单张涂膜形成装置及单张涂膜形成方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种单张涂膜形成装置以及单张涂膜形成方法，其不会产生涂膜的膜厚、色度及／或光学浓度的离散，且可以在板状被处理物上形成预定膜厚、色度及／或光学浓度。本发明专利技术的单张涂膜形成装置包括：由狭缝喷嘴向板状被处理物的表面供给涂布液的涂布装置、对涂布在前述板状被处理物的表面上的涂布液进行干燥的减压干燥装置、对前述干燥后的涂布液进行加热的加热装置，在单张涂膜形成装置中设置测定装置，对由前述加热装置加热后的前述板状被处理物的膜厚、色度及／或光学浓度进行测定，并将其测定结果转送给前述涂布装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，对形成于板状被处理物的表面的覆膜的膜厚、色度及/或光学浓度进行测定，并将该测定结果进行反馈，在测定结果未达到预定的膜厚、色度及/或光学浓度时进行预定的处理。
技术介绍
一直以来，要在半导体晶片或玻璃基板等的板状被处理物表面上涂布抗蚀剂液等，采用的方法是从喷嘴将涂布液滴下并供给到载置于旋转器上的被处理物的中心部，通过旋转器使被处理物旋转，利用由此产生的离心力使涂布液向外侧扩散，其后进行烘焙而结束涂布。在该方法中，可稳定地形成均匀的涂布膜，设定一次涂布条件即可，无需测定每一张涂布膜的厚度就可形成均匀的涂布膜。可是，与供给的涂布液量相比，实际上作为涂布膜而留在基板上的涂布液量过少。即、没有作为涂布液使用就被原样浪费掉的涂布液量过多。进而，基板的尺寸越大浪费掉的涂布液量就越多，其浪费的数量已达到了不能坐视不管的程度。于是，考虑取代旋转器涂布而在喷嘴本身开出预定宽度的涂布液排出口，通过移动喷嘴来在被处理物表面上以预定宽度涂布涂布液。若使用上述的具有预定宽度的涂布液排出口的狭缝喷嘴，则虽然可以不浪费涂布液地高效进行涂布，但因为不使被处理基板旋转，所以最初涂布的涂膜的厚度就原封不动地成为膜厚。由此，有时供给的涂布液量也因为配管的空气而不同，导致涂膜的厚度变得不均匀。又，由于该膜厚的不均匀而产生色度或光学浓度的不均匀。因此，在以狭缝喷嘴进行涂布的情况下，必须进行控制，来检查涂膜的厚度、色度及/或光学浓度是否满足了设定好的条件，于是，利用来自配备于狭缝喷嘴下方向附近的排出膜厚尺寸测定传感器的信号，通过控制机构预先输入的排出膜厚尺寸值与带材行进速度两者的相关程序而算出带材表面涂布膜厚尺寸值，送出到操作板的显示屏上，从而控制狭缝喷嘴的排出膜厚。又，行进的带材表面上的涂布膜厚尺寸通过涂布膜厚测定传感器来进行确认，所述涂布膜厚测定传感器设于狭缝喷嘴后方一侧，一边在带材的板宽方向上连续地横向移动一边进行测定。在确认了其设定误差的情况下，提出了无需停止生产线而通过操作板的运转来进行微调整的方法(专利文献1)专利文献1特开平07-204561号公报(第2页～第3页、图2)可是，上述特开平07-204561号公报所公开的狭缝喷嘴涂布装置通过排出膜厚尺寸测定传感器及涂布膜厚测定传感器来一边使带材行进一边对带材的膜厚进行控制，所述排出膜厚尺寸测定传感器配备于狭缝喷嘴下方向附近，所述涂布膜厚测定传感器设于狭缝喷嘴后方一侧，一边在带材的板宽方向上横向移动一边进行测定，因此，难于检测出在单张涂布中成为问题所在的涂膜开始位置附近的部分的膜厚变动或色度变动、及/或光学浓度变动。特别是，若在涂布液供给配管内存在气泡，则又产生了刚刚开始涂布后的膜厚、色度及/或光学浓度的离散变大的问题。
技术实现思路
本专利技术鉴于上述问题而提出，其目的在于提供一种单张涂膜形成装置以及单张涂膜形成方法，其不会产生涂膜开始位置附近的涂膜厚度的离散，且可以在板状被处理物上形成预定厚度的覆膜。为了解决上述课题，本申请专利技术的涂膜形成装置，包括由狭缝喷嘴向板状被处理物的表面供给涂布液的涂布装置、使涂布在前述板状被处理物的表面上的涂布液在一定程度上干燥(在输送中不会波动、流动的程度)的减压干燥装置、使在一定程度上干燥了的该涂布液进一步干燥而形成覆膜的加热装置，其中，设置有膜厚测定装置，对由前述加热而形成的覆膜的膜厚、色度及/或光学浓度进行测定，并将其测定结果反馈给前述涂布装置。又.本专利技术的单张涂膜形成方法，由狭缝喷嘴向板状被处理物的表面供给涂布液，接着对前述板状被处理物的表面的涂布液进行减压干燥，使得涂布液在一定程度上干燥，然后进行加热，使涂布液进一步干燥而形成覆膜，由测定装置来测定该覆膜的膜厚、色度及/或光学浓度，在该测定结果未达到预定的值的情况下，暂时停止前述涂布装置，从前述狭缝喷嘴进行抽气及/或前端清洗之后，再次起动涂布装置。专利技术效果根据本专利技术，对涂膜形成后的板状被处理物的膜厚、色度及/或光学浓度进行测定，其结果，在测定到与预定值不同的值时，停止涂膜形成装置，进行单张涂布液供给用配管内的抽气或喷嘴的前端清洗等必要的处理，由此可快速处理异常情况。附图说明图1是本专利技术的单张涂膜形成装置的构成图。图2是本专利技术的单张涂膜形成装置的流程图。具体实施例方式以下，基于附图来说明本专利技术的实施方式。在此，图1是本专利技术的单张涂膜形成装置的构成图，图2是本专利技术的单张涂膜形成装置的流程图。如图1所示，单张涂膜形成装置包括送入部、涂布装置、减压干燥装置、接收部、加热装置及冷却装置、输送部、分配部。在涂布装置上设有狭缝喷嘴。涂布液通过泵A供给该狭缝喷嘴，空气阀A对其供给量进行控制，此外，该狭缝喷嘴通过空气阀B与泵B来与用狭缝喷嘴抽气箱连接。另外，空气阀B除了将狭缝喷嘴的空气抽出时以外一直处于关闭状态。此外，在减压干燥装置中，在短时间内从整个涂布液中除去一定程度的溶剂而作成半干燥状态，使得在输送中不会产生波动或流落的现象。另外，若不减压干燥就马上由加热装置进行加热，则易于产生仅涂膜的表面凝固的现象，溶剂具有浓度梯度而导致残留在涂膜中，这是不理想的。此外，本实施例的加热装置一次可以烘焙3张的板状被处理物，冷却装置一次可以冷却一张的被处理物。进而，在输送部的后部设有对板状被处理物的膜厚、色度及/或光学浓度进行测定的测定装置。该测定装置通过控制器传感器来控制空气阀A及B的开闭。这样，从狭缝喷嘴向送到涂布装置来的板状被处理物供给涂布液，然后由减压干燥装置进行减压干燥，其后经由接收部，通过自动机械而送到加热装置。在加热装置中被烘焙了的板状被处理物由冷却装置冷却后，通过设于输送部的测定装置来测定膜厚、色度及/或光学浓度。在本实施例中使用的膜厚测定装置是色度测定仪。该色度测定仪利用颜色来测定膜厚的厚度。另外，膜厚测定不限于使用色度测定仪。又，板状被处理物的测定部位没有特别的限制，但至少需要包含涂布开始位置与基板中央部的各一个点。作为本专利技术的工作例，对使用以面内3点的色度值来管理红色的涂膜的膜厚的例子进行说明。在此，管理标准设为中心值±7/1000。如图2所示，在测定结果未超过标准中心值±7/1000的情况下，板状被处理物被原样送入分配部。另一方面，在测定结果超过标准中心值±7/1000的情况下，产生报警信号，停止板状被处理物向涂布装置的送入，狭缝喷嘴在浸渍位置待机，与此同时，空气阀A关闭，停止涂布液的送入。接着，打开空气阀B后，开始狭缝喷嘴的抽气。然后，进行狭缝喷嘴的清洗，进行预分配之后解除报警，回到通常动作而再次开始涂布。即、虽然向板状被处理物供给涂布液并烘焙来形成涂膜，但若在涂布液供给配管内存在空气，则涂布开始的膜厚比预定膜厚要薄。又，供给的涂布液量也由于配管等中的空气而产生离散，不能连续地形成稳定的涂膜。以往，虽然在涂布液箱与狭缝喷嘴之间添设除气装置，但是在狭缝喷嘴前端反复进行反吸等动作时，配管内的空气会堆积在狭缝喷嘴中。本专利技术通过自动地抽去该空气，可以抑制涂布开始的膜厚比预定膜厚要薄的现象。另外，在本实施方式中，虽然在输送部上设置了测定仪，但是也可以设置在接收部或输送带上。工业实用性对烘焙之后的膜厚、色度及/或光学浓度进行测定，在与预定值不同的情况下，暂时停止涂布装置，抽去狭缝喷嘴的空本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单张涂膜形成装置，包括：由狭缝喷嘴向板状被处理物的表面供给涂布液的涂布装置、使涂布在前述板状被处理物的表面上的涂布液在一定程度上干燥的减压干燥装置、使在一定程度上干燥了的前述涂布液进一步干燥而形成覆膜的加热装置，其特征在于，设置有测定装置，对由前述加热而形成的覆膜的膜厚、色度及／或光学浓度进行测定，并将其测定结果反馈给前述涂布装置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：松本力也，酒井昭雄，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，东京応化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]