新的取代的吡唑衍生物制造技术

＊＊＊（Ⅰ）本发明专利技术描述了通式Ⅰ新的取代的吡唑衍生物，它们的制备方法和它们的中间物，以及它们作为除草剂的应用，其中Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］、Ｒ↑［４］、Ｒ↑［５］和Ｒ↑［６］具有说明书中给出的定义。（*该技术在2013年保护过期，可自由使用*）

Novel substituted pyrazole derivatives

* * * (I) described pyrazole derivatives of formula I new substituted, their preparation and their intermediates, and their use as herbicides, where R = 1, R = 2, R = 3, R = 4, R = 5 and R = 6 is given in the specification definition.

【技术实现步骤摘要】
新的取代的吡唑衍生物及其制备方法和作为除草剂的应用的制作方法专利说明 本专利技术涉及新的取代的吡唑衍生物，它们的制备，以及它们的中间体，和它们作为除草剂的应用。 已知1-苯基吡唑类具有除草活性(EP154115)。 然而对于重要作物，这些化合物的除草活性可能不够高或者存在选择性问题。 本专利技术的目的是制备新的、具有比已知化合物更高的生物性质的化合物。 现已发现，通式Ⅰ的取代的吡唑衍生物具有比相关结构的已知化合物更好的除草性质， (Ⅰ) 其中， R1为C1-C4-烷基; R2为C1-C4-烷基、C1-C4-烷硫基、C1-C4-烷氧基，它们每个都可任意由一个或多个卤原子取代，或者 R1和R2一起形成基团-(CH2)m; R3为氢或卤素， R4为氢或C1-C4-烷基， R5为氢、硝基、氰基或基团-COOR7、-C(＝X)NR8R9或-C(＝X)R10， R6为氢、卤素、氰基、C1-C4-烷基(可任意由一个或多个卤素或羟基取代)、C1-C4-烷氧基、苯基(可由一个或多个以下基团任意取代卤素、硝基、氰基、C1-C4-烷基、C1-C4-烷氧基或卤代C1-C4-烷基)、吡咯基，或者为C2-C8-烷基、C3-C8-链烯基、C3-C8-链炔基或C3-C8-烷氧基，它们都可插入一个或多个氧原子，或者为下列基团-NR11R12 -(CH2)a-A，-(CH2)a-O-(CH2)b-R22，-(CH2)a-O-R23或-COR24， R7、R8和R9，可以相同或不同，为氢或C1-C4-烷基，或者 R8和R9与和它们相连的氮原子一起形成一个5或6元饱和碳环， R10为氢或可任意由一个或多个卤原子取代的C1-C4-烷基， R11为氢、C1-C4-烷基、C2-C6-链烯基、C3-C6-链炔基或苯基(它们均可任意由一个或多个卤原子取代)、C3-C8-环烷基、氰基甲基或基团R21CO-， R12为C1-C6-烷基、C2-C6-链烯基、C3-C6-链炔基或苯基(它们每个均可任意由一个或多个卤原子取代)、C3-C8-环烷基、氰基甲基、C1-C4-烷氧基-C1-C6-烷基、二-C1-C4-烷氨基-C1-C4-烷基、四氢糠基甲基、C3-C6-链炔基-氧基-C1-C4-烷基、苄基(可任意由一个或多个以下基团取代卤素、硝基、氰基、C1-C4-烷基、C1-C4-烷氧基或卤代-C1-C4-烷基)，或者为基团-C(＝X)R21、-(CH2)3-(O)d-R28、-(CH2)a-O-(CH2)b-R28或-(CH2)a-X-R34，并且当R5为-C(＝O)R10，和/或当R1为C1-C4-烷基、R2为二氟甲氧基、R3为溴以及R5为硝基或氰基时，R12也可为氢;或者 R11和R12与和它们相连的氮原子一起形成一个3、5或6元饱和的碳环或者芳环，其中一个碳原子可任意由一个氧原子取代， R13为氢、C1-C4-烷基、C2-C6-链烯基或C3-C6-链炔基、或者 R13和R14一起形成基团-(CH2)p， R14和R15可以相同或不同，为C1-C4-烷基、C2-C6-链烯基、C2-C6-链炔基或苯基(它们每个均可任意由一个或多个卤原子取代)、氢、C3-C6-环烷基或基团-XR18或-NR19R20， R16为氢、C1-C6-烷基、C2-C6-链烯基、C3-C6-链炔基、C1-C4-烷基羰基、氰基-C1-C3-烷基、C1-C4-烷氧羰基-C1-C4-烷基、二-C1-C4-烷氧羰基-C1-C4-烷基、苄基、C1-C4-烷氧基-C3-C6-链炔基，或基团-(CH2)a-R33、-(CH2)a-X-R30、-(CH2)a-X-(CH2)b-X-(CH2)c-R30， R17为氢、C1-C4-烷基、C2-C6-链烯基、-C3-C6-链炔基、氰基-C1-C3-烷基、C1-C4-烷基羰基-C1-C3-烷基或苯基， R18为C1-C4-烷基，可任意由一个或多个卤素取代， R19和R20可以相同或不同，为氢或C1-C4-烷基， R21为C1-C4-烷基(可任意由一个或多个卤素取代)、C1-C4-烷氧基-C1-C4-烷基、C1-C4-烷硫基-C1-C4-烷基、C3-C6-环烷基、苯基(可任意由一个或多个以下基团取代卤素、硝基、氰基、C1-C4-烷基、C1-C4-烷氧基或卤代-C1-C4-烷基)，或为基团-NR31R32或-(CH2) -(O)d-R33， R22为C1-C4-烷氧羰基或羧基， R23为氯甲基、氰基甲基、C3-C6-环烷基(可任意插入一个或多个氧原子)，或C1-C4-烷氧羰基-C1-C4-烷基， R24为羟基或基团-NR25R26， A为-NR25R26或-S(O)n-R27， R25和R26可以相同或不同，为氢或C1-C4-烷基， R27为C1-C4-烷基、C1-C4-烷氧羰基-C1-C4-烷基或羧基， R28为氢、羟基、卤素、C1-C4-烷基(可任意由一个或多个C1-C4-烷氧基取代)、C3-C6-环烷基(可任意插入一个或多个氧原子和任意由二甲基取代)、呋喃基、噻吩基或-C(＝O)R29， R29和R30可以相同或不同，为C1-C4-烷基或C1-C4-烷氧基， R31和R32可以相同或不同，为C1-C4-烷基或苯基， R33为C3-C6-环烷基(可任意插入一个或多个氧原子和任意由二甲基取代)、呋喃基、噻吩基或-C(＝O)R29， R34为C1-C4-烷基， a、b和c为1、2或3， d为0或1， m为3或4， n为0、1或2， p为2或3，以及 X为氧或硫。 特别有活性的是如上定义的那些吡唑衍生物，其中 R1为甲基， R2为甲硫基或二氟甲氧基(尤其是二氟甲氧基)，或者 R1和R2一起形成基团-(CH2)4， R3为氢、氯或溴， R4为氢， R5为氢、硝基、氰基或-C(＝X)R10。 在化合物特别优选的基团中，R6为氢、卤素、氰基、C1-C4-烷基、C1-4-烷硫基或-NR11R12，其中R11和R12优选为氢、C1-4-烷基或C1-4-烷氧羰基。 术语“卤素”指氟、氯、溴和碘。 可以理解术语“烷基”、“链烯基”和“链炔基”包括支链以及直链的烃基。 本专利技术还包括通式Ⅱ的中间物、通式Ⅰi的中间物、通式Ⅰj的中间物、通式Ⅰk的中间物、通式Ⅱ的中间物，以及通式Ⅰm的中间物， (Ⅱ)， 其中R1、R2和R3具有在通式Ⅰ中给出的含义， (Ⅰi)， 其中R1和R2具有在通式Ⅰ中给出的含义， (Ⅰj)， 其中R1、R2和R5具有在通式Ⅰ中给出的含义， (Ⅰk)， 其中R1、R2和R6具有在通式Ⅰ中给出的含义， (Ⅰl)， 其中R1、R2和R3具有在通式Ⅰ中给出的含义， (Ⅰm)， 其中R1、R2、R3和R6具有在通式Ⅰ中给出的含义。 本专利技术的通式Ⅰ化合物可由下法制备，其中， A)将通式Ⅱ的化合物与通式Ⅲ的化合本文档来自技高网...

【技术保护点】
通式Ⅰ取代的吡唑衍生物，＊＊＊（Ⅰ）其中，Ｒ↑［１］为Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷基；Ｒ↑［２］为Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷氧基，它们每个都可任意由一个或多个卤原子取代，或者Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］一起形成基团－（ＣＨ↓［２］）↓［ｍ］；Ｒ↑［３］为氢或卤素，Ｒ↑［４］为氢或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷基，Ｒ↑［５］为氢、硝基、氰基或基团－ＣＯＯＲ↑［７］、－Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ↑［８］Ｒ↑［９］或－Ｃ（＝Ｘ）Ｒ↑［１０］，Ｒ↑［６］为氢、卤素、氰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷基（可任意由一个或多个卤素或羟基取代）、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷氧基、苯基（可由一个或多个以下基团任意取代：卤素、硝基、氰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷氧基或卤代Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷基）、吡咯基、或者为Ｃ↓［２］－Ｃ↓［８］－烷基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］－链烯基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］－链炔基或Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］－烷氧基，它们都可插入一个或多个氧原子，或者为下列基团：－ＮＲ↑［１１］Ｒ↑［１２］＊＊＊－（ＣＨ↓［２］）↓［ａ］－Ａ，－（ＣＨ↓［２］）↓［ａ］－Ｏ－（ＣＨ↓［２］）↓［ｂ］－Ｒ↑［２２］，－（ＣＨ↓［２］）↓［ａ］－Ｏ－Ｒ↑［２３］或－ＣＯＲ↑［２４］，Ｒ↑［７］、Ｒ↑［８］和Ｒ↑［９］，可以相同或不同，为氢或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷基，或者Ｒ↑［８］和Ｒ↑［９］与和它们相连的氮原子一起形成一个５或６元饱和碳环，Ｒ↑［１０］为氢或可任意由一个或多个卤原子取代的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷基，Ｒ↑［１１］为氢、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］－链烯基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］－链炔基或苯基（它们均可任意由一个或多个卤原子取代）、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］－环烷基、氰基甲基或基团Ｒ↑［２１］ＣＯ－，Ｒ↑［１２］为Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］－烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］－链烯基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］－链炔基或苯基（它们每个均可任意由一个或多个卤原子取代）、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］－环烷基、氰基甲基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］－烷基、二－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷氨基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷基、四氢糠基甲基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］－链炔基－氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷基、苄基（可任意由一个或多个以...

【技术特征摘要】
DE 1992-10-12 P4234709.2;DE 1993-3-24 P4310091.0;D1、通式Ⅰ取代的吡唑衍生物，(Ⅰ)其中，R1为C1-C4-烷基；R2为C1-C4-烷基、C1-C4-烷硫基、C1-C4-烷氧基，它们每个都可任意由一个或多个卤原子取代，或者R1和R2一起形成基团-(CH2)m；R3为氢或卤素，R4为氢或C1-C4-烷基，R5为氢、硝基、氰基或基团-COOR7、-C(=X)NR8R9或-C(=X)R10，R6为氢、卤素、氰基、C1-C4-烷基(可任意由一个或多个卤素或羟基取代)、C1-C4-烷氧基、苯基(可由一个或多个以下基团任意取代卤素、硝基、氰基、C1-C4-烷基、C1-C4-烷氧基或卤代C1-C4-烷基)、吡咯基、或者为C2-C8-烷基、C3-C8-链烯基、C3-C8-链炔基或C3-C8-烷氧基，它们都可插入一个或多个氧原子，或者为-(CH2)a-A，-(CH2)a-O-(CH2)b-R22，-(CH2)a-O-R23或-COR24，R7、R8和R9，可以相同或不同，为氢或C1-C4-烷基，或者R8和R9与和它们相连的氮原子一起形成一个5或6元饱和碳环，R10为氢或可任意由一个或多个卤原子取代的C1-C4-烷基，R11为氢、C1-C4-烷基、C2-C6-链烯基、C3-C6-链炔基或苯基(它们均可任意由一个或多个卤原子取代)、C3-C8-环烷基、氰基甲基或基团R21CO-，R12为C1-C6-烷基、C2-C6-链烯基、C3-C6-链炔基或苯基(它们每个均可任意由一个或多个卤原子取代)、C3-C8-环烷基、氰基甲基、C1-C4-烷氧基-C1-C6-烷基、二-C1-C4-烷氨基-C1-C4-烷基、四氢糠基甲基、C3-C6-链炔基-氧基-C1-C4-烷基、苄基(可任意由一个或多个以下基团取代卤素、硝基、氰基、C1-C4-烷基、C1-C4-烷氧基或卤代-C1-C4-烷基)，或者为基团-C(=X)R21、-(CH2)a-(O)d-R28、-(CH2)3-O-(CH2)b-R28或-(CH2)4-X-R34，并且当R5为-C(=O)R10，和/或当R1为C1-C4-烷基、R2为二氟甲氧基、R3为溴以及R5为硝基或氰基时，R12也可为氢；或者R11和R12与和它们相连的氮原子一起形成一个3、5或6元饱和的碳环或者芳环，其中一个碳原子可任意由一个氧原子取代，R13为氢、C1-C4-烷基、C2-C6-链烯基或C3-C6-链炔基、或者R13和R14一起形成基团-(CH2)p，R14和R15可以相同或不同，为C1-C4-烷基、C2-C6-链烯基、C3-C6-链炔基或苯基(它们每个均可任意由一个或多个卤原子取代)、氢、C3-C6-环烷基或基团-XR18或-NR19R20，R16为氢、C1-C6-烷基、C2-C6-链烯基、C3-C6-链炔基、C1-C4-烷基羰基、氰基-C1-C3-烷基、C1-C4-烷氧羰基-C1-C4-烷基、二-C1-C4-烷氧羰基-C1-C4-烷基、苄基、C1-C4-烷氧基-C3-C6-链炔基、或基团-(CH2)a-R33、-(CH2)4-X-R10、-(CH2)4-X-(CH2)b-R30或-(CH2)a-X-(CH2)b-X-(CH2)c-R30，R17为氢、C1-C4-烷基、C2-C6-链烯基、-C3-C6-链炔基、氰基-C1-C3-烷基、C1-C4-烷基羰基-C1-C3-烷基或苯基，R18为C1-C4-烷基，可任意由一个或多个卤素取代，R19和R20可以相同或不同，为氢或C1-C4-烷基，R21为C1-C4-烷基(可任意由一个或多个卤素取代)、C1-C4-烷氧基-C1-C4-烷基、C1-C4-烷硫基-C1-C4-烷基、C3-C6-环烷基、苯基(可任意由一个或多个以下基团取代卤素、硝基、氰基、C1-C4-烷基、C1-C4-烷氧基或卤代-C1-C4-烷基)，或为基团-NR31R32或-(CH2)a-(O)d-R33，R22为C1-C4-烷氧羰基或羧基，R23为氯甲基、氰基甲基、C3-C6-环烷基(可任意插入一个或多个氧原子)或C1-C4-烷氧羰基-C1-C4-烷氧，R24为羟基或基团-NR25R26，A为-NR25R26或-S(O)n-R27，R25和R26可以相同或不同，为氢或C1-C4-烷基，R27为C1-C4-烷基、C1-C4-烷氧羰基-C1-C4-烷基或羧基，R28为氢、羟基、卤素、C1-C4-烷基(可任意由一个或多个C1-C4-烷氧基取代)、C3-C6-环烷基(可任意插入一个或多个氧原子和任意由二甲基取代)、呋喃基、噻吩基或-C(=O)R29，R29和R30可以相同或不同，为C1-C4-烷基或C1-C4-烷氧基，R31和R32可以相同或不同，为C1-C4-烷基或苯基，R33为C3-C6-环烷基(可任意插入一个或多个氧原子和任意由二甲基取代)、呋喃基、噻吩基或-C(=O)R29，R34为C1-C4-烷基，a、b和c为1、2或3，d为0或1，m为3或4，n为0、1或2，p为2或3，以及X为氧或硫。2、根据权利要求1的取代的吡唑基衍生物，其中，R1为甲基，R2为甲硫基或二氟甲氧基(尤其是二氟甲氧基)，或者R1和R2一起形成基团-(CH2)4，R3为氢、氯或溴，R4为氢，R5为氢、硝基、氰基或-C(＝X)R10。3、根据权利要求1或2的取代的吡唑基衍生物，其中R6为氢、卤素、氰基、C1-C4-烷基、C1-4-烷硫基或-NR11R12。4、根据权利要求3的取代的吡唑基衍生物，其中R11和R12可以相同或不同，为氢、C1-4-烷基或C1-4-烷氧羰基。5、通式Ⅱa的化合物(Ⅱa)，其中，R1、R2和R3具有权利要求1的通式Ⅰ中给出的含义，作为制备权利要求1中要求的化合物的中间物。6、通式Ⅰi的化合物(Ⅰi)，其中R1和R2具有权利要求1的通式Ⅰ中给出的含义，作为制备权利要求1中要求的化合物的中间物。7、通式Ⅰj的化合物(Ⅰj)其中，R1、R...

【专利技术属性】
技术研发人员：G多夫迈斯特，H弗兰克，J盖斯勒，U哈特菲尔，J波纳，R里斯，
申请(专利权)人：先灵公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]