一种基板上隔垫物的制作方法、基板以及液晶面板技术

本发明专利技术提供一种基板上隔垫物的制作方法，包括如下步骤：1)在基板(10)上涂覆一层用于制作隔垫物的感光材料；2)将涂覆有感光材料的基板(10)放置在烘箱中进行烘烤，所述烘箱中设置有触点(100)，触点(100)与基板(10)上隔垫物设置处的感光材料接触，使触点附近的感光材料的厚度增长；3)对基板(10)上的感光材料进行曝光、显影，以在基板上形成隔垫物。该制作方法能大大节约感光材料，并使隔垫物在基板上的结构稳定，具有较强的抗变形能力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于液晶显示
，具体涉及一种基板上隔垫物的制作方法、基板以及液晶面板。
技术介绍
现有的液晶面板包括彩膜(Color Filer)基板和阵列 (Array)基板，液晶设置在上述两基板之间。在现有技术中，为了维持盒厚(cell gap)，防止液晶因受挤压变形而无法正常显示，需要在彩膜基板和阵列基板之间分布一些隔垫物。早期的液晶面板常采取在两基板之间喷洒球形隔垫物(Ball Spacer)的方式，但是由于这种球形隔垫物的位置无法固定，经过长时间的使用，可能出现因隔垫物分布不均而导致多个隔垫物集中在某一区域的状况，从而丧失维持盒厚的作用；而且，如果球形隔垫物分布在像素区域，会降低开口率，影响液晶显示器的显示效果。目前，主流的隔垫物为柱状隔垫物(PostSpacer)，其采用光刻法形成在彩膜基板上。具体制作步骤是将用于制作隔垫物的感光材料涂布于彩膜基板表面，经过曝光、显影等工艺制作出柱状隔垫物，在彩膜基板和阵列基板对盒而形成液晶面板后，由柱状隔垫物支撑液晶盒厚。利用光刻法制作柱状隔垫物，可以控制隔垫物的位置只分布在阵列基板的TFT器件、栅线、数据线的上方，不但位置固定，而且不会影响开口率。但是采用光刻法制作柱状隔垫物也存在以下缺点第一，感光材料浪费严重这是因为，采用光刻法制作隔垫物时，涂布于彩膜基板表面的感光材料必须涂布达到与液晶盒厚相近的厚度，但在光刻工艺后，除了形成隔垫物的感光材料被保留下来，其他的感光材料都被浪费了，这对于感光材料的消耗极大；第二，形成的隔垫物结构不够稳定，抗变形能力弱，由于设计或工艺问题，常使得光刻法制作的隔垫物形成顶宽底窄或顶底同宽的形状，这样当液晶面板受到外力挤压时，隔垫物常因发生歪倒而损坏，使得隔垫物在外部压力撤销后无法完全恢复到原有形状，抗变形能力减弱，造成对液晶盒厚的支撑能力降低。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足，提供一种基板上隔垫物的制作方法、基板以及液晶面板，采用该制作方法制作隔垫物能大大节约感光材料，所制成的隔垫物结构稳定，具有较强的抗变形能力。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是该基板上隔垫物的制作方法，包括如下步骤I)在基板上涂覆一层用于制作隔垫物的感光材料。在该步骤中，感光材料的涂覆厚度可以小于隔垫物的设计高度。2)将涂覆有感光材料的基板放置在烘箱中进行烘烤，所述烘箱中设置有触点，触点与基板上隔垫物设置处的感光材料接触，使触点附近的感光材料的厚度增长。在该步骤中，感光材料的厚度增长可以达到隔垫物的设计高度。3)对基板上的感光材料进行曝光、显影，以在基板上隔垫物设置处形成隔垫物。优选的是，步骤2)的具体操作如下21)将涂覆有感光材料的基板放置在烘箱中进行烘烤，烘烤温度为50°C 150°C，持续时间为4s 12s ；22)使触点与基板上隔垫物设置处的感光材料接触，所述触点底部的温度低于烘烤温度，使得触点附近的感光材料的厚度增长； 23)当触点附近的感光材料的厚度增长到设计高度，使触点与感光材料脱离；24)将基板继续放置在烘箱中烘烤IOs 180s。优选的是，所述触点呈柱状，触点上设置有基准线，所述基准线将触点划分为触点顶部和触点底部两部分，触点底部与感光材料接触，触点顶部涂覆有低表面张力的材料，以使得触点附近的感光材料的厚度在达到触点的基准线时不再继续向上升高。优选触点采用不锈钢或钛合金材料制成，触点顶部涂覆的材料为聚四氟乙烯。所述聚四氟乙烯涂层主要用以控制感光材料的增加厚度以及控制隔垫物的上表面形状。优选的是，所述触点与感光材料接触时，基准线与感光材料表面的距离等于或略大于隔垫物高度，所述触点的直径小于隔垫物的设计直径。优选所述烘箱采用真空烘箱。优选的是，在步骤22)中，触点底部的温度为20°C 90°C，触点与感光材料的接触时间为3s 60s。在步骤I)中，感光材料采用负型光刻胶。在步骤I)中，优选所述负型光刻胶层的涂覆厚度为隔垫物设计高度的1/2-4/5。进一步优选所述负型光刻胶层的涂覆厚度为I. O μ m 2. 6 μ m,更进一步优选为I. 7 μ m 2. 2 μ m0优选的是，步骤3)的具体操作如下31)曝光通过掩模板对感光材料进行曝光，并使掩模板的漏光部分与步骤2)中厚度增长的感光材料进行对准；32)显影用显影液去掉基板上未曝光的感光材料，基板上保留下来的感光材料即形成隔垫物。优选的是，在步骤31)中，使掩模板漏光部分的尺寸大于步骤2)中厚度增长形成的的感光材料的顶面尺寸；在步骤32)中，基板上形成的隔垫物的形状为顶窄底宽的阶梯状。一种基板，所述基板具有采用上述制作方法制成的隔垫物。一种液晶面板，所述液晶面板采用上述的基板。本专利技术制作方法的有益效果是由于触点附近的感光材料的温度低于其他部分感光材料的温度，使得感光材料形成一定的温度差，从而使感光材料涂层具有表面张力梯度，即感光材料温度较低处的表面张力大于温度较高处的表面张力，于是感光材料在表面张力梯度的作用下开始流动，其流动方向为从表面张力小的位置向表面张力大的位置流动，即使感光材料向触点所在区域流动，从而使感光材料在触点位置聚集，使得基板上隔垫物设置区域的感光材料厚度增大，而其他区域的感光材料厚度降低，通过这种方式，可以大大降低基板上所涂覆的感光材料的厚度，使感光材料得到充分利用，并且不会影响后续的光刻工艺，既能杜绝感光材料浪费，又能保证隔垫物对液晶盒支撑的稳定性。附图说明图I为本专利技术实施例I中涂覆有感光材料层的彩膜基板的结构示意图；图2为图I中感光材料向触点附近聚集的结构示意图；图3为对图2中感光材料进行曝光的操作示意图；图4为本专利技术实施例2中制成的彩膜基板上隔垫物的结构 示意图。图中10_基板；20_黑矩阵；30_平坦层；40_导电层；50_感光材料层；60_彩色滤光层；70_掩模板;80-UV光；90-隔垫物；100-触点；101_触点顶部；102_触点底部；103-基准线。具体实施例方式为使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和具体实施例对本专利技术基板上隔垫物的制作方法、基板以及液晶面板作进一步详细描述。一种基板上隔垫物的制作方法，包括如下步骤I)在基板10上涂覆一层用于制作隔垫物的感光材料；2)将涂覆有感光材料的基板10放置在烘箱中进行烘烤，所述烘箱中设置有触点100，触点100与基板10上隔垫物设置处的感光材料接触，使触点附近的感光材料的厚度增长;3)对基板10上的感光材料进行曝光、显影，以在基板上隔垫物设置处形成隔垫物。其中，步骤2)的具体操作如下21)将涂覆有感光材料的基板10放置在烘箱中进行烘烤，烘烤温度为50°C 150°C，持续时间为4s 12s ；22)使触点100与基板10上隔垫物设置处的感光材料接触，所述触点底部的温度低于烘烤温度，使得触点附近的感光材料的厚度增长；23)当触点附近的感光材料的厚度增长到设计高度，使触点与感光材料脱离；24)将基板10继续放置在烘箱中烘烤IOs 180s。优选所述触点100呈柱状，触点100上设置有基准线103，所述基准线103将触点100划分为触点顶部101和触点底部102两部分，触点底部102与感光材料接触，触点顶部101涂覆有低表面张力的材料，以使本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：舒适，薛建设，赵吉生，李琳，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：