本实用新型专利技术涉及无掩膜曝光装置，具有：曝光光源；包含空间光调制器的曝光光学系统；曝光工作台，使曝光对象物与曝光光学系统相向并保持，相对于曝光光学系统相对地移动；以及计测单元，以标尺脉冲信号对保持构件的移动量进行计测，通过曝光光学系统对曝光对象物进行曝光并描绘；其中，具备：比较单元，校正单元，以及设定单元。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
无掩模曝光装置
本专利技术涉及用于不使用掩模在曝光基板对图案进行曝光的无掩模曝光装置。技术背景已知不使用图案掩模(pattern mask)而使用空间光调制器(Digital Mirror Device，数字微镜器件以下，略称为DMD)，通过紫外线在印刷基板、半导体、液晶表面的感光性干膜或液状抗蚀剂等的曝光对象物(以下，称为曝光基板)对电路图案进行描绘的无掩模(maskless)曝光装置(例如，参照专利文献1 )。在该专利文献1中记载了如下专利技术，其是一种无掩模曝光装置，包括输出曝光照明光的曝光光源、2维空间调制器、第1投影透镜、微透镜阵列、第2投影透镜、以及保持曝光基板并在与所述第2投影透镜的光轴正交的方向移动的工作台，该无掩模曝光装置的特征在于，设置有作为板厚度方向的一个面相对于板厚度方向的另一个面呈角度θ的倾斜面的第1和第2的2个楔玻璃、以及使所述楔玻璃的至少一方移动的移动单元，将所述第1楔玻璃的所述另一个面相对于所述第2投影透镜的光轴垂直地配置，将所述第2楔玻璃的所述一个面以与所述第1楔玻璃的相应的一个面的距离成为预定值的方式进行组合，配置在所述第2投影透镜的入射侧或出射侧，在所述第2投影透镜的所述光轴方向的成像位置从所述曝光基板的表面偏离的情况下，通过所述移动单元以使所述距离为固定的方式将所述楔玻璃的任一方在所述角度θ方向移动，由此将所述第2投影透镜的成像面定位在所述曝光基板的表面。在所述专利文献1中，记载了对曝光时的成像位置的偏离进行校正来进行定位， 但除此之外，在这种无掩模曝光装置中，在进行曝光的情况下，将作为曝光对象物的曝光基板固定在曝光工作台上，控制电路使DMD的图案切换与工作台推进为同一步调进行曝光。 这时，控制电路基于来自安装在曝光工作台的线性标尺(linear scale)的标尺脉冲信号， 生成与曝光分辨率匹配的DMD的图案切换脉冲。DMD的图案切换脉冲通过对从线性标尺直接输入的标尺脉冲信号、即所谓的原始的标尺脉冲信号进行规定数量计数从而来取得。DMD通常内置有被称为数据存储器的用于临时存储描绘数据的存储器，此外，安装有进行自身的控制的控制电路，当在当前地点的曝光中接收到下一个地点的描绘数据的转送时，将该描绘数据存储在自身的数据存储器中。而且当接收到图案切换脉冲时，将现在的描绘图案数据替换为数据存储器的描绘图案数据，进行反射镜的On-Off。该数据的转送需要某种程度的时间。当以上述方式从原始的脉冲信号生成DMD的图案切换脉冲信号时，进行工作台推进的驱动系统的速度变动的影响直接对所述图案切换脉冲信号造成影响。另一方面，虽然进行工作台推进的驱动系统被伺服控制，但其推进速度以士 10%程度进行变动。可是，当工作台推进的推进速度变快，在上述的描绘数据转送时间之前到达下一个曝光区域并产生标尺脉冲，根据其产生DMD图案切换脉冲时，DMD发生错误。因此，历来为了使工作台推进具有裕度，不得不使用比平均速度慢10%左右的推进速度。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开2009-803 号公报。专利技术要解决的问题可是，当如上述那样使工作台推进的速度慢10%左右来进行曝光时，曝光基板整体的曝光时间变慢了使工作台推进速度延迟10%的量，相应地生产效率降低。
技术实现思路
因此，本专利技术要解决的课题在于，抑制工作台推进的驱动系统的速度变动的影响， 高效率地进行曝光，谋求曝光基板的曝光工序的生产性的提高。用于解决课题的方案为了解决上述课题，第1方案是无掩模曝光方法，将曝光对象物固定在曝光工作台上，使曝光光学系统的空间光调制器的图案切换与工作台推进同步来进行曝光，其特征在于，比较伴随所述曝光工作台的移动而取得的标尺脉冲信号的脉冲间隔和预先设定的标准的标尺脉冲信号的脉冲间隔，在所述取得的标尺脉冲信号间隔比所述标准的脉冲间隔短的情况下，以该变短的标尺脉冲的输出定时变为所述标准的标尺脉冲间隔的输出定时的方式进行校正，以使所述空间光调制器的图案切换脉冲的输出间隔变为描绘数据转送时间以上。由此能够减少由于工作台推进机构8的推进速度的变动导致在数据转送前产生标尺脉冲而发生的DMD的错误。第2方案是一种无掩模曝光装置，具有曝光光源，输出曝光照明光；曝光光学系统，包含空间光调制器；曝光工作台，使曝光对象物与所述曝光光学系统相向并保持，相对于所述曝光光学系统相对地移动；以及计测单元，以标尺脉冲信号对所述保持构件的移动量进行计测，通过所述曝光光学系统对所述曝光对象物进行曝光并描绘，该无掩模曝光装置的特征在于，具备比较单元，比较通过所述计测单元伴随所述曝光工作台的移动而取得的标尺脉冲信号的脉冲间隔和预先设定的标准的标尺脉冲信号的脉冲间隔；校正单元，根据所述比较单元的比较结果，在所述取得的标尺脉冲信号间隔比所述标准的标尺脉冲间隔短的情况下，以该变短的标尺脉冲的输出定时变为所述标准的标尺脉冲间隔的输出定时的方式进行校正；以及设定单元，以通过所述校正单元的校正，所述空间光调制器的图案切换脉冲输出间隔变为描绘数据转送时间以上的方式进行设定。再有，在后述的实施方式中，曝光对象物对应于曝光基板9，曝光工作台对应于包含曝光工作台的工作台推进机构8，曝光光学系统对应于符号2，空间光调制器对应于未图示的DMD，伴随曝光工作台的移动而取得的标尺脉冲信号间隔对应于现实的标尺脉冲信号间隔Plab、Prtc、Pled、PIde、PIef、PIfg，预先设定的标准的标尺脉冲信号的脉冲间隔对应于符号SPI，两者的比较对应于步骤S8，在取得的标尺脉冲信号间隔比标准的标尺脉冲间隔短的情况下，以该变短的标尺脉冲的输出定时变为标准的标尺脉冲间隔的输出定时的方式进行校正对应于步骤S9，使空间光调制器的图案切换脉冲成为描绘数据转送时间以上对应于步骤SlO和步骤Sll，曝光光源对应于符号1，计测单元对应于线性标尺5和CNC7，比较单元对应于步骤S8，校正单元对应于步骤S9，设定单元对应于步骤SlO和步骤Sl 1。专利技术的效果根据本专利技术，因为能够减少工作台推进机构8的推进速度的变动导致的DMD的错误产生，谋求工作台的推进速度的提高，因此能够高效率地进行曝光，谋求曝光基板的曝光工序的生产性的提高。附图说明图1是表示本专利技术的实施方式的无掩模曝光装置的概略结构的图。图2是表示与工作台推进机构的推进同步的DMD图案切换脉冲生成在理想的情况下的定时的时间图。图3是表示对由现实的曝光工作台产生的标尺脉冲进行校正后的标尺脉冲的输出定时的一例的时间图。图4是表示对由现实的曝光工作台产生的标尺脉冲进行校正后的标尺脉冲的输出定时的另一例的时间图。图5是表示图3和图4所示的标尺脉冲校正的校正过程的流程图。具体实施方式本专利技术基于如下发现，从而降低了所述变动导致的错误的产生，该发现是几乎没有工作台推进机构的推进速度的变动导致的标尺脉冲的产生变动连续地产生的情况，大部分情况下是标尺脉冲的间隔是交替地产生扩张和收缩的程度。以下，针对本专利技术的实施方式，一边参照附图一边进行说明。图1是表示本专利技术的实施方式的无掩模曝光装置的概略结构的图。在同图中，无掩模曝光装置基本上构成为包括曝光光源1 ；包含将从曝光光源1出射的光导向曝光基板 9侧进行曝光的DMD的光学系统2 ；驱动DMD的DMD驱动器单元3 本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：千田丽誉，
申请(专利权)人：日立VIA机械株式会社，
类型：实用新型
国别省市：
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