一种检测光学镀膜机镀膜膜厚均匀性的方法技术

一种检测光学镀膜机镀膜膜厚均匀性的方法，包括下列步骤：第一步：设计本发明专利技术双腔滤光片膜系；第二步：模拟计算膜层厚度变化对所诉双腔滤光片峰值透过率及中心波长的影响；第三步：计算尖峰极值点透过率比值与膜层光学厚度比值，中心波长与总光学厚度，两组数学关系。第四步：根据第三步的数学关系，求解计算膜厚的公式；第五步：从工件盘中心到边缘摆放数量大于2的基片，沉积本发明专利技术所述双腔滤光片，测量出每一片的中心波长和尖峰极值透过率，用第四步的公式计算出每一片两种膜层厚度，得到镀膜机镀膜膜厚度分布即膜厚均匀性。实验表明：本发明专利技术可以快速准确获得光学镀膜机镀膜膜厚均匀性数据，为镀膜机镀膜膜厚均匀性修正提供依据。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学薄膜，特别是一种能准确有效检测光学镀膜机上镀膜厚度均匀性的方法。
技术介绍
光学干涉薄膜技术是光学学科与技术最为重要和最为普及的分支学科之一。在现代光学学科中很难找到不使用单层或多层薄膜的光学元件。它已被广泛的应用于人们的日常生活、工业、农业，建筑、交通运输、医学、天文学、军事和航天等领域。这些薄膜不仅改善系统性能，而且是满足设计目标和作用功能所必须的手段。没有光学薄膜，这些系统将不复存在。光学薄膜是在光学镀膜机中沉积生成的，光学镀膜机镀膜膜厚度均匀性的控制是光学薄膜生产过程中的一个重要问题。所谓膜厚均匀性是指待镀膜基片上所镀的膜厚随着基片在镀膜机真空室内所处的位置变化而变化的一种性质。镀膜机镀膜膜厚均匀性直接关系到产品的良率和薄膜的质量。镀膜机镀膜膜厚均匀性可以通过改变镀膜机的配置或添加修正挡板实现，而准确获得膜厚均匀性数据则是进行均匀性修正的前提。镀膜机镀膜膜厚均匀性的检测通常可以采用沉积测量单层膜或法-泊滤光片来实现。采用单层膜法检测膜层厚度的分布需要沉积比较厚的单层膜，再根据单层膜光谱极值点计算膜厚，这种方法最简单，但准确性较差，不能满足高精度镀膜要求。采本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：袁宏韬，袁磊，彭钦军，崔大复，许祖彦，
申请(专利权)人：中国科学院理化技术研究所，
类型：发明
国别省市：