彩膜基板及其制造方法和液晶显示面板技术

本发明专利技术公开了一种彩膜基板及其制造方法和液晶显示面板，涉及液晶显示器领域，为使液晶屏表面具有显示均一性而发明专利技术。所述彩膜基板，包括玻璃基板，所述玻璃基板上形成有黑矩阵，所述黑矩阵之间形成有彩色像素单元，在所述彩色像素单元与所述黑矩阵的交接处，彩色像素单元在黑矩阵上堆积形成有突起，所述黑矩阵和彩色像素单元上形成有取向膜，所述取向膜的厚度大于所述突起的厚度，且位于所述突起上方的所述取向膜的厚度小于位于所述黑矩阵和彩色像素单元的其余部位上方的所述取向膜的厚度，使所述取向膜的表面与所述玻璃基板之间的高度趋于一致。本发明专利技术还提供了一种彩膜基板制造方法和液晶显示面板。本发明专利技术可用于制作液晶显示器。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示器领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制造方法和液晶显示面板。
技术介绍
近年来,薄膜晶体管液晶显示器(TFT IXD,Thin film transistor IXD)因具有体积小、辐射低等优点而成为液晶显示领域的主流。TFTLCD包括阵列基板和彩膜基板，阵列基板和彩膜基板之间注入有液晶。液晶取向技术能够使液晶分子整齐排列在基板表面，从而使液晶显示器具有良好的显示均一性、色差、对比度等，是液晶显示器正常工作的必要条件。目前，摩擦取向技术是彩膜基板制造过程中使用最广泛的液晶取向技术。摩擦取向技术的一般工艺包括清洗、涂膜、预烘、固化、摩擦。基板上涂布取向材料膜层后，进行预烘、固化等步骤，最后利用尼龙、纤维或棉绒等材料按一定方向摩擦液晶取向膜，使薄膜表面状况发生改变以形成取向膜层，从而使液晶分子在两片玻璃基板上整齐排列。一般而言，在彩膜基板上可以通过涂布取向液而形成取向膜。具体来说，如图I所示，彩膜基板包括玻璃基板P，在玻璃基板P上形成有黑矩阵2'，黑矩阵2'之间形成有彩色像素单元，每个彩色像素单元都包括红色亚像素单元3'、绿色亚像素单元4'和蓝色亚像素单元5'(图中用不同的阴影线表示)，这三个亚像素单元与黑矩阵2'之间具有像素段差。以红色亚像素单元3'为例，红色亚像素单元3'附着在两个黑矩阵2'之间，且在黑矩阵2'的上部堆积形成了突起，所述突起的高度即为所述像素段差。这样，在涂布取向液以形成取向膜6'的时候，现有取向膜6'的厚度较小，如大约在900埃(I埃=O. I纳米)左右，由于像素段差(大约在O. 5微米左右)的存在，使得取向膜K的表面与玻璃基板P之间高度在所述突起的位置处较大、而在其余位置处较小，从而使得取向膜6'的表面明显凹凸不平，均一性不好，并导致液晶显示面板质量降低，容易出现小亮点、漏光等现象。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种彩膜基板及其制造方法和液晶显示面板，以使液晶屏表面具有显示均一性，提高液晶面板显示质量。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案 本专利技术实施例提供了一种彩膜基板，包括玻璃基板，所述玻璃基板上形成有黑矩阵，所述黑矩阵之间形成有彩色像素单元，在所述彩色像素单元与所述黑矩阵的交接处，所述彩色像素单元在所述黑矩阵上堆积形成有突起，所述黑矩阵和彩色像素单元上形成有取向膜，所述取向膜的厚度大于所述突起的厚度，且位于所述突起上方的所述取向膜的厚度小于位于所述黑矩阵和彩色像素单元的其余部位上方的所述取向膜的厚度，使所述取向膜的表面与所述玻璃基板之间的高度趋于一致。本专利技术实施例另外提供了一种彩膜基板的制造方法，包括提供一玻璃基板；在玻璃基板上形成黑矩阵；在黑矩阵之间形成彩色像素单元，在所述彩色像素单元与所述黑矩阵的交接处，所述彩色像素单元在所述黑矩阵上堆积形成有突起；在黑矩阵和彩色像素单元上形成取向膜，所述取向膜的厚度大于所述突起的厚度，且位于所述突起上方的所述取向膜的厚度小于位于所述黑矩阵和彩色像素单元的其余部位上方的所述取向膜的厚度，使所述取向膜的表面与所述玻璃基板之间的高度趋于一致。本专利技术实施例另外还提供了一种液晶显示面板，包括彩膜基板和与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板，在所述彩膜基板和阵列基板之间滴注有液晶，其中所述彩膜基板包括玻璃基板，所述玻璃基板上形成有黑矩阵，所述黑矩阵之间形成有彩色像素单元，在所述彩色像素单元与所述黑矩阵的交接处，所述彩色像素单元在所述黑矩阵上堆积形成有突起，所述黑矩阵和彩色像素单元上形成有取向膜，所述取向膜的厚度大于所述突起的厚度，且位于所述突起上方的所述取向膜的厚度小于位于所述黑矩阵和彩色像素单元的其余部位上方的所述取向膜的厚度，使所述取向膜的表面与所述玻璃基板之间的高度趋于一致。本专利技术提供了一种彩膜基板及其制造方法和液晶显示面板，所述玻璃基板上形成有黑矩阵，所述黑矩阵之间形成有彩色像素单元，每个彩色像素单元都包括红色亚像素单元、绿色亚像素单元和蓝色亚像素单元，在彩色像素单元与黑矩阵的交接处，各亚像素单元在黑矩阵的上部堆积，所以在黑矩阵上形成突起。在黑矩阵和彩色像素单元上涂布取向液，形成取向膜，由于所述取向膜的厚度大于所述突起，所以在涂布取向液的时候比较容易控制，因此容易使得位于所述突起上方的所述取向膜的厚度小于位于所述黑矩阵和彩色像素单元的其余部位上方的所述取向膜的厚度，使所述取向膜的表面与所述玻璃基板之间的高度趋于一致，从而便于形成比较平坦的取向膜。这样，在比较平坦的取向膜表面摩擦能够获得较好的取向性能，可以使液晶分子均匀分布，从而使液晶屏表面具有显示均一性，不会出现小売点、漏光等现象，提闻液晶显不面板质量。附图说明图1为现有技术彩膜基板的结构示意图；图2为本专利技术实施例彩膜基本的平面结构示意图；图3为图2所示彩膜基板沿A-A线的截面示意图；图4为本专利技术实施例彩膜基板制造方法的流程图；图5为图4所示彩膜基板制造方法的详细流程图；图6为图4所示彩膜基板制造方法的另一种详细流程图；图7为本专利技术实施例AD-SDS显示模式下彩膜基板的制造方法示意图；图8为本专利技术实施例TN显示模式下彩膜基板的制造方法示意图。具体实施例方式下面结合附图对本专利技术实施例一种彩膜基板及其制造方法和液晶显示面板进行详细描述。如图2和图3所示，为本专利技术的一个具体实施例。本实施例中，所述彩膜基板包括玻璃基板1，玻璃基板I上形成有黑矩阵2，黑矩阵2之间形成有彩色像素单元，在所述彩色像素单元与黑矩阵2的交接处，所述彩色像素单元在黑矩阵2上堆积形成有突起，黑矩阵2和彩色像素单元上形成有取向膜6，取向膜6的厚度大于所述突起的厚度，且位于所述突起上方的取向膜6的厚度小于位于黑矩阵2和彩色像素单元的其余部位上方的取向膜6的厚度，使取向膜6的表面与玻璃基板I之间的高度趋于一致。本专利技术提供了一种彩膜基板，玻璃基板I上形成有黑矩阵2，黑矩阵2之间形成有彩色像素单元，每个彩色像素单元都包括红色亚像素单元3、绿色亚像素单元4和蓝色亚像素单元5，在彩色像素单元与黑矩阵2的交接处，各亚像素单元在黑矩阵2的上部堆积，所以在黑矩阵2上形成突起。在黑矩阵2和彩色像素单元上涂布取向液，形成取向膜6，由于取向膜6的厚度大于所述突起，所以在涂布取向液的时候比较容易控制，因此容易使得位于所述突起上方的取向膜6的厚度小于位于黑矩阵2和彩色像素单元的其余部位上方的取向膜6的厚度，使取向膜6的表面与玻璃基板I之间的高度趋于一致，从而便于形成比较平坦的取向膜6。这样，在平坦的取向膜6表面摩擦能够获得较好的取向性能，可以使液晶分子均匀分布，从而使液晶屏表面具有显示均一性，不会出现小亮点、漏光等现象，提高液晶显示面板质量。其中，取向膜6的材料可以为聚酰亚胺树脂或丙烯酸树脂等。聚酰亚胺PI (英文名Polyimide)是一种常见的取向材料，具有耐高温、抗腐蚀、易成膜等优点。本专利技术实施例优选使用同时兼具保护和取向两个功能的感光性树脂，例如丙烯酸树脂。所述保护功能，是指树脂自身具有平坦性，可以在黑矩阵2和彩色像素单元上形成比较平坦的薄膜。目前，实际可控制的像素段差，也就是黑矩阵2上的突起的厚度在O.5微米以下，因此为了使取向膜6的厚度大于所述突起的厚度，并且易于控制，以使位于所述突起上方的取向膜6的厚度小于位于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王远，周丽佳，隆清德，金楻，吴瑶，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：