【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及线路板技术,尤其涉及一种处理线路板的方法、装置及系统。
技术介绍
在线路板制造领域中,使用通孔、盲孔、埋孔、铜浆(或银浆等)塞孔或铜柱等技术将相邻的线路层互连,在制作包含铜柱的互连层时,基本流程为在导电层上进行线路层图形转移-线路层电镀-线路层退膜,然后在线路层进行铜柱层图形转移-铜柱层电镀-铜柱层退膜,最后对完成的线路板进行清洗。在上述流程中,线路层退膜时形成了轻微的氧化,导致后续进行铜柱层制作时,因为标靶表面的氧化,后续曝光机的CXD (Charge Coupled Device,电荷耦合器件)系统无法识别对位标靶,引起对位精度不良。而且,由于导电层及标靶的质地为铜,背景的导电层的质地也为铜,不易确定对位标靶的位置。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种处理线路板的方法、装置及系统,通过完成线路层及铜柱层的制作后,再进行退膜处理,避免了退膜时产生的氧化影响铜柱层制作时的对位效果。同时,由于线路层的感光剂未退去,使线路层的标靶背景为感光剂,标靶的质地为铜,背景的质地为非金属的感光剂,增强了后续的曝光机的CCD系统识别对位标靶。本专利技术实施例提供了 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:苏新虹,朱兴华,
申请(专利权)人:北大方正集团有限公司,
类型:发明
国别省市:
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