校准装置、距离测量系统、校准方法和校准程序制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种校准装置，其被配置成：接收两个参考图像和多个视差数据项的输入，所述两个参考图像是由处于两个位置的成像设备中的一个成像设备捕获的，并且所述视差数据是基于对于所述两个参考图像和两个对应图像中的、以位置为基础的每一对参考图像和对应图像共同的多个特征点的位置，使用两个参考图像和两个对应图像计算得出的，所述两个对应图像是由处于所述两个位置的所述成像设备中的另一个成像设备捕获的；搜索对所述两个参考图像共同的多个特征点；基于与这两个参考图像中的各个特征点相关的视差数据，为每个搜索到的特征点计算视差及视差变化量；以及，基于计算出的视差及视差变化量，计算参数的修正值。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：青木伸，
申请(专利权)人：株式会社理光，
类型：发明
国别省市：