掺杂二氧化钛的石英玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种掺杂二氧化钛的石英玻璃及其制备方法。通过以下方法制备适合作为EUV光刻部件的所述掺杂二氧化钛的石英玻璃：通过燃烧器喷嘴供给提供硅的反应气体和提供钛的反应气体以及氢气和氧气，使反应气体氧化或火焰水解以形成合成氧化硅-二氧化钛精细颗粒，在旋转靶上沉积二氧化硅-二氧化钛精细颗粒，及同时熔化和玻璃化该沉积的颗粒以生长掺杂二氧化钛的石英玻璃锭。缩回靶以保证锭生长前沿距离燃烧器喷嘴至少250mm。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种适用于在EUV光刻技术中使用的掺杂二氧化钛的石英玻璃，及其制备方法。
技术介绍
在用于制造半导体器件的先进光刻处理中，较短波长的光源用于曝光。随后采用超紫外线(EUV)的光刻被认为是有前途的。由于EUV光刻技术采用反射光学系统，所以即使由引入其中的热所导致的光刻光学系统中每一个部件(例如基材)的轻微热膨胀，都将对光刻精度产生不利影响。因此，例如反射镜、掩模、工作台等部件都必须由低膨胀材料制成。已知掺杂二氧化钛的石英玻璃是典型的低膨胀材料。添加一定量的二氧化钛可使石英玻璃的热膨胀最小化。EUV光刻部件还必须具有均匀的低热膨胀分布。为了获得均匀的低热膨胀分布，首要的是，使石英玻璃以均匀浓度掺杂二氧化钛。例如，JP-A 2004-315351公开了掺杂二氧化钛的石英玻璃，其中在30mmX 30mm范围内的最大和最小的TiO2浓度差为小于或等于O. 06 重量％，并且在30mmX 30mm范围内随着石英玻璃中TiO2浓度变化的折射率变化(An)小于或等于2X10'还已知在掺杂二氧化钛的石英玻璃中的OH基团浓度是对掺杂二氧化钛的石英玻璃的低热膨胀具有影响的物理性能之一。例如本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：毎田繁，大塚久利，关泽修，柳泽直树，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：