧光显示屏中的栅极器件，特别是涉及ー种金属网格框。
技术介绍
真空荧光显示屏(VFD)是从真空电子管发展而来的显示器件，由发射电子的阴极、加速控制电子流的栅极、玻璃基板上印上的电极和荧光粉的阳极即栅网和玻盖构成，这种显示器件利用电子撞击荧光粉，使荧光粉发光，是ー种自身发光显示器件，由于它可以做多色彩显示，亮度高，又可以用低电压来驱动，易干与集成电路配套，广泛应用于家用电器、办公自动化设备、エ业仪器仪表及汽车等各种领域中。其中的栅极，通常是将金属薄板通过光蚀刻后形成的金属网格框状部件。一般的加工方法中，只将该金属薄板上蚀刻出多个通孔以形成金属网格框部件，这样的金属网格的厚度即为该金属薄板的原始厚度，这样虽然加工简单，但是金属网格框作为栅极的性能并不是很好。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种网格厚度较薄的半蚀刻网格框。本技术解决上述技术问题所采用的技术方案为一种半蚀刻网格框，包括金属基板以及位于金属基板上的多个通孔，所述通孔的周边形成网格框，其特征在干所述通孔通过光蚀刻加工贯穿整个金属基板，所述网格框通过半蚀刻加工，厚度小于金属基板的原厚度。优选地，该金属基板的厚度为0. 15mm,网格框的厚度为0. 07mm 0. 11mm。与现有技术相比，本技术的优点在于这样的半蚀刻金属网格框，不但加工方便，易于量产，而且网格框的厚度较小，导电性较好，使使用该金属网格框的真空荧光显示屏的性能也得到增强。附图说明图I为本技术半蚀刻网格框的示意图。具体实施方式以下结合附图实施例对本技术作进ー步详细描述。如图I所示，该半蚀刻网格框包括金属基板1...
【技术保护点】
一种半蚀刻网格框，包括金属基板(1)以及位于金属基板(1)上的多个通孔(2)，所述通孔(2)的周边形成网格框(3)，其特征在于：所述通孔(2)通过光蚀刻加工贯穿整个金属基板(1)，所述网格框(3)通过半蚀刻加工，厚度小于金属基板(1)的原厚度。
【技术特征摘要】
1.一种半蚀刻网格框，包括金属基板(I)以及位于金属基板(I)上的多个通孔(2)，所述通孔(2)的周边形成网格框(3)，其特征在于所述通孔(2)通过光蚀刻加工贯穿整个金属基板(I)，所述网格...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈雪尧，梁泰频，何公明，王满根，史小军，
申请(专利权)人：宁波东盛集成电路元件有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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