光刻设备和平台系统技术方案

本发明专利技术公开了一种光刻设备和平台系统。所述平台系统包括：物体台，构造成保持物体；短行程致动器元件，构造成在第一移动范围上对所述物体台移位；和长行程致动器元件，构造成在第二移动范围上对所述短行程致动器元件移位，所述第二移动范围大于所述第一移动范围。平台系统还包括气动补偿装置，气动补偿装置包括：传感器，布置成测量表示在所述短行程致动器元件上的气动扰动力的量；致动器，布置成提供补偿力，以至少部分地补偿所述气动扰动；和控制器。传感器连接至控制器的控制器输入，致动器连接至控制器的控制器输出，控制器布置成响应于从传感器接收的信号来驱动致动器。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种平台系统和包括这样的平台系统的光刻设备。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常应用到所述衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀齐IJ)层上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括所谓步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印到所述衬底上，而将所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。衬底由衬底台保持，该衬底台由致动器移动以便能够辐射衬底的表面的连续的多个部分，例如使用步进或扫描工序。在通常的实施方式中，致动器包括两个主要部分下部(所谓的长行程)和上部(所谓的短行程)，该下部负责粗定位，该上部负责精定位。为了优化短行程的性能，应当将尽可能小的扰动作用到短行程上。这意味着理想地在长行程和短行程之间没有机械或其它耦接，使得长行程移动或变形不会不利地影响短行程的性能。传统的设计通过利用数量被最小化的柔性很好的连接和由6自由度(DoF)洛伦兹致动器系统的致动来最小化串扰。
技术实现思路
期望提供精确的短行程定位。根据本专利技术的一个实施例，提供了一种平台系统，包括物体台，构造成保持物体；短行程致动器元件，构造成在第一移动范围上将所述物体台移位；长行程致动器元件，构造成在第二移动范围上对所述短行程致动器元件移位，所述第二移动范围大于所述第一移动范围，所述平台系统还包括气动补偿装置，所述气动补偿装置包括传感器，布置成测量表示所述短行程致动器元件上的气动扰动力的量；致动器，布置成提供补偿力，以至少部分地补偿所述气动扰动；和控制器，所述传感器连接至所述控制器的控制器输入，所述致动器连接至所述控制器的控制器输出，所述控制器布置成响应于从传感器接收的信号来驱动所述致动器。在本专利技术的另一实施例中，提供了一种平台系统，包括物体台，构造成保持物体；短行程致动器元件，构造成在第一移动范围上对所述物体台移位；长行程致动器元件，构造成在第二移动范围上对所述短行程致动器元件移位，所述第二移动范围大于所述第一移动范围，所述平台系统包括连接开口，所述连接开口将在所述长行程致动器元件和短行程致动器元件之间的间隙连接至所述平台系统的外部环境，以允许气体经由所述连接开口流入到所述间隙中和从所述间隙流出。根据本专利技术的另一实施例，提供了一种平台系统，包括物体台，构造成保持物体；短行程致动器元件，构造成在第一移动范围上对所述物体台移位；长行程致动器元件，构造成在第二移动范围上对所述短行程致动器元件移位，所述第二移动范围大于所述第一移动范围；和开口，所述开口设置成穿过所述长行程致动器元件，所述开口从在所述短行程致动 器元件和长行程致动器元件之间的间隙朝向在所述长行程致动器元件和静止结构之间的间隙延伸。根据本专利技术的另一实施例，提供了一种平台系统，包括物体台，构造成保持物体；短行程致动器元件，构造成在第一移动范围上对所述物体台移位；长行程致动器元件，构造成在第二移动范围上对所述短行程致动器元件移位，所述第二移动范围大于所述第一移动范围，其中所述短行程致动器元件包括加强肋，所述加强肋设置有通孔。根据本专利技术的又一实施例，提供了一种光刻设备，包括任何上述的平台系统。附图说明现在参照随附的示意性附图，仅以举例的方式，描述本专利技术的实施例，其中，在附图中相应的附图标记表示相应的部件，且其中图I示出可以设置本专利技术的一实施例的光刻设备；图2示出平台系统的示意图，用于显示本专利技术的一实施例的总体构思；图3示出根据本专利技术的一实施例的平台系统的示意图；图4示出根据本专利技术的一实施例的平台系统的示意图；图5示出根据本专利技术的一实施例的平台系统的示意图；图6示出根据本专利技术的一实施例的平台系统的示意图；图7A和7B示出可以应用本专利技术的一实施例的平台系统的示意侧视图；图8A和8B示出根据本专利技术的一实施例的平台系统的示意侧视图；和图9示出根据本专利技术的一实施例的平台系统的示意图。具体实施例方式图I示意性地示出根据本专利技术的一个实施例的光刻设备。所述设备包括照射系统(照射器)IL，配置用于调节辐射束B(例如，紫外(UV)辐射或任何其它适合的辐射)；掩模支撑结构或图案形成装置支撑件(例如掩模台)MT，构造用于支撑图案形成装置(例如掩模)MA并与配置用于根据确定的参数精确地定位图案形成装置的第一定位装置PM相连。所述设备还包括衬底台(例如晶片台)WT或“衬底支撑件”，其构造用于保持衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W，并与配置用于根据确定的参数精确地定位衬底的第二定位装置PW相连。所述设备进一步包括投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，所述投影系统PS配置用于将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C (例如包括一根或更多根管芯)上。所述照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。图案形成装置支撑件以依赖于图案形成装置的方向、光刻设备的设计以及诸如图案形成装置是否保持在真空环境中等其它条件的方式保持图案形成装置。图案形成装置支撑件可以采用机械的、真空的、静电的或其它夹持技术来保持图案形成装置。图案形成装置支撑件可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。图案形成装置支撑件可以确保图案形成装置位于所需的位置上(例如相对于投影系统)。在这里任何使用的术语“掩模版”或“掩模”都可以认为与更上位的术语“图案形成装置”同义。这里所使用的术语“图案形成装置”应该被广义地理解为表示能够用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束、以便在衬底的目标部分上形成图案的任何装置。应当注意，被赋予辐射束的图案可能不与在衬底的目 标部分上的所需图案完全相符(例如如果该图案包括相移特征或所谓辅助特征)。通常，被赋予辐射束的图案将与在目标部分上形成的器件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。图案形成装置可以是透射式的或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列以及可编程液晶显示(LCD)面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型、衰减型相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独立地倾斜，以便沿不同方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束。这里使用的术语“投影系统”应该广义地解释为包括任意类型的投影系统，包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型和静电型光学系统、或其任意组合，如对于所使用的曝光辐射所适合的、或对于诸如使用浸没液或使用真空之类的其他因素所适合的。这里使用的术语“投本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
2011.02.25 US 61/446,8571.一种平台系统，包括 物体台，构造成保持物体； 短行程致动器元件，构造成在第一移动范围上对所述物体台移位； 长行程致动器元件，构造成在第二移动范围上对所述短行程致动器元件移位，所述第二移动范围大于所述第一移动范围，和气动补偿装置，包括 传感器，布置成测量表示所述平台系统的元件上的气动扰动力的量， 致动器，布置成提供补偿力，以至少部分地补偿所述气动扰动，和控制器，布置成响应于从传感器接收的信号来驱动所述致动器，其中所述传感器连接至所述控制器的控制器输入，所述致动器连接至所述控制器的控制器输出。2.根据权利要求I所述的平台系统，其中所述元件是短行程致动器元件。3.根据权利要求I所述的平台系统，设置有位置测量系统，用于测量所述短行程致动器元件和长行程致动器元件中的一个的位置，其中所述元件是所述位置测量系统的一部分。4.根据权利要求1-3中任一项所述的平台系统，其中所述传感器包括压力传感器。5.根据权利要求4所述的平台系统，其中所述压力传感器被弹性地安装至所述长行程致动器元件。6.根据权利要求1-3中任一项所述的平台系统，其中所述传感器包括加速度计。7.根据权利要求6所述的平台系统，其中所述加速度计基本上设置在所述物体台的弯曲模式或扭曲模式的腹点位置处。8.根据权利要求6或7所述的平台系统，其中所述控制器包括估计器，所述估计器布置成根据由所述加速度计测量的加速度确定压力变化。9.根据前述权利要求中任一项所...

【专利技术属性】
技术研发人员：JG·C·范德图恩，马塞尔·K·M·博根，S·G·克罗伊斯威克，J·P·斯特瑞弗德，马克·康斯坦丁·约翰内斯·拜根，M·J·沃奥尔戴尔冬克，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：