【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学领域，更具体地说，涉及一种超材料成像系统。
技术介绍
目前，对于汇聚电磁波成像，利用凸透镜来完成的，在光学中，利用凸透镜汇聚电磁波能使物体在凸镜的另一侧成像，我们知道，物体放在凸透镜焦点之外，在凸透镜另一侧成倒立的实像，实像有缩小、等大、放大三种。物距越小，像距越大，实像越大。物体放在凸透镜焦点之内，在凸透镜同一侧成正立放大的虚像。物距越小，像距越小，虚像越小。凸透镜对电磁波的汇聚是通过凸透镜的球面形状的折射来实现电磁波的汇聚的，这种方法要得到高分辨率的成像图就需要制造高精度的汇聚凸透镜、设计不灵活、体积较大、从加工工艺来说不易实现、而且凸透镜的介质很容易老化。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题在于，针对现有技术的实现电磁波的汇聚的凸透镜设计不灵活、成本高以及介质容易老化等缺陷，提供一种简单、易于实现以及成本低的超材料成像系统。本专利技术解决其技术问题所采用的第一技术方案是一种超材料成像系统，从发射源到接收天线依次包括第一超材料透镜、待成像区域以及第二超材料透镜，所述第一超材料透镜以及第二超材料透镜均存在一区段，所述区段的中部各单元的等效...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.ー种超材料成像系统，其特征在于，从发射源到接收天线依次包括第一超材料透镜、待成像区域以及第二超材料透镜，所述第一超材料透镜以及第ニ超材料透镜均存在一区段，所述区段的中部各単元的等效介电常数ε与等效磁导率μ之乘积为最高值，其它各单元的等效介电常数ε与等效磁导率μ乘积值从小到大呈渐变趋势，且，其所述渐变趋势向所述最高值所在的单元趋近，物体发射的电磁波经所述的第一超材料透镜汇聚后输入至所述的待成像区域，所述待成像区域将汇聚过的电磁波再散射入所述的第二超材料透镜，所述的第二超材料透镜汇聚所述散射过的电磁波后输出至所述接收天线成像。2.根据权利要求I所述的超材料成像系统，其特征在于，所述超材料由片状基板組成，每个片状基板上均附着有多个人造微结构，所有的人造微结构在空间中形成周期阵列。3.根据权利要求I所述的超材料成像系统，其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘若鹏，石小红，徐冠雄，张洋洋，
申请(专利权)人：深圳光启高等理工研究院，深圳光启创新技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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