温室土壤太阳能复式消毒方法技术

一种温室土壤太阳能复式消毒方法，通过开沟起垄、初次消毒、撤膜降垄、复式消毒、复垄定植等步骤对温室内的土壤进行消毒。本发明专利技术提供的温室土壤太阳能复式消毒方法，利用太阳光照对土壤进行消毒时可有效提高土壤温度，既可消灭病原菌，还能够杀灭线虫，对土壤是一个无害化的处理过程，有利于推广温室高效生态种植模式。本发明专利技术具有生态环保性好、节约性强、适宜性广、操作性强的特点，适合大棚温室无公害水果和蔬菜等的生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种温室土壤的消毒方法，具体涉及一种采用复式消毒的温室土壤方法。
技术介绍
温室大棚是冬季种植蔬菜等作物的保护设施，由于连年种植，造成土壤中土传病害的病原菌大量积累，使种植成本不断上升，产品品质下降。如何做好温室土壤消毒，是搞好温室生产的关键措施之一。过去用氯化苦进行土壤消毒，造成土壤中农药残留超标，严重影响了产品品质。目前对土壤消毒主要是物理消毒法和化学药剂消毒，物理消毒法包括太阳能消毒和蒸气消毒。近几年来，有的地方研究出来了温室土壤消毒新方法，即太阳能石灰氮消毒法，对温室土壤消毒起到了促进作用。据有关资料介绍，太阳能消毒法是日本蔬菜种植户针对连作和温室栽培普遍采用的一种方法，利用太阳光热能产生高温，杀死线虫及防治各种土传病害。2005年6月下旬， 湖北省宜都市大堰原种场引用了太阳能消毒法，在经过夏日高温强光25天后，对三个试点进行了观测，其土壤深度温度如下btXAif ^J 1 + 农!ΑΜΗ ΓIMWiI απmmumi | π办效圯1 70560 I70IP48 I Ltiii"!13 . η I 15 γ j ι42 I 小评观测结果试点1在表层土壤温度70°C时，土壤深度5cm的温度60°C，消毒效果为理想；试点2在表层土壤温度70°C时，土壤深度IOcm的温度48°C，消毒效果为比较理想；试点3在表层土壤温度70°C时，土壤深度15cm的温度42°C，消毒效果为不理想。观测结果显示的问题在土壤深度IOcm以下，土壤深度的温度达不到50°C以上的要求，消毒不彻底、不达标，不能有效杀灭土壤中的各种病虫害，其消毒效果为不理想。专利
技术实现思路
本专利技术提供一种可以消灭病原菌，还能够彻底杀灭线虫的土壤无害化、生产无公害的。本专利技术的目的是这样实现的一种，包括以下步骤(1)开沟起垄在温室内土壤上进行开沟起垄；(2)初次消毒覆盖并整理好温室天膜，然后用塑料薄膜进行地面覆盖，薄膜边缘必须埋实密封，接受阳光照射；(3)撤膜降垄撤开移走地面塑料薄膜，顺垄面中心进行翻耕，再将垄面被翻耕疏松的土壤填埋至垄沟里，降低垄面高度；(4)复式消毒再次用塑料薄膜覆盖密封，埋实薄膜边缘，接受阳光照射；(5)复垄定植恢复垄面整理厢沟，晾晒后完成温室土壤太阳能复式消毒。开沟起垄时厢垄规格按照垄宽85cm、沟深25cm、沟底宽30cm进行起垄开沟。在开沟起垄时可将玉米秸、麦秸切碎，与土壤混合均勻后进行灌水，使土壤水分含量不低于30%。步骤(2)中接受阳光照射的时间为20— 25天。步骤(4)中接受阳光照射的时间为20— 25天。本专利技术提供的，利用太阳光照对土壤进行消毒时可有效提高土壤温度，既可消灭病原菌，还能够杀灭线虫，对土壤是一个无害化的处理过程， 有利于推广温室高效生态种植模式。采用本方法对温室土壤进行了消毒试验，在经过夏日高温强光25天后，对三个试点进行了观测，其土壤深度温度如下权利要求1.一种，其特征在于包括以下步骤(1)开沟起垄在温室内土壤上进行开沟起垄，形成厢垄；(2)初次消毒覆盖并整理好温室天膜，然后用塑料薄膜进行地面覆盖，薄膜边缘必须埋实密封，接受阳光照射；(3)撤膜降垄撤开移走地面塑料薄膜，顺垄面中心进行翻耕，再将垄面被翻耕疏松的土壤填埋至垄沟里，降低垄面高度；(4)复式消毒再次用塑料薄膜覆盖密封，埋实薄膜边缘，接受阳光照射；(5)复垄定植恢复垄面整理厢沟，晾晒后完成温室土壤太阳能复式消毒。2.根据权利要求1所述的，其特征在于开沟起垄时厢垄规格按照垄宽85cm、沟深25cm、沟底宽30cm进行起垄开沟。3.根据权利要求1所述的，其特征在于在开沟起垄时可将玉米秸、麦秸切碎，与土壤混合均勻后进行灌水，使土壤水分含量不低于30%。4.根据权利要求1所述的，其特征在于步骤(2)中接受阳光照射的时间为20—邪天。5.根据权利要求1所述的，其特征在于步骤(4)中接受阳光照射的时间为20—邪天。全文摘要一种，通过开沟起垄、初次消毒、撤膜降垄、复式消毒、复垄定植等步骤对温室内的土壤进行消毒。本专利技术提供的，利用太阳光照对土壤进行消毒时可有效提高土壤温度，既可消灭病原菌，还能够杀灭线虫，对土壤是一个无害化的处理过程，有利于推广温室高效生态种植模式。本专利技术具有生态环保性好、节约性强、适宜性广、操作性强的特点，适合大棚温室无公害水果和蔬菜等的生产。文档编号A01M17/00GK102487927SQ201110314469公开日2012年6月13日 申请日期2011年10月17日 优先权日2011年10月17日专利技术者周振荣, 王心雨, 高清慧 申请人:周振荣本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周振荣，高清慧，王心雨，
申请(专利权)人：周振荣，
类型：发明
国别省市：