一种彩膜基板的制作方法和彩膜基板技术

本发明专利技术提供一种彩膜基板的制作方法和彩膜基板，用以解决现有彩膜基板的制作工艺复杂、成本较高的问题。该方法包括：每次在基板上形成特定颜色的膜层后，进行成像显影操作，使得本次形成的膜层与所述特定颜色的子像素区对应的部分被完全保留以形成所述特定颜色的子像素，与其它颜色的子像素区对应的部分被完全去除，与黑矩阵区对应的部分被部分保留；所有膜层被部分保留的部分叠加形成所述黑矩阵。该技术方案降低了制作工艺复杂度，降低了制作成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，特别涉及一种彩膜基板的制作方法和彩膜基板。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示面板包括阵列基板、彩膜基板和填充在两者之间的液晶材料。其中彩膜基板包括基板和形成于基板上的彩色滤光片，彩色滤光片包括均匀间隔排列的子像素(通常包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素这三基色子像素)和位于各子像素间隙的黑矩阵。子像素用来使显示器最终呈现出的图像是彩色的，黑矩阵用来遮住不打算透光的部分，比如氧化铟锡的走线、金属走线或者薄膜晶体管等。 通常，彩色滤光片在液晶显示面板中的成本比重较大，而随着薄膜晶体管液晶显示器技术的发展，对于生产成本的降低和制造工艺的进一步完善的要求更加迫切。如图I所示，现有的彩膜基板包括基板11、黑矩阵12和三基色子像素13。该彩膜基板的制作工艺为经过一道成像显影工艺，在基板11上形成黑矩阵12 ;经过三道成像显影工艺，在基板上形成三基色子像素13。该制作工艺包括四道成像显影工艺，工序复杂，成本较高。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种彩膜基板的制作方法和彩膜基板，用以解决现有彩膜基板的制作工艺复杂、成本较高的问题。本专利技术实施例提供一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板具有不同颜色的子像素和无法透光的黑矩阵，所述彩膜基板的制作方法包括每次在基板上形成特定颜色的膜层后，进行成像显影操作，使得本次形成的膜层与所述特定颜色的子像素区对应的部分被完全保留以形成所述特定颜色的子像素，与其它颜色的子像素区对应的部分被完全去除，与黑矩阵区对应的部分被部分保留；所有膜层被部分保留的部分叠加形成所述黑矩阵。所述每次在基板上形成特定颜色的膜层后，进行成像显影操作，使得本次形成的膜层与所述特定颜色的子像素区对应的部分被完全保留以形成所述特定颜色的子像素，与其它颜色的子像素区对应的部分被完全去除，与黑矩阵区对应的部分被部分保留，具体为在基板上涂布特定颜色的膜层；采用具有遮光部、透光部和灰色调部的灰色调掩模版进行掩模、曝光和显影，使得所述特定颜色的膜层与所述特定颜色的子像素区对应的部分被完全保留以形成所述特定颜色的子像素，与其它颜色的子像素区对应的部分被完全去除，与黑矩阵区对应的部分被部分保留。所述所有膜层包括红色树脂膜层、绿色树脂膜层和蓝色树脂膜层；所述所有膜层被部分保留的部分的厚度相同。所述子像素对应的膜层的厚度与所述黑矩阵的厚度相同。所述的制作方法，还包括进行成像显影操作，在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方形成保护层，在所述保护层的上方形成第一隔垫物。所述进行成像显影操作，在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方形成保护层，在所述保护层的上方形成第一隔垫物，具体为在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方涂布第一材料层，所述第一材料层为保护材料层或隔垫材料层；采用具有半透光部、透光部的第一半色调掩模版进行掩模、曝光和显影，使得所述第一材料层与保护层区域对应的部分被部分保留以形成保护层，与第一隔垫物区对应的部分被完全保留以形成第一隔垫物。所述子像素对应的膜层的厚度与所述黑矩阵的厚度不相同。所述的制作方法，还包括在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方形成平坦化层，在所述平坦化层的上方形成第二隔垫物；其中，所述平坦化层用于消除所述不同颜色的子像素与所述黑矩阵之间存在的角段差。所述在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方形成平坦化层，在所述平坦化层的上方形成第二隔垫物，具体为在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方涂布第二材料层，所述第二材料层为平坦化材料层或隔垫材料层；采用具有半透光部、透光部的第二半色调掩模版进行掩模、曝光和显影，使得所述第二材料层与保护层区域对应的部分被部分保留以形成保护层，与第二隔垫物区对应的部分被完全保留以形成第二隔垫物。本专利技术实施例还提供一种彩膜基板，包括基板；不同颜色的子像素，形成于所述基板上；由所述不同颜色的子像素对应的膜层的材料叠加而成的黑矩阵，形成于所述基板上。其中，当所述子像素对应的膜层的厚度与所述黑矩阵的厚度相同时，所述彩膜基板还包可括保护层，形成于所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方；第一隔垫物，形成于所述保护层的上方。其中，当所述子像素对应的膜层的厚度与所述黑矩阵的厚度不相同时，所述彩膜基板还可包括 平坦化层，形成于所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方；第二隔垫物，形成于所述平坦化层的上方。本专利技术实施例提供的技术方案在制作子像素的同时，使子像素膜层在黑矩阵区叠加从而形成黑矩阵，相比现有技术需要单独的一道成像显影工艺来形成黑矩阵，减少了一道成像显影工艺，从而降低了工艺复杂度和制作成本。附图说明图I为用现有彩膜基板制作方法制作出的彩膜基板结构示意图；图2为本专利技术实施例中彩膜基板的制作方法流程图；图3为本专利技术具体实施例中步骤Cl、C2对应的结构示意图；图4为本专利技术具体实施例中步骤C2对应的结构示意图；图5为本专利技术具体实施例形成的彩膜基板的结构示意图；图6为本专利技术具体实施例中步骤C7、C8对应的结构示意图；图7为本专利技术具体实施例中步骤C8对应的结构示意图；图8为本专利技术具体实施例中步骤C9、ClO对应的结构示意图；图9为本专利技术具体实施例中步骤ClO对应的结构示意图。具体实施例方式为使本专利技术实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。本专利技术实施例提供的技术方案在制作子像素的同时，使子像素膜层在黑矩阵区叠加从而形成黑矩阵，相比现有技术需要单独的一道成像显影工艺来形成黑矩阵，本专利技术实施例提供的技术方案减少了一道成像显影工艺，从而降低了工艺复杂度和制作成本。如图2所示，本专利技术实施例提供了一种彩膜基板的制作方法，该彩膜基板具有不同颜色的子像素和无法透光的黑矩阵，该彩膜基板的制作方法包括步骤21、每次在基板上形成特定颜色的膜层后，进行成像显影操作，使得本次形成的膜层与该特定颜色的子像素区对应的部分被完全保留，形成该特定颜色的子像素，与其它颜色的子像素区对应的部分被完全去除，与黑矩阵区对应的部分被部分保留。具体地，步骤21可包括以下步骤步骤211、在基板上依次涂布特定颜色的膜层；步骤212、在特定颜色的膜层上，采用具有遮光部、透光部和灰色调部的灰色调掩模版进行掩模、曝光和显影，使得特定颜色的膜层与该特定颜色的子像素区对应的部分被完全保留以形成该特定颜色的子像素，与其它颜色的子像素区对应的部分被完全去除，与黑矩阵区对应的部分被部分保留。步骤22、所有膜层被部分保留的部分叠加形成黑矩阵。其中，上述特定颜色的膜层可以是三基色树脂层，也可以是其它多种不同颜色的、且按一定比例叠加后能形成黑色的膜层，如三基色膜层与黄色膜层或青色膜层，黄色膜层、青色膜层与品红膜层等。本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法，在制作子像素的同时，使子像素膜层在黑矩阵区叠加从而形成黑矩阵，相比现有技术需要单独的一道成像显影工艺来形成黑矩阵，本专利技术实施例提供的制作方法减少了一道成像显影工艺，从而降低了工艺复杂度和制作成本。另外，如图I所示，采用现有技术制作的彩膜基板上三基色子像素13与黑矩阵12之间存在角段差，为了消除角段差，现有技术通常会在三基色子像素13和黑矩阵12上形成平坦化层14，然后还要经过一道成像显影工艺在平坦化层14上形成一隔垫物，用于提供阵列基板和彩膜基板的支撑，维持阵列基板和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王灿，何璇，王路，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：