【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及作为酸增幅型非高分子系抗蚀材料而有用的以特定的化学结构式表示的环状化合物、含有该环状化合物的放射线敏感性组合物、以及使用该组合物的抗蚀图案的形成方法。
技术介绍
常规已知的一般的抗蚀材料是能够形成非晶质薄膜的高分子系材料。例如，将聚甲基丙烯酸甲酯、具有酸解离性反应基的多羟基苯乙烯或聚甲基丙烯酸烷基酯等高分子抗蚀材料的溶液施涂到基板上而形成抗蚀薄膜，然后将其用紫外线、远紫外线、电子束、远紫外线(extreme ultraviolet rays, EUV)或X射线等照射，从而形成45 IOOnm左右宽度的线图案。然而，高分子系抗蚀剂化合物具有分子量大至约10，000-100, 000和宽的分子量分布。因此，在使用高分子系抗蚀剂化合物的平版印刷术中，在微细图案表面上产生凹凸(roughness)，难以控制图案尺寸，由此成品率降低。因此，在使用常规的高分子系抗蚀材料的平版印刷术中，微细化加工有限。为此，提出了各种低分子量抗蚀材料用于制作更微细的图案。例如，已提出使用低分子量的多核多酚化合物作为主要组分的碱显影型的负型放射线敏感性组合物(参照专利文献I及专利文献2)。然而，存在这些组合物的耐热性不足和所得抗蚀图案的形状变差的缺点。作为低分子量抗蚀材料，提出了使用低分子量环状多酚化合物作为主要组分的碱显影型的负型放射线敏感性组合物(专利文献3和非专利文献I)。期待这些低分子量环状多酚化合物由于其低分子量而可提供分子尺寸小、分辨率高、粗糙度小的抗蚀图案。此外，因为在低分子量环状多酚化合物的骨架中具有刚性的环状结构，因此，虽然其为低分子量，但仍赋予高耐热性...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2009.10.06 JP 2009-2325291.一种由下式(I)表示的环状化合物2.根据权利要求I所述的环状化合物，其由下式⑵表示3.根据权利要求I所述的环状化合物，其由下式⑶表示4.根据权利要求I所述的环状化合物，其中R’独立地由下式(1-4)表示5.根据权利要求I所述的环状化合物，其中R’独立地由下式(1-5)表示6.一种生产由式(I)表示的环状化合物的方法，其包括使选自羰基化合物(Al)中的一种或多种与选自酚类化合物(A2)中的一种或多种进行缩合反应。7.—种生产由式(I)表示的环状化合物的方法，其包括使选自羰基化合物(Al)的缩醛化合物(A4)中的一种或多种与选自酚类化合物(A2)中的一种或多种进行缩合反应。8.一种放射线敏感性组合物，其包括根据权利要求I所述的环状化合物和溶剂。9.根据权利要求8所述的放射线敏感性组合物，其中所述环状化合物为通过具有碳数为2-59和1-4个甲酰基的化合物(醛类化合物(AlA))与具有碳数为6_15和1_3个酚式羟基的化合物(酚类化合物(A2))的缩合反应合成并具有分子量为700-5000的环状化合物。10.根据权利要求8所述的放射线敏感性组合物，其包括1-80重量％的固体组分和20-99重量％的溶剂。11.根据权利要求8所述的放射线敏感性组合物，其进一步包含通过用选自由可见光、紫外线、准分子激光、电子束、远紫外线(EUV)、X-射线和离子束组成的组中的任何放射线照射而直接或间接产生酸的产酸剂(C)。12.根据权利要求8所述的放射线敏感性组合物，其进一步包含酸交联剂(G)。1...
【专利技术属性】
技术研发人员：林宏美，越后雅敏，小黑大，
申请(专利权)人：三菱瓦斯化学株式会社，
类型：发明
国别省市：
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