静电吸盘制造技术

本发明专利技术提供一种静电吸盘，其能够防止对形成于基板表面的电路的元件的破坏以及向基板附着污染物质，且能够防止对基板背面的损伤，并且能够容易地应用于既有的装置。在具有上层(42)、下层(43)以及被设于上层(42)与下层(43)之间的静电电极板(44)的静电吸盘(40a)的上层(42)的基板载置面(41)上形成有由作为与基板G的背面的构成材料相同的材料的玻璃形成的、用于与基板G的背面抵接的最上层(45a)，上层(42)及下层(43)由作为对含氟气体具有抗性的电介质的氧化铝形成。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种在基板处理装置的处理室内的用于载置基板的基板载置台上形成基板载置面的静电吸盘。
技术介绍
公知一种在以液晶显示装置(LCD)为首的FPD(Flat Panel Display 平板显示器)的制造工序中、用于对以玻璃基板为首的各种基板实施等离子体处理的基板处理装置。在如上述的基板处理装置中，在处理室(以下称为“腔室”)内具有用于支承玻璃基板(以下简称为“基板”)的基板载置台和以同该基板载置台隔着处理空间相对的方式配置的上部电极，对作为下部电极发挥作用的基板载置台施加等离子体生成用的高频电 (RF)，并且将处理气体导入到处理空间使该处理气体生成等离子体，使用生成的等离子体对载置于基板载置台的基板载置面上的基板实施规定的等离子体处理。对于形成基板载置台的基板载置面的静电吸盘而言，通常主要由形成上层以及下层的作为绝缘层的氧化铝(Al2O3)层和配置于由该氧化铝层形成的上层以及下层之间的静电电极板构成。因而，在对基板实施等离子体处理时，在静电吸盘的由氧化铝形成的上层上载置基板，氧化铝层与基板的背面抵接。在此，由于玻璃的带电序列与氧化铝的带电序列不同，因此将由玻璃形成的基板从本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：南雅人，佐佐木芳彦，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：