本发明专利技术提供一种激光雕刻用组合物，所述激光雕刻用组合物的特征在于，含有：(成分A)含有两个以上被含有羧酸酯键及/或酰胺键的封端剂保护的封端型异氰酸酯基的化合物；及(成分B)具有两个以上羟基的化合物；一个分子的成分A中的封端型异氰酸酯基数量AI及一个分子的成分B中的羟基数量BH满足式(1)的关系。AI+BH＞4(1)。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及ー种激光雕刻用组合物、激光雕刻用凸版印刷版原版及其制造方法以及凸版印刷版及其制版方法。
技术介绍
目前，提出了许多利用激光对凸版形成层进行直接雕刻而制版的所谓的“直接雕刻CTP方式”。该方式中，对柔性原版直接照射激光，通过光热转换使其发生热分解及挥发，形成凹部。直接雕刻CTP方式与使用了原图膜的凸版形成不同，其可以自由地控制凸版形状。因此，在形成如镂空文字这样的图像的情况下，可以对该区域进行比其它区域更深的雕亥IJ，或者，对于微细网点图像，考虑到对印刷压カ的阻力，可以进行带有台阶的雕刻等。在该方式中所使用的激光通常可使用高输出的ニ氧化碳激光。在使用ニ氧化碳激光的情况下，所有的有机化合物吸收照射能量而可以转化为热。另ー方面，正在开发廉价且小型的半导体激光，但由于这些激光是可见光及近红外光，因此，需要吸收该激光并转化为热。另外，作为激光雕刻用凸版印刷版原版，已知有专利文献I 3中记载的印刷版原版。专利文献I :日本特开2010-100048号公报专利文献2 日本特开2009-262370号公报专利文献3 :国际公开第2005/070691号
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供一种能够得到制造时组合物的时效稳定性、进行激光雕刻而得到的凸版形状、由激光雕刻而产生的雕刻渣滓的冲洗性、得到的印刷版的耐印刷性及着墨性优异的凸版印刷版的激光雕刻用组合物，以及使用了上述激光雕刻用组合物的凸版印刷版原版、使用了其的凸版印刷版的制版方法及利用其得到的凸版印刷版。本专利技术的上述课题是利用以下方案〈1>、〈17>、〈20>及〈23>而解决的。与作为优选的实施方式的〈2> 〈16>、<18> 〈19>、<21>及〈22> —同记载于以下。<1> ー种激光雕刻用组合物，其特征在于，含有(成分A)含有两个以上被含有羧酸酯键及/或酰胺键的封端剂保护的封端型异氰酸酯基的化合物、及(成分B)具有两个以上羟基的化合物，ー个分子的成分A中的封端型异氰酸酯基数量A1及ー个分子的成分B中的羟基数量Bh满足式(I)的关系；Aj+Bh > 4 (I)〈2>根据〈1>所述的激光雕刻用组合物，其中，成分A被用选自由脲系封端剂、活性 亚甲基系封端剂、酰胺系封端剂及酰亚胺系封端剂构成的组中的封端剂保护；<3>根据〈1>或〈2>所述的激光雕刻用组合物，其中，成分A被用选自由活性亚甲基系封端剂及酸胺系封端剂构成的组中的封端剂保护；<4>根据〈1> 〈3>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其中，成分A被用作为活性亚甲基系封端剂的封端剂保护；〈5>根据〈1> 〈4>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其中，成分B为(成分BI)分子量低于5，000的低分子化合物及/或(成分B2)分子量为5，000以上的高分子；<6>根据く 1> く5>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其还含有(成分C)重均分子量为5，000以上且低于500，000的粘合剂聚合物；<7>根据〈1> 〈6>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其中，成分C为选自由碳酸酯树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸树脂、酯树脂及こ烯基树脂构成的组中的至少ー种树脂；<8>根据〈1> 〈7>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其中，成分C为具有与异氰酸酯基反应能够形成交联结构的官能团的粘合剂聚合物；<9>根据〈1> 〈8>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其还含有(成分D) ニ氧化娃粒子；〈10>根据〈9>所述的激光雕刻用组合物，其中，成分D的数均粒径为O. 01 μ m以上且10 μ m以下；<11>根据〈1> 〈10>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其还含有(成分E)促进保护异氰酸酯基的脱保护反应及/或其后的聚氨酯化反应的化合物；〈12>根据〈1> 〈11>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其还含有(成分F)含有水解性甲硅烷基及硅醇基的至少ー种且重均分子量低于5，000的化合物；〈13>根据〈1> 〈12>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其还含有(成分G)重均分子量低于5，000的烯键式不饱和化合物；<14>根据〈1> 〈13>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其还含有(成分H)自由基聚合引发剂；<15>根据〈1> 〈14>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其还含有(成分I)可以吸收波长700 1，300nm的光的光热转换剂；<16>根据〈1> 〈15>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其还含有(成分J)醇交换反应催化剂；<17> ー种凸版印刷版原版，在支撑体上具备由〈1> 〈16>中任一项所述的激光雕刻用组合物形成的凸版形成层；<18>根据く 17>所述的凸版印刷版原版，其中，上述凸版形成层在光及/或热的作用下进行了交联；<19>根据く 17>所述的凸版印刷版原版，上述凸版形成层在热的作用下进行了交联；<20> ー种凸版印刷版的制版方法，其特征在干，包含以下エ序交联エ序(I)，使<17> 〈19>中任一项所述的凸版形成层在热及/或光的作用下进行交联；及雕刻エ序(2)，对已交联的凸版形成层进行激光雕刻而形成凸版层；<21>根据〈20>所述的凸版印刷版的制版方法，其中，交联エ序(I)为使上述凸版形成层在热的作用下进行交联的エ序；<22>根据〈20>或〈21>所述的凸版印刷版的制版方法，其包含对上述已交联的凸版形成层进行激光雕刻而形成凸版层的エ序；、<23> ー种凸版印刷版，其是利用〈20> 〈22>中任一项所述的制版方法制造而成的；〈24>根据〈23>所述的凸版印刷版，上述凸版层的厚度为0.05mm以上且IOmm以下。根据本专利技术，可以提供一种涂布液的稳定性、凸版截面形状、冲洗性、耐印刷性及着墨性优异的激光雕刻用组合物。另外，可以提供一种将该激光雕刻用组合物作为凸版形成层的凸版印刷版原版、基于该凸版印刷版原版的凸版印刷版的制版方法及凸版印刷版。具体实施方式 (激光雕刻用组合物)以下，对本专利技术的激光雕刻用组合物进行详细说明。本专利技术的激光雕刻用组合物的特征在于，其含有(成分A)含有两个以上被含有羧酸酯键及/或酰胺键的封端剂保护的封端型异氰酸酯基的化合物、及(成分B)具有两个以上羟基的化合物，ー个分子的成分A中的封端型异氰酸酯基数量A1及ー个分子的成分B中的羟基数量Bh满足式(I)的关系。Aj+Bh >4 (I)< 成分 A>成分A为含有两个以上被封端剂保护的封端型异氰酸酯基的化合物，以下，也称为“封端型异氰酸酯化合物”。异氰酸酯化合物为公知的物质，可利用胺类和光气的反应以エ业规模生产。含有两个以上异氰酸酯基的化合物、即聚异氰酸酯化合物被广泛用于利用与多元醇本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
2011.02.22 JP 2011-0363571.ー种激光雕刻用组合物，其特征在于，含有(成分A)含有两个以上被含有羧酸酯键及/或酰胺键的封端剂保护的封端型异氰酸酯基的化合物、及(成分B)具有两个以上羟基的化合物，并且ー个分子的成分A中的封端型异氰酸酯基数量A1及ー个分子的成分B中的羟基数量Bh满足式(I)的关系， VBh > 4 (I)2.根据权利要求I所述的激光雕刻用组合物，其中，成分A被用选自由脲系封端剂、活性亚甲基系封端剂、酰胺系封端剂及酰亚胺系封端剂构成的组中的封端剂保护。3.根据权利要求I所述的激光雕刻用组合物，其中，成分A被用选自由活性亚甲基系封端剂及酰胺系封端剂构成的组中的封端剂保护。4.根据权利要求I所述的激光雕刻用组合物，其中，成分A被用作为活性亚甲基系封端剂的封端剂保护。5.根据权利要求I所述的激光雕刻用组合物，其中，成分B为(成分BI)分子量低于5，OOO的低分子化合物及/或(成分B2)分子量为5，000以上...
【专利技术属性】
技术研发人员：寒竹重史，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：
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