光矩阵设备的制造方法技术

根据本发明专利技术的光矩阵设备的制造方法，在形成印刷图案的作为基底层的绝缘膜(2)上形成促进被印刷涂布的液滴(7)延伸的延伸促进图案(PS)，因此液滴(7)沿着延伸促进图案(PS)延伸。并且，在印刷图案的末端部以与印刷图案、即延伸促进图案(PS)相交叉的方式将延伸抑制图案(PH)形成在绝缘膜(2)上，因此沿着延伸促进图案(PS)延伸的液滴(7)由于延伸抑制图案(PH)而停止延伸。由此，能够高精确度地进行作为液体的液滴(7)的位置控制。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种被用作电视、个人计算机的监视器的薄型图像显示装置、或者在医疗领域、工业领域等使用的放射线摄像装置所具备的放射线检测器等，并且该光矩阵设备具有将由显示元件或受光元件形成的像素排列成二维矩阵状的结构。
技术介绍
目前，广泛应用着将与光有关的元件排列成二维矩阵状的光矩阵设备，该与光有关的元件具备由薄膜晶体管(TFT)等形成的有源元件和电容器。作为与光有关的元件，列举有受光元件和显示元件。另外，如果大致区分该光矩阵设备，则分为由受光元件构成的设备和由显示元件构成的设备。作为由受光元件构成的设备，有光摄像传感器、在医疗领域或工业领域等使用的放射线摄像传感器等。作为由显示元件构成的设备，有具备调节透射光强度的元件的液晶型、具备发光元件的EL型等的被用作电视、个人计算机的监视器的图像显示器。在此，光是指红外线、可见光线、紫外线、放射线(X射线)、Y射线等。近年来，作为这种光矩阵设备所具备的有源矩阵基板的配线等的形成方法，正在积极地研究使用印刷法的方法，尤其关注使用喷墨法的方法。不仅有源矩阵基板的栅极线、 数据线等配线，栅极沟道等半导体膜也能够通过喷墨法来形成。与以往的光刻法不同本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：足立晋，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：