一种玻璃薄化设备及方法技术

技术编号:7698309 阅读:285 留言:0更新日期:2012-08-22 21:23
本发明专利技术提出一种玻璃薄化设备,包括一反应容器,所述的反应容器的底部设置有多个进液口,所述的反应容器内设置有支撑支架,所述的支撑支架底部设有支撑凸起,所述的支撑支架的下端设置网状层,所述的反应容器上设置有一上盖,上盖上设置有一通气孔,所述的反应容器的侧边设置有溢流管,所述的溢流管连接循环池。本发明专利技术还提出一种玻璃薄化方法,采用反应液从下往上井喷式流出反应,同时在反应容器的底部增加一气体入口,使反应液中混有气体,可以使基片玻璃表面的反应残渣更快得被带走,加快了玻璃的薄化速度,提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于液晶显示屏幕制造领域中的液晶基板玻璃的腐蚀薄化技术,具体涉及的是ー种玻璃薄化设备及方法
技术介绍
随着便携式电子设备的发展,屏幕显示越来越多地使用液晶面板,为了便于携帯,设备越来越纤细化及薄型化,因此也需要制造较薄的基板,为了较薄地制造基板厚度,采用机械拉伸无法达到目标厚度的,所以一般使用的技术是蚀刻技术和物理研磨技木。一般为了较薄地加工玻璃基板的厚度而使用的蚀刻技术分为直接浸泡和喷淋技术,现有的上述浸泡技术在减薄基板厚度方面存在极限,其会因为溶液的浓度逐渐地减低而影响薄化效果,而喷淋技术分为侧喷和顶喷,侧喷的加工片数比较少,只可以一次一片或者两片,而顶喷会由于喷液从上往下流的线路不确定,容易在表面造成竖条状的凹凸纹。根据随着便携式电子设备的发展的玻璃基板的超纤细化要求,研发有效、高效地減少玻璃基板厚度的方法是当前需要解决的问题。
技术实现思路
针对现有技术存在的缺陷,本专利技术的目的是提供一种可以提闻生广效率及提闻玻璃表面光洁度,解决现有的低效率的基板玻璃薄化工艺的玻璃薄化设备。本专利技术更进ー步的目的是提出ー种使用该上述设备的专用的玻璃薄化方法。本专利技术解决其技术问题所采取的技术方案是ー种玻璃薄化设备,关键在于所述的薄化设备包括一反应容器、上盖、支撑支架、循环池及循环水泵,所述的反应容器的底部设置有多个进液ロ,所述的反应容器内设置有支撑支架,所述的支撑支架底部设有支撑凸起,所述的支撑支架的下方设置网状层,所述的反应容器上方设置有ー上盖,上盖上设置有一通气孔,所述的反应容器的侧边设置有溢流管,所述的溢流管连接循环池,所述的循环水泵设置在循环池和反应容器之间的管道上。所述的网状层包括多层的滤网。所述的反应容器底部还设置有多个的进气孔。所述的反应容器的底部侧边设置有一反应液补充入ロ。所述的支撑支架为ー架体,架体底部设有支撑凸起,架体侧边设置有多个的卡位凹槽,所述的卡位凹槽的间距为10-70mm。本专利技术的ー种玻璃薄化方法,所述的方法包括如下步骤 1)把玻璃垂直排列放置在反应容器中支撑支架的卡位凹槽上; 2)从容器底部缓慢通入反应液体;3)当反应液覆盖玻璃基片后用正常流速进行循环,使反应液从反应容器顶端溢出; 4)往反应容器内通入气体; 5)溢出的反应液经过循环池进行过滤。优选的,所述的的步骤还包括从反应容器底部输入气体,气体产生的气泡经过反应容器I中设置的滤网51而被细化,细小的气泡经过玻璃表面的时候可将玻璃表面的锈蚀洛带走。优选的,所述的反应液体的浓度通过反应容器底部侧边设置有一反应液补充入口进行补充。优选的,所述的反应液体在反应容器内的流速O. 03-0. lm/s,在反应初期将反应容器灌满的速度为O. 01-0. 03 m/s。本专利技术的玻璃薄化方法,采用反应液从下往上井喷式流出反应,同时在反应容器的底部増加一气体入ロ,使反应液中混有气体,可以使基片玻璃表面的反应残渣更快得被带走,加快了玻璃的薄化速度,提高生产效率。附图说明 图I为本专利技术设备结构示意图。 图2为本专利技术流程结构示意图。图3为本专利技术支撑支架结构示意图。具体实施例方式 如图I至图3所示,ー种玻璃薄化设备,所述的薄化设备包括一反应容器I、上盖4、支撑支架3、循环池10及循环水泵11,所述的反应容器的底部设置有多个进液ロ 2,所述的反应容器内设置有支撑支架3,所述的支撑支架3底部设有支撑凸起31,所述的支撑支架3的下方设置网状层5,所述的反应容器I上方设置有ー上盖4,上盖4上设置有一通气孔6,所述的反应容器I的侧边设置有溢流管7,所述的溢流管连接循环池10,所述的循环水泵11设置在循环池10和反应容器I之间的管道上。所述的反应容器I可为方形或者矩形体,所述的多个进液ロ 2可为两个或者三个或者四个,优选地为三个。所述的网状层5包括多层的滤网51。滤网51可以将通入反应容器I内的气泡进行细化,使气泡变小而具有更大的表面积。所述的反应容器I底部还设置有多个的进气孔12。进气孔12连接外部气源。所述的反应容器I的底部侧边设置有一反应液补充入口 9。反应液补充入口 9可以人工地或者自动地对反应容器I内反应液浓度进行补充和改正,保证蚀刻反应的正常进行。所述的支撑支架3为ー架体,架体底部设有支撑凸起31,架体侧边设置有多个的卡位凹槽32,所述的卡位凹槽32的间距为10_70mm。ー种玻璃薄化方法,所述的方法包括 O把玻璃垂直排列放置在反应容器I中设置的卡位凹槽32上; 2)使反应液体从容器底部进入反应容器,并从反应容器顶端溢出; 3)溢出的反应液经过过滤池10; 4)往容器内通入气体及补充反应液 5)反应液从过滤池10流出,经过循环水泵11后重新从底部进入反应容器I。所述的反应容器I底部释放出气泡,所述的气泡经过滤网51而被细化,细小的气泡经过玻璃表面的时候会将玻璃表面的锈蚀渣带走。所述的反应液体的浓度通过反应容器底部侧边设置有一反应液补充入ロ 9进行补充。所述的反应液体在反应容器内的流速O. 03-0. lm/s,在反应初期将反应容器灌满的速度为 O. 01-0. 03 m/s O所述的气泡在反应容器内的流速为l_2m/s。所述的反应容器为圆形的罐体,采用高分子材质制作。所述的罐体的下端为喇叭ロ,其最低处设置有进液ロ,进液ロ连接循环水泵的出口,所述的反应容器下端设置有一网状层,其包括多层的滤网,滤网的网眼小于1_。所述的网状层下端设置有一反应液补充入ロ,用以补充反应液的整体浓度,所述的补充浓度和补充速度根据实际情况实际确定。所述的网状层上方为支撑支架,所述的支撑支架用于固定卡紧基片玻璃,所述的支撑支架侧边设置有多个并列排列的固定卡位凹槽32,所述的基片玻璃夹持在卡位凹槽32中,垂直排列在支撑支架内部,数目可以为8片至48片。具体数目可根据具体需要和反应容器大小具体确定。所述的反应液体在反应容器内的流速为O. 03-0. lm/s,当基片玻璃在反应容器内与反应液体产生化学反应而被侵蚀的时候,玻璃的厚度会产生一定的减低,同时,化学腐蚀会在基片玻璃表面产生雪糕状的玻璃渣,玻璃渣被流动的反应液体带走,使蚀刻之后的基片玻璃不需要经过研磨或者抛光程序就可以直接使用,该种方法可以同时对多片玻璃进行薄 化,大大提闻了生广效率。所述的反应液为现有技术中的成分配比,所述的过滤系统及循环水泵为现有技木,此处不再详述。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.ー种玻璃薄化设备,其特征在于所述的薄化设备包括一反应容器(I)、上盖(4)、支撑支架(3)、循环池(10)及循环水泵(11),所述的反应容器的底部设置有多个进液ロ(2),所述的反应容器内设置有支撑支架(3),所述的支撑支架(3)底部设有支撑凸起(31),所述的支撑支架(3)的下方设置网状层(5),所述的反应容器(I)上方设置有ー上盖(4),上盖(4)上设置有一通气孔(6),所述的反应容器(I)的侧边设置有溢流管(7),所述的溢流管连接循环池(10),所述的循环水泵(11)设置在循环池(10)和反应容器(I)之间的管道上。2.根据权利要求I所述的玻璃薄化设备,其特征在于所述的网状层(5)包括多层的滤网(51)。3.根据权利要求2所述的玻璃薄化设备,其特征在于所述的反应容器(I)底部还设置有多个的进气孔(12)。4.根据权利要求2所述的玻璃薄化设备,其特征在于所述的反应容器(I)的底部侧边设置有一反应液补充入口(9)。5.根据权利要求2所述的玻璃薄化设备,其特征在于所述的支撑支架(3)为ー架体,架体底...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱迈罗清泉谢庆强
申请(专利权)人:深圳市拓捷科技发展有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1