聚二甲基硅氧烷表面应力微薄膜生物传感器制造方法技术

技术编号:7456410 阅读:336 留言:0更新日期:2012-06-23 16:33
本发明专利技术公开了一种聚二甲基硅氧烷表面应力微薄膜生物传感器制造方法。以Sylgard?184,Dow?Corning为制备聚二甲基硅氧烷微薄膜的原始材料,即基液与固化剂,采用己烷作为稀释剂,按照体积比基液∶固化剂∶己烷=10∶1∶3的比例,使用一步旋涂工艺6200rpm/132s,成功制备了质地均匀,厚度约1μm的聚二甲基硅氧烷微薄膜作为传感器的传感层,表面蒸镀金膜便于对其进行功能化。本发明专利技术制备工艺简单,灵敏度高,能够实现微型化、低成本、批量生产。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:桑胜波张文栋李朋伟奉辉
申请(专利权)人:太原理工大学
类型:发明
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