吲哚衍生物制造技术

公开一种用作电荷输送剂的新型化合物，其具有高载流子迁移率，确保在形成感光层过程中没有析出晶体或没有形成小孔的情况下，稳定地形成感光层，此外，能够生产具有高感光度和低残余电位的电子照相用有机感光体。由下述通式(1)表示的吲哚衍生物。在通式(1)中，R1和R2为烷基，k表示0至3的整数，j表示0至4的整数，环Z表示5至6元环和特别是环戊烷环，以及X1和X2表示具有至少一个烯键式不饱和键的烃基。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有高载流子迁移率的吲哚衍生物和用作用于电子照相用感光材料的电荷输送剂。
技术介绍
作为无机光导电性材料，已知无定形硅、无定形硒、硫化镉和氧化锌等。通过使用此类无机光导电性材料形成的无机感光材料已广泛地应用于电子照相领域。然而，硒和硫化镉必须作为有毒物质回收，硒由于其通过加热结晶化而具有不良的耐热性，硫化镉和氧化锌具有不良的耐湿性，和氧化锌具有不良的耐印刷性。因而，作为光导电性材料，包括其上设置有包含电荷产生剂和电荷输送剂的有机感光层的导电性基材的有机感光材料目前变为主流。作为有机感光材料，已知其中形成于导电性基材上的感光层包含分散于树脂粘结剂中的电荷产生剂和电荷输送剂的单层型中的一种，以及其中感光层包括包含分散于树脂粘结剂中的电荷产生剂的电荷产生层和包含分散于树脂粘结剂中的电荷输送剂的电荷输送层的层压型中的一种。每一类型的有机感光材料具有以下优点它的重量比无机感光材料轻，并能够使得感光层容易地形成，此外还提供它几乎不影响环境的优点。在上述电子照相用有机感光材料中，所述电荷输送剂必须满足诸如当施加电场时在用光照射时有效地接收由电荷产生剂产生的载流子(正电荷或负电荷)，迅速地使载流子在感光层中迁移和迅速地使电荷在感光层表面上消失的性质。每单位电场的载流子的迁移速率称为载流子迁移率，并且高载流子迁移率是指载流子在感光层中(或在电荷输送层中)迅速的迁移。载流子迁移率对于用作电荷输送剂的化合物是特定的。因而，作为电荷输送剂，需要使用具有高载流子迁移率的化合物。此外，电荷输送剂和电荷产生剂通过与树脂粘结剂一起溶解在有机溶剂中并施涂和干燥(有机溶剂的去除)来形成感光层。因而，电荷输送剂必须满足诸如形成均质的感光层而没有析出晶体和没有形成小孔的性质。如果晶体局部析出或小孔形成于感光层中， 则介电击穿在该部分发生，和当通过电子照相法形成图像时发生图像缺陷。如上所述，电荷输送剂必须满足各种性质。迄今提出多种化合物作为电荷输送剂 (参见专利文献1至14)。特别地，专利文献15和16提出由特定通式表示的吲哚衍生物作为电荷输送剂。这些中，专利文献16公开由下式表示的吲哚衍生物作为电荷输送剂使用。权利要求1.一种吲哚衍生物，其由下述通式(1)表示，X2(1)2.根据权利要求1所述的吲哚衍生物，其中在所述通式(1)中，所述环Z为具有碳原子作为环构成原子的5元环。3.根据权利要求2所述的吲哚衍生物，其中在表示所述基团X1的通式(Ia)中，m为0， 在表示所述基团X2的通式(Ib)中，η为0。4.根据权利要求2所述的吲哚衍生物，其中在表示所述基团X1的通式(Ia)中，m为0， 在表示所述基团X2的通式(Ib)中，η为1。5.根据权利要求2所述的吲哚衍生物，其中在所述通式(1)中，k和j为0。6.一种电荷输送剂，其包括根据权利要求1所述的吲哚衍生物。7.一种电子照相用有机感光材料，其包括设置在导电性基材上的有机感光层，所述有机感光层包含根据权利要求1所述的吲哚衍生物作为电荷输送剂。8.根据权利要求7所述的电子照相用有机感光材料，其中所述有机感光层为层压型感光层，所述层压型感光层包括其中将所述电荷产生剂分散在树脂粘结剂中的电荷产生层和其中将所述电荷输送剂分散在树脂粘结剂中的电荷输送层。9.根据权利要求7所述的电子照相用有机感光材料，其中所述有机感光层为其中将所述电荷产生剂和所述电荷输送剂分散在树脂粘结剂中的单层型感光层。全文摘要公开一种用作电荷输送剂的新型化合物，其具有高载流子迁移率，确保在形成感光层过程中没有析出晶体或没有形成小孔的情况下，稳定地形成感光层，此外，能够生产具有高感光度和低残余电位的电子照相用有机感光体。由下述通式(1)表示的吲哚衍生物。在通式(1)中，R1和R2为烷基，k表示0至3的整数，j表示0至4的整数，环Z表示5至6元环和特别是环戊烷环，以及X1和X2表示具有至少一个烯键式不饱和键的烃基。文档编号G03G5/06GK102471263SQ20108003278公开日2012年5月23日 申请日期2010年7月21日 优先权日2009年7月28日专利技术者中岛丈博, 井原清贵, 小池真琴, 沼泽成能, 阿部胜美 申请人:保土谷化学工业株式会社本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：沼泽成能，阿部胜美，井原清贵，中岛丈博，小池真琴，
申请(专利权)人：保土谷化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：