面型蒸镀源及其蒸镀方法与系统技术方案

本发明专利技术公开一种面型蒸镀源及其蒸镀方法与系统，将至少一种蒸镀材料披覆于一蒸镀源基板的其中一面作为面型蒸镀源，该蒸镀材料分布的区域为蒸镀材料汽化后可涵盖该欲蒸镀基材的区域内，以一加热装置装设于可加热蒸镀源基板的区域内，通过该加热器对该面型蒸镀源提供热源，将面型蒸镀源由固态转化为气态，扩散到欲蒸镀基材表面，通过使蒸汽以原子或分子的状态的层次控制蒸汽的手段在欲蒸镀基材表面成核、凝结及成核及成长的机制使其形成薄膜膜，可以得到以传统涂布及喷墨技术所无法得到的具均匀性、纳米尺度调控特性等具有特殊构造及功能性的薄膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种面型蒸镀源及其蒸镀方法与系统，尤其是涉及一种可精确控制薄膜品质且可连续大面积化蒸镀，可提高镀率及材料利用率的面蒸镀技术。
技术介绍
多成分薄膜蒸镀技术是光电及半导体技术中，以物理方式形成薄膜的重要方式也是关键技术，若蒸镀成分组成复杂时，例如铜铟镓硒(CIGS)、红绿蓝(RGB)有机发光层等有机材料，其蒸发(升华)温度不同，浓度及掺杂控制不易，不适于高温，且需避免材料裂解或化学反应，共蒸镀技术难以控制组成。此外，有机材料蒸发(升华)分子扩散速率不同，且无一定方向性，因此掺杂控制不易，且材料利用率低，至于溶液预混方式虽然可以精确控制成分组成，但却难以量产。例如有机发光二极管(OLED)制作工艺中有机层发光层，其多种染料的组成为影响发光均勻的关键，也为厂商研究发展及未来竞争利基的所在。传统有机发光二极管(OLED)成膜技术是采用点蒸发源的方式，然而点蒸发源只适用于小尺寸基板(约370X470mm)蒸镀，其材料使用率低(约5 6% )，镀膜速率慢(约 0. 3 0. 8nm/s)，而且单件产品生产时间(Tact time)也较长(约4 5分钟)。针对现有专利而言，美国专利本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
2010.11.26 TW 991410551.一种面型蒸镀方法，包含利用一面型蒸镀源对至少一欲蒸镀基材进行面型蒸镀，该面型蒸镀源包括一蒸镀源基板，该蒸镀源基板具有至少一表面，在该蒸镀源基板至少一表面上披覆蒸镀材料；以及对该面型蒸镀源加热，使该欲蒸镀材料蒸镀于该欲蒸镀基材表面，在该欲蒸镀基材表面形成蒸镀膜。2.如权利要求1所述的面型蒸镀方法，其中该基材所披覆蒸镀材料的区域为汽化后的区域可涵盖多个该欲蒸镀基材。3.如权利要求1所述的面型蒸镀方法，其中该披覆蒸镀材料的蒸镀源基板包含平面、 曲面、平滑面或为粗糙表面。4.如权利要求1所述的面型蒸镀方法，其中该蒸镀源基板所披覆蒸镀材料的区域包含点、线或面分布排列而成。5.如权利要求1所述的面型蒸镀方法，其中该蒸镀源基板为一具有可挠性的材质。6.如权利要求5所述的面型蒸镀方法，其中该披覆有蒸镀材料的蒸镀源基板卷绕形成一面型蒸镀源卷材。该面型蒸镀源卷材设置于一驱动装置，该驱动装置用以将该面型蒸镀源卷材连续送出或间歇式进给送出，以进行连续蒸镀。7.如权利要求1所述的面型蒸镀方法，其中该蒸镀材料为至少一种蒸镀物质组成。8.一种面型蒸镀源，用以对至少一欲蒸镀基材进行蒸镀，该面型蒸镀源包含蒸镀源基板，该蒸镀源基板具有至少一表面；至少一蒸镀材料，披覆于该蒸镀源基板至少一表面上，该蒸镀材料分布的区域为该蒸镀材料汽化后可涵盖该欲蒸镀基材的区域。9.如权利要求8所述面型蒸镀源，其中该基材所披覆蒸镀材料的区域为汽化后的区域可涵盖多个该欲蒸镀基材。10.如权利要求8所述的面型蒸镀源，其中该披覆蒸镀材料的蒸镀源基板包含平面、曲面、平滑面或为粗糙表面。11.如权利要求8所述的面型蒸镀源，其中该蒸镀源基板...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈建志，王庆钧，吴庆辉，董福庆，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：