本实用新型专利技术公开了一种高地应力下巷道围岩二次让均压支护结构，包括沿巷道延伸方向布设在所开挖巷道内且对所开挖巷道进行全断面支护的钢拱架、由充填在钢拱架与巷道开挖界面之间的弹性材料组成的软回填层和沿巷道延伸方向布设在所开挖巷道断面上的多个全断面支护机构，全断面支护结构包括布设在所开挖巷道断面上且由多个锚杆组成的全断面锚杆支护体系和布设在所开挖巷道断面上且由多个锚索组成的全断面锚索支护体系，钢拱架与巷道开挖界面间设置有用于布设软回填层的预留间隙。本实用新型专利技术结构设计合理、施工方便、投入成本低且使用效果好，能实现均匀让压，有效避免了因二次支护构件应力集中部位产生屈服变形而导致的二次支护结构整体失稳现象。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：于远祥，
申请(专利权)人：西安科技大学，
类型：实用新型
国别省市：
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