【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种三维温度场测试方法,尤其涉及一种。
技术介绍
结合辐射温度测量及光学层析形成的发射光谱层析方法属于光学层析的一个分支,采用该方法能够对具有对外辐射的待测目标三维物理量分布进行无损检测。由普朗克黑体辐射定律可知,根据黑体在某一波长下的辐射出射度可以得出黑体的温度,但是实际物体的温度还跟物体的发射率有关系,由于物体的发射率没有通用的数学模型,一般不易在线测量,因此基于单波长发射光谱层析的温度场重建会因为发射率问题引入较大的测量误差。双波长比色测温通过双波长下辐射出射度的比值(比色)可以一定程度地减少发射率对温度测量的影响,因此基于双波长发射光谱层析的温度场重建可避免单波长发射光谱层析方法的缺点。现有的双波长发射光谱层析方法采用成像透镜、比例分光镜、窄带滤色片、面阵探测器件进行原始数据采集,存在着两个明显的缺点其一由于辐射线为锥形束成像方法,因此在层析反演计算时存在比平行束层析大得多的重建误差;其二由于采用比例分光镜进行辐射信息的分路,分光镜的固定、分光后两路成像光轴的角度匹配、面阵探测器的角度及位置匹配要求非常高,极易受现场测试环境干扰(例如振动冲 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
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