超临界流体清洗方法及其系统技术方案

一种超临界流体清洗方法及其系统，是配合超临界流体清洗系统，以超临界流体清洁具有表面微结构的材料表面，再以超临界流体进行元件浸泡、清洗与干燥的步骤，元件表面可包含纳米孔洞或高深宽比微结构，以此超临界流体清洗方法可移除元件表面的不纯物质或水气。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种超临界流体清洗方法，用以移除置于一处理槽的一元件表面的不纯物质，其特征在于，其步骤包含：通入一第一超临界流体于该处理槽以清洁该元件表面；排放该第一超临界流体；通入一第二超临界流体于该处理槽以浸泡该元件；使该第二超临界流体动态循环以冲洗该元件；及干燥该元件。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：金光祖，陈秋美，张佩琳，陈宜晶，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]