含磺酰脲类化合物的组合物和其除草用途制造技术

技术编号:74653 阅读:194 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
式Ⅰ的N-苯磺酰基-N'-嘧啶基、-N'-三嗪基-和-N'-三唑基脲和硫脲及其与胺、碱金属、碱土金属碱或季铵碱形成的盐具有良好的芽前或芽后选择性除草和调节生长的作用。(*该技术在2012年保护过期,可自由使用*)

Compositions containing sulfonylurea compounds and their herbicidal use

Type I N - phenylsulfonyl - N '- pyrimidin-2-yl, - N' - three in medium - and - N '- three pyrazolyl urea and thiourea and amine, alkali metal, alkaline earth metal base or quaternary ammonium salt formed with good bud or bud after selective herbicidal and growth regulation the role of.

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及新的、具有除草和植物生长调节活性的N-苯磺酰基-N′-嘧啶基-,N′-三嗪基-和-N′-三唑基脲和-硫脲,它们的制备方法,以其作为活性成分的组合物以及它们在控制杂草、尤其是在选择性地控制有用作物中的杂草方面的应用或者是在调节和抑制植物生长方面的应用。具有除草作用的脲类化合物、三嗪化合物和嘧啶化合物一般是已知的。例如,欧洲专利申请0007687,0030138,0073562和0126711中提到过这类化合物。现在所发现的是具有除草和植物生长调节作用的新的磺酰脲和-硫脲。本专利技术的N-苯磺酰基-N′-嘧啶基-,N′-三嗪基和-N′-三唑基脲和-硫脲具有如下式Ⅰ 其中x为氧、硫、SO或SO2;W为氧或硫;R1为氢或甲基;R2为氢、氟、氯、溴、碘、(Xn)R3、NO2、NR4R5、-C≡CR6、 ,或氰基;n为0或1;R3为C1-C4烷基或被1-4个卤原子取代的C1-C4烷基、C1-C3烷氧或C1-C3烷硫基;或为C2-C4链烯基或被1-4个卤原子取代的C2-C4链烯基;R4为氢、CH3O、CH3CH2O或C1-C3烷基;R5为氢或C1-C3烷基;R6为氢、甲基或乙基;R7为氢或甲基;Z为 E为次甲基或氮;R8为C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷硫基、C1-C4烷硫基、卤素、C2-C5烷氧基烷基、C2-C5烷氧基烷氧基、氨基、C1-C3烷基氨基或二(C1-C3烷基)氨基;R9为C1-C4卤代烷氧基、C1-C4卤代烷硫基、C1-C4烷硫基、C2-C5烷氧基烷基、C2-C5烷氧基烷氧基、C2-C5烷硫基烷基或环丙基;R10为氢、氟、氯、甲基、三氟甲基、CH3O、CH3CH2O、CH3S、CH3SO、CH3SO2或氰基;R11为甲基、乙基、CH3O、CH3CH2O、氟或氯;R12为甲基;乙基、CH3O、CH3CH2O、氟或氯;R13为C1-C3烷基;R14为C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、氯或OCHF2;以及这些化合物的盐;条件是,R8为卤素时E为次甲基;R8或R9为OCHF2或SCHF2时E为次甲基。在上述定义中,卤素应被理解为代表氟、氯、溴或碘,优选的是氟、氯或溴。取代基定义中的烷基可以是直链或支链烷基,例如,甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基或叔丁基。烷基或取代基中的烷基最好含1-3个碳原子。链烯基应被理解为直链或支链链烯基,例如,乙烯基、烯丙基、甲代烯丙基、1-甲代正烯基或丁-2-烯-1-基。优选具有2-3个碳原子的链烯基。卤代烷基的例子有氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、氯甲基、二氯甲基、三氯甲基、2,2,2-三氟乙基、2-氟乙基、2-氯乙基或2,2,2-三氯乙基;优选的是三氯甲基、二氟氯甲基、三氟甲基或二氯氟甲基。烷氧基的例子有甲氧基、己氧基、丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基或叔丁氧基;优选的是甲氧基或乙氧基。卤代烷氧基的例子有二氟甲氧基、三氟甲氧基、2,2,2-三氟乙氧基、1,1,2,2-四氟乙氧基、2-氟乙氧基、2-氯乙氧基或2,2-二氟乙氧基;优选的是二氟甲氧基、优选的是二氟甲氧基、2-氯乙氧基或三氟甲氧基。烷硫基的例子有甲硫基、乙硫基、丙硫基、异丙硫基、正丁硫基、异丁硫基、仲丁硫基或叔丁硫基,优选的是甲硫基或乙硫基。烷氧基烷氧基的例子有甲氧基甲氧基、甲氧基乙氧基、甲氧基丙氧基、乙氧基甲氧基、乙氧基乙氧基或丙氧基甲氧基。烷氨基的例子有甲氨基、乙氨基、正丙氨基或异丙氨基、二烷基氨基的例子有二甲氨基、甲基乙基氨基、二乙氨基或正氨基或正丙基甲基氨基。本专利技术也涉及式Ⅰ化合物与胺、碱金属和碱土金属碱或季铵碱形成的盐。优选的碱金属和碱土金属成盐剂是锂、钠、钾、镁或钙(尤其是钠或钾)的氢氧化物。适于成盐的胺的例子有伯、仲、叔脂肪族或芳族胺,如甲胺、乙胺、丙胺、异丙胺、四种异构丁胺、二甲胺、二乙胺、二乙醇胺、二丙胺、二异丙胺、二-正丁胺、吡咯烷、哌啶、吗啉、三甲胺、三乙胺、三丙胺、奎宁环、吡啶、喹啉和异喹啉,优选的是乙胺、丙胺、二乙胺或三乙胺,更优选的是异丙胺和二乙醇胺。季铵碱的例子一般为卤代铵盐的阳离子,如四甲基铵阳离子、三甲基苄基铵阳离子、三乙基苄基铵阳离子、四乙基铵阳离子、三甲基乙基铵阳离子或甚至为铵阳离子。优选其中W为氧、Z为Z1、X为氧或硫(更优选氧)且E为氮的式Ⅰ化合物。另一组优选的式Ⅰ化合物是其中Z为Z1且X为氧或硫(尤其是氧)、E为次甲基的式Ⅰ化合物。在这两组尤其感兴趣的式Ⅰ化合物中,R2为氢、氟、氯、OCH3、OCHF2,甲基、SCH3、甲氧基、乙氧基或氯代乙氧基;R8为C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C2卤代烷氧基、三氟甲基、CHF2、CH2F、CH2OCH3、氟、氯、NH2、NHCH3、N(CH3)2、SCH3或CH2OCH3;且R9为C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C2卤代烷氧基或环丙基。在该组更优选的化合物中,R2为氢;R8为甲基、乙基、OCH3、OC2H5、OCHF2、OCH2CF3、氯、NHCH3、N(CH3)2或CH2OCH3;且R9为甲基、OCH3、OCHF2、OC2H5或环丙基。在另一优选的一小组式Ⅰ化合物中,W为氧;Z为Z1;X为硫;R2为氢、氟、氯、OCH3、OCHF2、甲基或甲硫基;R8为C1-C3烷基、C1-C3烷基、CF3、C1-C2卤代烷氧基、CHF2、CH2F、CH2OCH3、氟、氯、NH2、NHCH3、N(CH3)2、SCH3或CH2OCH3;且R9为C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C2卤代烷氧基或环丙基。在感兴趣的该组式Ⅰ化合物中,W为氧;Z为Z1;X为硫;R2为氢;R8为甲基、乙基、OCH3、OC2H5、OCHF2、OCH2CF3、Cl、NHCH3、N(CH3)2或CH2OCH3;且R9为甲基、OCH3、OCHF2、OC2H5或环丙基。优选的式Ⅰ范围内的具体化合物是N-〔2-(氧杂环丁烷-3-氧羰基)〕苯磺酰基-N′-(4-甲氧基-6-甲基-1,3,5-三嗪基)脲;N-〔2-(氧杂环丁烷-3-氧羰基)〕苯磺酰基-N′-(4,6-二甲基嘧啶-2-基)脲;N-〔2-(氧杂环丁烷-3-氧羰基)〕苯磺酰基-N′-(4-甲氧-6-甲基嘧啶-2-基)脲;和N-〔2-(氧杂环丁烷-3-氧羰基)〕苯磺酰基-N′-(4,6-二甲氧基嘧啶-2-基)脲。可通过以下看法制备式Ⅰ伦合物a)将式Ⅱ的苯磺酰胺与式Ⅲ的嘧啶基-、三唑基-或三嗪基氨基甲酸酯或硫代氨基甲酸酯在碱存在下反应 式Ⅲ中,W、Z和R1的定义同前,且R15为苯基或取代苯基,或b)将式Ⅳ的磺酰基氨基甲酸酯或磺酰基硫代氨基甲酸酯与式Ⅴ的胺在碱存在下进行反应 式Ⅳ中,R2、W、X和Z的定义同式Ⅰ,且R15的定义同式Ⅲ,式Ⅴ中,Z的定义同式Ⅰ,或c)将式Ⅱ的苯磺酰胺与式Ⅶ的嘧啶-、三唑-或三嗪基异氰酯或硫代异氰酸酯在碱存在下反应, (其中R2和X的定义同式Ⅰ),Y=N=C-Z (Ⅶ)(其中Z的定义同式Ⅰ,Y为氧或硫)。也可在铵盐、磷盐、锍盐或式Ⅹ的碱金属氰酸盐存在下,将式Ⅷ的化合物与式Ⅴ的化合物反应而制备式Ⅰ化合物,M+OCN-(Ⅹ)其中M为碱金属或R15R16R17R18Q(其中R15R16本文档来自技高网...

【技术保护点】
式Ⅰ的化合物及基盐,***(Ⅰ)其中X为氧、硫、SO或SO↓[2];W为氧或硫;R↓[1]为氢或甲基;R↓[2]为氢、氟、氯、溴、碘、(X)↓[n]R↓[3]、NO↓[2]、NR↓[4]R↓[5]-C≡CR↓[6]、-O***C≡CR↓[6]或氰基;n为0或1;R↓[3]为C↓[1]-C↓[4]烷基或被1-4个卤原子、C↓[1]-C↓[3]烷氧基或C↓[1]-C↓[3]烷硫基取代的C↓[1]-C↓[4]烷基;或为C↓[2]-C↓[4]链烯基或被1-4个卤原子取代的C↓[2]-C↓[4]链烯基;R↓[4]为氢、CH↓[3]O、CH↓[3]CH↓[2]O或C↓[1]-C↓[3]烷基;R↓[5]为氢或C↓[1]-C↓[3]烷基;R↓[6]为氢、甲基或乙基;R↓[7]为氢或甲基;Z为***E为次甲基或氮;R↓[8]为C↓[1]-C↓[4]烷基、C↓[1]-C↓[4]烷氧基、C↓[1]-C↓[4]卤代烷氧基、C↓[1]-C↓[4]卤代烷基、C↓[1]-C↓[4]卤代烷硫基、C↓[1]-C↓[4]烷硫基、卤素、C↓[2]-C↓[5]烷氧基烷基、C↓[2]-C↓[5]烷氧基烷氧基、氨基、C↓[1]-C↓[3]烷氨基或二(C↓[1]-C↓[3]烷基)氨基;R↓[9]为C↓[1]-C↓[4]烷基、C↓[1]-C↓[4]烷氧基、C↓[1]-C↓[4]卤代烷氧基、C↓[1]-C↓[4]卤代烷硫基、C↓[1]-C↓[4]烷硫基、C↓[2]-C↓[5]烷氧基烷基、C↓[2]-C↓[5]烷氧基烷氧基、C↓[2]-C↓[5]烷硫基烷基或环丙基;R↓[10]为氢、氟、氯、甲基、三氟甲基、CH↓[3]O、CH↓[3]CH↓[2]O、CH↓[3]S、CH↓[3]SO、CH↓[3]SO↓[2]或氰基;R↓[11]为甲基、乙基、CH↓[3]O、CH↓[3]CH↓[2]O、氟或氯;R↓[12]为甲基、乙基、CH↓[3]O、CH↓[3]CH↓[2]O、氟或氯;R↓[13]为C↓[1]-C↓[3]烷基;和R↓[14]为C↓[1]-C↓[3]烷基、C↓[1]-C↓[3]烷氧基、氯或OCHF↓[2];条件是,当R↓[8]为卤素时E为次甲基;当R↓[8]或R↓[9]为OCHF↓[2]或SCHF↓[2]时E为次甲基。...

【技术特征摘要】
CH 1991-1-25 220/91-61.式Ⅰ的化合物及其盐,其中X为氧、硫、SO或SO2;W为氧或硫;R1为氢或甲基;R2为氢、氟、氯、溴、碘、(X)nR3、NO2、NR4R5、-C≡CR6、或氰基;n为0或1;R3为C1-C4烷基或被1-4个卤原子、C1-C3烷氧基或C1-C3烷硫基取代的C1-C4烷基;或为C2-C4链烯基或被1-4个卤原子取代的C2-C4链烯基;R4为氢、CH3O、CH3CH2O或C1-C3烷基;R5为氢或C1-C3烷基;R6为氢、甲基或乙基;R7为氢或甲基;Z为E为次甲基或氮;R8为C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷硫基、C1-C4烷硫基、卤素、C2-C5烷氧基烷基、C2-C5烷氧基烷氧基、氨基、C1-C3烷氨基或二(C1-C3烷基)氨基;R9为C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4卤代烷硫基、C1-C4烷硫基、C2-C5烷氧基烷基、C2-C5烷氧基烷氧基、C2-C5烷硫基烷基或环丙基;R10为氢、氟、氯、甲基、三氟甲基、CH3O、CH3CH2O、CH3S、CH3SO、CH3SO2或氰基;R11为甲基、乙基、CH3O、CH3CH2O、氟或氯;R12为甲基、乙基、CH3O、CH3CH2O、氟或氯;R13为C1-C3烷基;和R14为C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、氯或OCHF2;条件是,当R8为卤素时E为次甲基;当R8或R9为OCHF2或SCHF2时E为次甲基。2.根据权利要求1所述的式Ⅰ化合物,其中W为氧。3.根据权利要求2所述的式Ⅰ化合物,其中Z为Z1;X为氧或硫。4.根据权利要求3所述的式Ⅰ化合物,其中E为次甲基。5.根据权利要求3所述的式Ⅰ化合物,其中E为氮。6.根据权利要求4和5之一的式Ⅰ化合物,其中X为氧。7.根据权利要求4和5之一的式Ⅰ化合物,其中R2为氢、氟、氯、OCH3、OCHF2、甲基、SCH3、甲氧基、乙氧基或氯代乙氧基;R8为C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C2卤代烷氧基、三氟甲基、CHF2、CH2F、CH2OCH3、氟、氯、NH2、NHCH3、N(CH3)2、SCH3或CH2OCH3;且R9为C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C2卤代烷氧基或环丙基。8.根据权利要求7所述的式Ⅰ化合物,其中R2为氢;R8为甲基、乙基、OCH3、OC2H5、OCHF2、OCH2CF3、氯、NHCH3、N(CH3)2或CH2OCH3;R9为甲基、OCH3、OCHF2、OC2H5或环丙基。9.根据权利要求2所述的式Ⅰ化合物,其中X为硫;R2为氢、氟、氯、OCH3、OCHF2、甲基或甲硫基;R8为C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C2卤代烷氧基、CF3、CHF2、CH2F、CH2OCH3、氟、氯、NH2、NHCH3、N...

【专利技术属性】
技术研发人员:维理梅耶尔
申请(专利权)人:辛根塔参与股份公司
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]

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