【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种气泡式反应清洗装置,是以一气泡式反应去除一基材表面的有机物,该清洗装置包含:一反应槽,该反应槽用以容置该基材,并提供该基材清洗的空间;一反应气体供应源,该反应气体供应源与该反应槽连接,该反应气体供应源用以对该反应槽输出一反应气体;一反应液体供应源,该反应液体供应源用以输出一反应液体;一温度控制系统,该温度控制系统与该反应液体供应源连接,该温度控制系统用以控制该反应液体的温度,并将该反应液体输出至该反应槽;一气泡产生机构,该气泡产生机构用以接收该反应气体后,输出至该反应液体中产生一气泡;一运动单元,该运动单元用以使该基材于该反应槽中产生一转动位移;一压力控制系统,该压力控 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:金光祖,陈秋美,徐静怡,郭詠琪,
申请(专利权)人:财团法人工业技术研究院,
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。