【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及有机硅化合物和包含其的具有光防护性质的个人护理组合物。
技术介绍
太阳辐射包括大约5%紫外线(UV)辐射,其波长为200纳米至400纳米。其进ー步分成三个区域:320至400纳米(UV-A)、290至320纳米(UV-B)和200至290纳米(UV-C)。大部分UV-C辐射被臭氧层吸收。科学研究已表明,短时间暴露在UV-A和UV-B辐射下造成皮肤变红和局部刺激,而持续长期暴露会造成晒伤、黑色素瘤和皱纹形成。也报道了 UV辐射对头发造成显著破坏。因此希望保护皮肤和人体的其它角蛋白基质免受UV-A和UV-B辐射的有害影响。此外,保护身体免受可见光谱的破坏效应也是重要的。可见光部分为400至800纳米。据信,持续暴露在可见光下对皮肤造成破坏效应,如红斑、色素沉着、热损伤和自由基生成(Bassel 等人,Effects of Visible Light on the Skin, Photochemistry andPhotobiology第84卷第2期,第450-462页,2008)。因此除了防紫外线外,还必须获得 包括可见光在内的更广谱防护。个人护理产品如乳霜(creams)和乳液(lotions)用于减轻这些效应和/或防止进ー步损伤。为此,通常在其中加入遮光剂(sunscreens)或防晒剂(sun block agents)以保护皮肤免受紫外线福射的有害效应。有机遮光剂吸收大部分入射UV辐射,由此防止该辐射接触皮肤表面。它们具有UV吸收位点,被称作发色团,这些主要负责它们的活性。ー些遮光剂吸收UV-A辐射,而ー些吸收UV-B辐射。传统UV- ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2009.10.12 IN 2362/MUM/20091.下列通式的有机硅化合物2.如权利要求I中所述的有机硅化合物,其中所述Vis是类姜黄素衍生物。3.如权利要求I或权利要求2中所述的有机硅化合物的制备方法,包括步骤 Ca)使 (i)含Si-H的硅氧烷与 (ii)下式的化合物Vi-O-(CH2)0^50-CH=CH2 或 CH2=CH- (CH2) 0_50-Vi-0- (CH2) 0_50_CH=CH2 或Vi-O- (CH2)0^50-C = CH或 CH2=CH- (CH2) 0-50-Vi-O- (CH2) 0_50-C e CH 其中Vi是选自类黄酮、类姜黄素、多酚及其衍生物的UV-可见光吸收基团;并与 (iii)具有烯基或炔基的双官能间隔化合物在催化剂和溶剂存在下反应以获得反应产物;和 (b)将所述反应产物添加到溶胀剂中。4.如权利要求3中所述的方法,其中该双官能间隔基具有下式5.如权利要求4中所述的方法,其中Y选自烃、聚...
【专利技术属性】
技术研发人员:AA瓦伊德亚,N戈什,B孔祖皮莱,
申请(专利权)人:AA瓦伊德亚,N戈什,B孔祖皮莱,
类型:发明
国别省市:
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