【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】关于联邦政府资助的研究或开发的声明美国政府在本专利技术中具有已缴费许可,另外根据美国国家标准学会(National Institute of Standard)(NIST)ATP奖授予的70NANB4H3012合同条件,美国政府在限定的情况下具有要求专利权所有人以合理的条件许可他人使用本专利技术的权利。
技术介绍
本专利技术的领域一般涉及结构的微型制造。更具体来说,本专利技术涉及适用于压印光刻(imprint lithography)的聚合技术。微型制造包括制造极小的结构,例如这些结构可具有约数微米或更小的结构特征。微型制造具有相当大影响的一个领域是在集成电路加工。由于半导体加工工业在增加基片上每单位面积所形成的电路的数量的同时,还致力于提高生产率,因此微型制造正在变得越来越重要。微型制造提供了更高程度的过程控制,同时使得能够更大程度地减小形成的结构的最小特征尺寸。其它的已经应用微型制造的正在发展的领域包括生物技术、光学技术、机械系统等。一种示例性的微型制造技术常被称为压印光刻,在许多公开出版物中进行了详细描述,例如参见美国公开的专利申请第2004/0065976号,其 ...
【技术保护点】
一种使处于大气之中且包含许多分子的可聚合液体固化的方法,所述方法包括: 形成初级自由基; 通过使一部分的所述初级自由基与所述大气中的分子相互反应,形成次级自由基; 通过使所述许多分子与所述次级自由基相互反应,生成三级自由基,从而将所述许多分子中的一部分分子连接起来。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:FY徐,EB弗莱彻,PB拉德,MPC瓦茨,
申请(专利权)人:分子制模股份有限公司,
类型:发明
国别省市:US[美国]
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