超微细分散液的制造方法技术

技术编号:735821 阅读:162 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种超微细分散液的制造方法,主要包括以下步骤:    (A)将至少一分散剂溶于一液体载体中,同时加入一基质搅拌均匀以得一混合液;其中该分散剂的平均亲疏平衡(HLB)值与该基质的HLB值的差值小于或等于3,且该基质的重量百分比为该混合液的0.1-70%之间,该分散剂的重量百分比为该混合液的0.1-30%之间;    (B)将该混合液与一研磨介质导入一研磨设备中进行研磨以得一分散液,并研磨至该分散液内的该基质的粒径介于10-100μm之间;其中该研磨介质的粒径介于100-400μm之间;以及    (C)将该分散液中的该研磨介质分离。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术是关于一种,尤指一种适用于色料、有机化合物、金属或金属氧化物、医药用化合物等领域的湿式研磨微粒化分散方法。
技术介绍
微粒化技术为许多产业生产制造的关键技术,其中以湿式研磨方法为一相对经济的制程,并可应用在不同的材料上。湿式研磨为传统的微粒化分散方式,其微粒化的技术及产品具有很大的工业应用范围。举例来说,色料的分散液被广泛的应用在油漆、油墨、涂颜料、工业染色等许多领域上。而由技术的改良,湿式研磨的微粒化方式已可分散材料到纳米尺度,例如使用不同设计的分散设备、不同种类结构的分散助剂、以及使用不同种类及大小的研磨介质。就研磨介质而言,一般公知欲分散到更小的颜料粒径则须使用更小的研磨介质。然而越小的研磨介质且具备适当特性的研磨介质则来源有限,不似大的研磨介质价格便宜、取得容易。而微小并具备适当特性的研磨介质除了取得不易之外,在分离时又会造成阻塞,且直径小于0.1mm的研磨介质因分离间隙或网筛无法有效地将其隔离和限定在研磨槽中,所以又无法使用在卧式或立式循环式的分散系统中。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种,能将颜料粒子分散到更小,以增加其色彩饱和度及穿透度。本专利技术的另一目的在于提供一种,能以一种较简化的研磨程序,且可采用较大的研磨介质,来分散颜料粒子到纳米级的细度,同时使成本降低。为实现上述目的,本专利技术提供的,主要包括以下步骤(A)将至少一分散剂溶于一液体载体中,同时加入一基质搅拌均匀以得一混合液;其中该分散剂的平均亲疏平衡(HLB)值与该基质的HLB值的差值小于或等于3,且该基质的重量百分比为该混合液的0.1-70%之间,该分散剂的重量百分比为该混合液的0.1-30%之间;(B)将该混合液与一研磨介质导入一研磨设备中进行研磨以得一分散液,并研磨至该分散液内的该基质的粒径介于10-100μm之间;其中该研磨介质的粒径介于100-400μm之间;以及(C)将该分散液中的该研磨介质分离。其中该基质选自由有机化合物、金属、金属氧化物、有机颜料、无机颜料、染料或医药用化合物所组成的群组。其中该基质的重量百分比为介于该混合液重量的1-40%之间。其中该分散剂的重量百分比为介于该混合液重量的1-20%之间。其中该液体载体为水或包含水溶性溶剂的水溶液。其中该水溶性溶剂为选自由醇类、醚类、酮类或酯类所组成的群组。其中该研磨介质的材料选自由高分子数脂、陶瓷、玻璃、金属或不锈钢所组成的群组。其中该陶瓷材料为氧化钇或氧化锆。其中于步骤(C)之前或之后还包含一步骤(C)′将该分散液稀释到需求的浓度。其中该研磨设备为立式或卧式研磨设备。其中该研磨设备选自由空气式研磨机airjet mill、滚轮研磨机rollermiller、attritor mill、震动式研磨机vibratory mill、行星式研磨机planetarymill、沙磨机sand mill、珠磨机bead mill、小球磨机pebble mill、细质研磨机fine media mill或shot mill所组成的群组。具体实施例方式本专利技术,其基质种类无限制,可以是有机化合物、金属、金属氧化物、有机颜料、无机颜料、染料、或是医药用化合物。本专利技术中,基质(待分散物质)所占的重量百分比较佳为介于混合液重量的0.1-70%之间,更佳为介于混合液重量的1-40%之间。本专利技术中,分散剂所占的重量百分比较佳为介于混合液重量的0.1-30%之间,更佳为介于混合液重量的1-20%之间。本专利技术所使用的液体载体可为水或包含一种以上水溶性溶剂的水溶液,较佳为水,其使用的水溶性溶剂无限制,可以是醇类、醚类、酮类或酯类。本专利技术所使用的研磨介质,其材料无限制,可以是高分子数脂、陶瓷、玻璃、金属或不锈钢,较佳为陶瓷或高分子数脂,其陶瓷材料更佳为氧化钇或氧化锆。本专利技术于步骤(C)将研磨介质由分散液分离出之前或之后,可视需要地包含步骤(C)′将该分散液稀释到需求的浓度,或是步骤(C)″加入其他添加剂或助剂,以调配分散液到接近应用产品所需的物理、化学特性。本专利技术,其使用的研磨设备无限制,可以是立式或卧式研磨设备,如airjet mill、roller miller、attritor mill、vibratory mill、planetary mill、sand mill、bead mill、pebble mill、fine media mill或是shot mill。本专利技术适用的分散剂种类无限制,一般界面活性剂专书与论文中提到的各类型界面活性剂如阴离子型、阳离子型及非离子型或是高分子型的界面活性剂,或者是前述四种型式的界面活性剂任意组合的混合物符合前述分散要件者均适用,较佳为聚丙烯酸Polyacrylate,磺化芳香基醛缩合物Formaldehyde condensates of sulfonatedaromatic compounds,聚乙氧基轻基或芳基Conventional alkyl or alkrylpolyethoxylates,聚胺基甲醛Polyurethane type,核-壳型聚合物Core-shellPolymer,聚酯Polyester,聚氨基酸Polyamino acid dispersant,团块共聚物Block copolymer,光交联型聚合物Photo-crosslinkable polymeric dispersant,星形聚合物Star polymer,聚合物分散剂Polymeric dispersant,寡聚合物Oligomeric dispersant,聚胺/聚脂肪酸缩合物Polyamine/fatty acidcondensation polymeric dispersant,改质聚丙烯胺Modified acrylamideoligomer dispersant,更佳为Polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester,Octylphenol polyethylene glycol ether,Fatty alcohol polyethylene glycol ether,Polyoxypropylene polyoxyethylene ether,Fatty acid polyethylene glycol ether,Castol oil polyethylene glycol ether,Sulfosuccinate monoester,di-octylsulfouccinate,dodecyl benzene sulfonate,naphthalene formaldehyde condesate,miscellaneous dialkyl ammonium methosulfate,polyoxethylene alkyl ether,polythylene glycol fatty acid,amine ethoxylate,polyoxylethylene di-styrenatedphenol,Nonyl phenyl ether phosphate,Polyoxyethylene di-styrenated cresol,Condensated arylsulfonic aci本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员:简维谊徐敬添蔡书雅邹淑贞
申请(专利权)人:财团法人工业技术研究院
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1