环烷二羧酸单酯的制造方法技术

一种环烷二羧酸单酯的制造方法，其特征在于，包含：利用Z表示的基团对式（1-A）表示的化合物的2个羧基（-COOH）进行保护来获得式（2-A）表示的化合物的第一工序，和利用酸对第一工序中得到的式（2-A）表示的化合物的Z表示的基团中的任一个进行脱保护来获得式（3-A）表示的化合物的第二工序。（式中，m表示0~3的整数，p表示0或者1，Z表示甲硫基甲基等，R5、R6和R7各自独立地表示氢原子、碳原子数为1~8的烷基、碳原子数为1~8的烷氧基、苯基或者苄基）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
近年来，作为在平板显示装置中使用的、能够适用于偏振片、相位差板等光学膜的液晶材料，含有环烷结构的化合物受到注目，作为所涉及的化合物的合成中间体，优选使用环烷二羧酸单酯。在日本特开昭62-289545号公报中，作为公开了使醇与环烷二甲酰氯反应的方法、以及在二环己基碳二亚胺等缩合剂的存在下使醇与环己烷二羧酸反应的方法。
技术实现思路
本专利技术提供< I >一种，其特征在于，包含利用Z表示的基团对式(I-A)表示的化合物的2个羧基(-C00H)进行保护来获得式(2-A)表示的化合物的第一工序，以及利用酸对第一工序中得到的式(2-A)表示的化合物的Z表示的基团中的任一个进行脱保护来获得式(3-A)表示的化合物的第二工序；

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2009.12.01 JP 2009-273225;2010.04.07 JP 2010-088391.一种环烷二羧酸单酯的制造方法，其特征在于，包含 利用Z表示的基团对式(I-A)表示的化合物的2个羧基即-COOH进行保护来获得式(2-A)表示的化合物的第一工序，以及 利用酸对第一工序中得到的式(2-A)表示的化合物的Z表示的基团中的任一个进行脱保护来获得式(3-A)表示的化合物的第二工序；2.根据权利要求I所述的制造方法，其中，第二工序中的脱保护在含有脂肪族烃的溶剂中实施。3.根据权利要求2所述的制造方法，其中，含有脂肪族烃的溶剂是脂肪族烃的含量为30质量％ 100质量％的溶剂。4.根据权利要求2所述的制造方法，其中，脂肪族烃是选自戊烷、己烷、环己烷、庚烷以及辛烷中的至少I种。5.根据权利要求I所述的制造方法，其中，酸是布朗斯台德酸。6.根据权利要求I所述的制造方法，其中，酸为三氟乙酸或者三氯乙酸。7.根据权利要求I所述的制造方法，其中，酸的量相对于I摩尔式(2-A)表示的化合物为0. I摩尔 3摩尔。8.根据权利要求I所述的制造方法，其中，在第二工序中进一步包含对作为杂质生成的式(I-A)表示的化合物进行回收的工序，将在该工序中回收的式(I-A)表示的化合物再利用于第一工序中。9.根据权利要求I所述的制造方法，其中，在第二工序中进一步包含对未反应的式(2-A)表示的化合物进行回收的工序，将在该工序中回收的式(2-A)表示的化合物再利用于第二工序。10.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：大川春树，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：