本发明专利技术属于MEMS领域，涉及一种模拟蚊子嘴制作的用来进行无痛进样的微针阵列。其特征是：采用两步和双向深反应离子刻蚀(Deep?reactive?ion?etching，DRIE)工艺确保微针孔的完全刻穿和其侧壁的光滑性；采用各向异性湿法腐蚀工艺，在40％KOH溶液87℃水浴加热的条件下腐蚀硅片得到侧壁为{411}晶面的硅微针；最终得到高度为100μm-120μm、针孔直径为10μm-25μm、针孔中心偏离针尖5μm-10μm的空心硅微针尖。本发明专利技术制作工艺简单，容易实现，成本低廉，有效地解决了异平面空心微针的制作工艺问题。
【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：邹赫麟，张水平，刘冲，
申请(专利权)人：大连理工大学，
类型：发明
国别省市：
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