本发明专利技术以更加容易、且高生产率提供具备折射率倾斜硬涂层的光学薄膜为目的。本发明专利技术的光学薄膜的制造方法，其特征为包含：(i)准备透光性基材的工序；(ii)准备含有第一粘合剂成分及第一溶剂、不含有高折射率微粒且粘度为3～100mPa·s的第一硬涂层用固化性树脂组合物，以及含有平均粒径1～100nm的高折射率微粒、第二粘合剂成分及第二溶剂且粘度为10～100mPa·s的第二硬涂层用固化性树脂组合物的工序；(iii)在所述透光性基材的一侧，从所述透光性基材侧开始，以使所述第一硬涂层用固化性树脂组合物及所述第二硬涂层用固化性树脂组合物邻接，且所述第一硬涂层用固化性树脂组合物比所述第二硬涂层用固化性树脂组合物更靠近所述透光性基材侧的方式进行同时涂布，来制作涂膜的工序；以及(iv)对所述(iii)工序中得到的涂膜进行光照射使之固化，形成折射率倾斜硬涂层的工序。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在液晶显示器(IXD)、阴极管显示装置(CRT)、有机电致发光(有机EL)或等离子体显示器(rop)等显示器(图像显示装置)的前面等所设置的光学薄膜、具有所述光学薄膜的偏振板及图像显示装置。现有技术在如上所述的显示器中，要求对显示器的图像显示面赋予在操作时不公损伤般的耐擦伤性。对于此，一般通过利用在基材薄膜上设置硬涂(以下，简单称为“HC”)层的光学薄膜和HC薄膜，则可对显示器的图像显示面赋予耐擦伤性(例如，专利文献I)。、另外，于如上所述的显示器中，为提高其显示面的辨视性，要求来自荧光灯等外部光源所照射的光线反射少。作为抑制外部光反射的方法，一般已知将在显示面的最外表面设置折射率最低的低折射率层、且在低折射率层的显示侧邻接设置折射率高的高折射率层的防反射薄膜，设置于显示器前面的方法。另外，也已知有从显示侧设置折射率为中等程度的层、折射率高的层以及折射率低的层的防反射薄膜。为了形成此种折射率中等程度至折射率高的层，一般将含有高折射率微粒的折射率层邻接设置至低折射率层，并且使邻接至低折射率的HC层和抗静电层等功能层含有高折射率微粒(例如，专利文献2)。但是，将中折射率层或高折射率层与HC层等功能层，分别以ー层层依次(逐次)形成时，具有エ序数增加且制造成本上升的问题，及所述高折射率层与HC层等的密合性低的问题。另外，在专利文献2的专利技术中，高折射率微粒在硬涂层的低折射率层侧的界面附近偏在并且形成罩面层(skin coat)，但硬涂层内的罩面层与其他部分的边界明显，故具有在此边界产生干涉条纹的问题。在专利文献3的专利技术中，意图提供可低反射化，且可防止干渉条纹发生的光学薄膜，其方案是，在基材上依次层叠硬涂层、高折射率倾斜硬涂层及低折射率层的光学薄膜，根据特定的制造方法形成硬涂层与高折射率倾斜硬涂层呈一体的高折射率倾斜硬涂层，并且防止干涉条纹的光学薄膜。但是，在专利文献3的专利技术中也难以高效率得到折射率倾斜硬涂层，目前谋求更加容易、且以高效率获得折射率倾斜硬涂层的方法。日本专利特开2008-165040号公报日本专利特开2009-086360号公报日本专利特开2009-265658号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题本专利技术为了解决上述问题点而完成的，以提供具有能够更加容易且高效率得到的折射率倾斜硬涂层的光学薄膜为其目的。另外，本专利技术以提供具备此种光学薄膜的偏振板及图像显示装置为其目的。解决问题的手段本专利技术人等进行了深入研究的结果，发现准备含有具有特定粘度的高折射率微粒的组合物、和不含有具有特定粘度 的高折射率微粒的组合物这2种组合物，并且通过从基材侧开始的层叠顺序以所述不含有高折射率微粒的组合物及含有高折射率微粒的组合物的顺序来配置的方式进行同时涂布，则可控制高折射率微粒的扩散，从而可容易且高生产率地获得具备折射率倾斜硬涂层的光学薄膜，最终完成了本专利技术。S卩，解决上述问题的本专利技术的光学薄膜的制造方法，其特征包含(i)准备透光性基材的工序；(ii)准备含有第一粘合剂成分及第一溶剂、不含有高折射率微粒且粘度为3 IOOmPa *s的第一硬涂层用固化性树脂组合物，以及含有平均粒径I IOOnm的高折射率微粒、第二粘合剂成分及第二溶剂且粘度为10 IOOmPa ·s的第二硬涂层用固化性树脂组合物的工序；(iii)在所述透光性基材的一侧，从所述透光性基材侧开始，以使所述第一硬涂层用固化性树脂组合物及所述第二硬涂层用固化性树脂组合物邻接，且所述第一硬涂层用固化性树脂组合物比所述第二硬涂层用固化性树脂组合物更靠近所述透光性基材侧的方式进行同时涂布，来制作涂膜的工序；以及(iv)对所述(iii)工序中得到的涂膜进行光照射使之固化，形成折射率倾斜硬涂层的工序。通过将不含有高折射率微粒、粘度3 IOOmPa · s的第一硬涂层用固化性树脂组合物(以下，简单称为“第一组合物”)，以及含有平均粒径I IOOnm的高折射率微粒、粘度为10 IOOmPa · s的第二硬涂层用固化性树脂组合物(以下，简单称为“第二组合物”，以所述第一组合物与透光性基材侧邻接的方式进行同时涂布，并使之固化，从而可容易、且高生产率地获得折射率倾斜硬涂层。 此处，折射率倾斜HC层的折射率，是指折射率倾斜HC层的与透光性基材相反侧界面的折射率。另外，所谓折射率的倾斜，是指在折射率倾斜HC层内，从与透光性基材相反侧的界面朝向透光性基材侧界面，折射率连续性变化。在折射率倾斜HC层内折射率倾斜，可根据下列方法加以确认。将折射率倾斜HC层通过氩溅镀予以蚀刻使折射率倾斜HC层的特定深度的部分露出，并且使用X射线光电子分光装置(XPS)测定此露出部分的高折射率微粒含量。根据此方法，可确定折射率倾斜HC层的深度方向的高折射率微粒的存在量分布。折射率倾斜HC层的各深度位置的折射率，与高折射率微粒的存在量相关，故通过确认折射率倾斜HC层的深度方向的高折射率微粒的存在量分布倾斜，则可确认折射率倾斜。另外，使用热固化性树脂将光学薄膜包埋，并使用LEICA公司制的超威切片机将包埋的光学薄膜制作成80nm厚度的超薄切片，并且以穿透型电子显微镜(TEM)予以观察也可测定。所谓高折射率微粒，是指折射率为I. 50 2. 80的微粒。在本专利技术的光学薄膜的制造方法中，上述第一硬涂层用固化性树脂组合物及/或第二硬涂层用固化性树脂组合物还含有增粘剂，从易于控制折射率倾斜硬涂层内的高折射率微粒的分布方面而言优选。在本专利技术的光学薄膜的制造方法中，上述第一硬涂层用固化性树脂组合物的粘度与上述第二硬涂层用固化性树脂组合物的粘度之差的绝对值为30以下，从易于控制折射率倾斜硬涂层内的高折射率微粒的分布方面而言优选。在本专利技术的光学薄膜的制造方法中，上述透光性基材为三乙酰纤维素基材，上述第一溶剂具有向所述三乙酰纤维素基材的浸透性，从抑制光学薄膜中的干涉条纹的观点而言优选。在本专利技术的光学薄膜的制造方法中，在上述(iv)工序之后，也可还包含(V)在上述折射率倾斜硬涂层上，直接或夹隔着高折射率层形成低折射率层的工序。通过如此在折射率倾斜HC层上直接或夹隔着高折射率层设置低折射率层，则可进一步提高光学薄膜的 防反射性。在本专利技术的光学薄膜的制造方法中，固化形成上述低折射率层的低折射率层用组合物含有中空二氧化硅微粒，因可对光学薄膜赋予优异的防反射性，故优选。在本专利技术的光学薄膜的制造方法中，固化形成上述低折射率层的低折射率层用组合物，在含有由金属氟化物及固化性氟树脂所构成的组中选出的至少I种低折射率材料的情况下，也可取得具有充分防反射性的光学薄膜。在本专利技术的光学薄膜的制造方法中，固化形成上述低折射率层的低折射率层用组合物，不含有中空二氧化硅微粒，而含有由金属氟化物及固化性氟树脂所构成的组中选出的至少I种低折射率材料，从通式具有充分的防反射性和耐皂化性的观点出发优选。在本专利技术的光学薄膜的制造方法中，也可在上述(i)工序与(iii)工序之间，还包含(Vi)在上述透光性基材的设置折射率倾斜硬涂层的面形成抗静电层的工序。通过抗静电层可提高光学薄膜的抗静电性。本专利技术的光学薄膜是根据上述任一种制造方法而得的光学薄膜。本专利技术的光学薄膜，是在透光性基材的一侧，至少设置折射率倾斜硬涂层的光学薄膜，其特征为，所述折射率倾斜本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：宫之胁伸，筱原诚司，桥本浩二，林祐辅，村上茂树，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：
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