本发明专利技术公开一种遮光板的制作方法，其步骤包括：在曝光台上设置挡板，通过调整挡板的位置来控制玻璃基板上的露光区域的位置，从而将需透光区域的膜层移除，并在需要遮蔽的区域形成遮光图案。本发明专利技术采用了遮罩挡板，挡板可以独立运动，能单独进行精确控制，因此可以对曝光机的光线进行精确定位，制作出符合标准的的遮光板。而且本发明专利技术无需专门设计光罩，从而节省了光罩的设计和制作成本，因此本发明专利技术可以在保证制作精度的同时，有效节约生产成本。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶显示领域，更具体的说，涉及。
技术介绍
目前在TFT-LCD业界中，液晶盒(CELL)制程段进行框胶固化时需使用紫外线遮光板(UV glass)，利用紫外线遮光板(UV glass)上的遮光图案遮蔽显示区(AA)区配向膜 (PI)及液晶区域，使其不受紫外光照射之影响，同时将框胶部位暴露于紫外光照射下以达到固化之目的。紫外线遮光板(UV glass)的制作方法通常有两种，一种是设计紫外线遮光图案(UV mask)，利用光罩曝光形成具有特定位置遮光图案的紫外线遮光板(UV glass)；另一种方法是利用阵列基板(Array)周边露光机曝掉框胶所在位置的金属膜层，从而在玻璃基板(glass)上形成遮光图案。但是这两种方法分别存在如下缺陷采用光罩曝光的方式， 由于光罩价格昂贵，特别是高世代产线的大光罩，不利于降低产品生产成本；采用周边露光机的方式由于精度不高，制作结果往往与实际要达到的标准存在较大差距。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种低成本、高精度的遮光板的制作方法。本专利技术的目的是通过以下技术方案来实现的，其步骤包括A 在曝光台上设置挡板，通过调整挡板的位置来控制玻璃基板上的露光区域的位置，从而将需透光区域的金属膜层移除，并在需要遮蔽的区域形成遮光图案。优选的，所述挡板为曝光机台上自带的遮罩挡板。采用自带的遮罩挡板，无需额外增加投资，成本更低。优选的，所述步骤A包括Al 在玻璃基板上形成不透光的金属膜层；A2:在曝光台上设置挡板，在所述玻璃基板上形成保留区域图案，并通过曝光处理，移除玻璃基板的其他部分的金属膜层；保留区域的图案用于形成曝光机的对位标识，玻璃编号等图案。A3 在玻璃基板形成金属膜层、涂光阻；采用挡板对需露光的胶框区域进行曝光处理，移除该区域的金属膜层。优选的，所述步骤A2包括A2. 1 先通过曝光机处理掉玻璃基板四周胶框对应区域的金属膜层；A2. 2 在所述玻璃基板上形成保留区域图案，并通过曝光处理，移除玻璃基板的其他部分的金属膜层。优选的，所述步骤A3包括A3. 1 在玻璃基板形成金属膜层、涂光阻；采用挡板遮蔽每个液晶盒对应区域，露出除液晶盒对应区域外的其它区域并进行曝光处理；A3. 2 依序进行显影、蚀刻、光阻剥离，保留遮光图案和紫外线光罩对准标记的金属膜层。本专利技术采用了遮罩挡板，挡板可以独立运动，能单独进行精确控制，因此可以对曝光机的光线进行精确定位，制作出符合标准的的遮光板。而现有技术是在光罩上通过挡板围绕形成遮光区域，然后在光罩上方曝光形成遮光图案，本专利技术不使用光罩，直接利用挡板形成曝光区域，对遮光部分以外的区域进行直接曝光后移除金属膜层，从而节省了光罩的设计和制作成本；跟周边漏光机相比，曝光机的精度高、覆盖范围广，通过控制挡板，完全可以实现精确曝光，制作出高品质的遮光板。附图说明图1是本专利技术实施例步骤一示意图；图2是本专利技术实施例步骤二示意图；图3是本专利技术实施例步骤三示意图；其中100、遮光板；110、环路封条；120、保留区域图案；121、紫外线光罩对准标记；130、遮光图案。具体实施例方式下面结合附图和较佳的实施例对本专利技术作进一步说明。目前在TFT-LCD业界中，液晶盒(CELL)制程段进行框胶固化时需使用紫外线遮光 U 100 (UV glass)，利用紫外线遮光板100 (UV glass)上的遮光图案130遮蔽显示区(AA) 区配向膜(PI)及液晶区域，使其不受紫外光照射之影响，同时将框胶部位暴露于紫外光照射下以达到固化之目的。本专利技术公开一种低成本、高精度的遮光板100制作方法，具体步骤如下所述实施方案一通过调整Canon曝光机遮罩挡板(mask blade)位置，同时搭配自由配置(free layout)曝光完成UV glass制作。步骤一如图1所示，首先在玻璃基板上形成不透光的金属膜层，然后利用公知的方法完成正常的玻璃基板曝光过程，并用周边露光机洗掉玻璃基板周边环路封条110 (loop seal)所在位置的金属膜层——该步骤将在玻璃基板上形成包括紫外线光罩对准标记 121 (GE mask)的图案(pattern)。步骤二 如图2所示，不使用光罩，仅利用掩模台(mask stage)上的挡板(blade) 遮蔽大板周边过程标示(process mark)区域，对步骤一完成后的大板进行二次曝光，然后完成显影、蚀刻、剥离光阻之制程——该步骤将形成保留区域图案120，具体为紫外线光罩对准标记121 (mask alignment mark)与玻璃编号图案(Glass ID pattern)，同时将其他区域之金属膜层全部移除。步骤三如图3所示，完成步骤二后，再次对大板镀膜(金属膜层)、涂光阻；不使用光罩，仅利用掩模台(mask stage)上挡板(blade)进行遮蔽，对需露光区域进行曝光，并用周边露光机洗掉玻璃基板周边环路封条110 (loop seal)所在位置的金属膜层，以及各液晶盒周边胶框对应位置的金属膜层；然后依序进行显影、蚀刻、光阻剥离，形成各个液晶盒对应的遮光图案130。至此，遮光板100制作完成。 以上内容是结合具体的优选实施方式对本专利技术所作的进一步详细说明，不能认定本专利技术的具体实施只局限于这些说明。本专利技术可以采用曝光机自带的挡板，也可以单独采用其他可控的挡板；曝光机也不局限于Canon曝光机，还可以选用Nikon、NSK、HHT等品牌的曝光机。对于本专利技术所属
的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术构思的前提下， 还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本专利技术的保护范围。权利要求1.，其步骤包括A 在曝光台上设置挡板，通过调整挡板的位置来控制玻璃基板上的露光区域的位置， 从而将需透光区域的金属膜层移除，并在需要遮蔽的区域形成遮光图案。2.如权利要求1所述的，其特征在于，所述挡板为曝光机台上自带的遮罩挡板。3.如权利要求1所述的，其特征在于，所述步骤A包括Al 在玻璃基板上形成不透光的金属膜层；A2 在曝光台上设置挡板，在所述玻璃基板上形成保留区域图案，并通过曝光处理，移除玻璃基板的其他部分的金属膜层；A3 在玻璃基板形成金属膜层、涂光阻；采用挡板对需露光的胶框区域进行曝光处理， 移除该区域的金属膜层。4.如权利要求3所述的，其特征在于，所述步骤A2包括A2. 1 先通过曝光机处理掉玻璃基板四周胶框对应区域的金属膜层；A2. 2 在所述玻璃基板上形成保留区域图案，并通过曝光处理，移除玻璃基板中其他部分的金属膜层。5.如权利要求3所述的，其特征在于，所述步骤A3包括A3. 1 在玻璃基板形成金属膜层、涂光阻；采用挡板遮蔽每个液晶盒对应区域，露出除液晶盒对应区域外的其它区域并进行曝光处理；A3. 2 依序进行显影、蚀刻、光阻剥离，保留遮光图案和保留区域图案的金属膜层。6.如权利要求3所述的，其特征在于，所述保留区域图案为紫外线光罩对准标记与玻璃编号图案。全文摘要本专利技术公开，其步骤包括在曝光台上设置挡板，通过调整挡板的位置来控制玻璃基板上的露光区域的位置，从而将需透光区域的膜层移除，并在需要遮蔽的区域形成遮光图案。本专利技术采用了遮罩挡板，挡板可以独立运动，能单独进行精确控制，因此可以对曝光机的光线进行精确定位，制作出符合本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：施明宏，林明文，李蒙，林韦呈，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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